JPS5834472B2 - エステル化合物の製法 - Google Patents

エステル化合物の製法

Info

Publication number
JPS5834472B2
JPS5834472B2 JP4167079A JP4167079A JPS5834472B2 JP S5834472 B2 JPS5834472 B2 JP S5834472B2 JP 4167079 A JP4167079 A JP 4167079A JP 4167079 A JP4167079 A JP 4167079A JP S5834472 B2 JPS5834472 B2 JP S5834472B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
dimethyl
dichlorobenzoyl
atom
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP4167079A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS55363A (en
Inventor
卓男 此常
克彦 川久保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sankyo Co Ltd filed Critical Sankyo Co Ltd
Priority to JP4167079A priority Critical patent/JPS5834472B2/ja
Publication of JPS55363A publication Critical patent/JPS55363A/ja
Publication of JPS5834472B2 publication Critical patent/JPS5834472B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 (式中R1およびR2は低級アルキル基を示す。
Xはハロゲン原子またはニトロ基を示す。
nは1または2を示し、nが2のときXは互いに同一ま
たは相異なってもよい。
Yは酸素原子または硫黄原子を示す。
Zは脂肪族、脂環族もしくは芳香族カルボン酸、カルバ
ミン酸、スルホン酸、チオ燐酸ジエステル、炭酸もしく
はチオ炭酸モノエステル、三塩基性酸及び式 (式中、RIOは水素原子またはハロゲン原子を示す。
)を有する酸から選ばれた有機酸の残基を示す。
)を有する新規な有機酸エステル化合物の製法に関する
ものである。
前記一般式(I)において、R1及びR2は好適には水
素原子;メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル
、n−ブチル、イソブチル、secブチル、tert−
7”チル、n−ペンチル、インペンチル、5ee−アミ
ル、2−メチルブチル、tertアミル、n−ヘキシル
、2−ヘキシル、2−メチルペンチル、3−メチルペン
チル、4−メチルペンチル、3−ヘキシル、2−エチル
ブチル、2メチル−2−ペンチルまたは2・2−ジメチ
ルフチルのような炭素数1ないし6個、特に1ないし3
個を有する直鎖状または分枝鎖状の低級アルキル基を示
す。
Xは好適には、塩素、臭素、弗素または沃素のようなハ
ロゲン原子またはニトロ基前記一般式(I)の有機酸エ
ステルはピラゾール環の5位において形成され、分解に
より一般式(式中、R1、R2、X、Yおよびnは前述
したものと同意義を示す。
)を有する化合物を生成する有機酸とのエステルであれ
ばよい。
このような有機酸としては、 (1) 脂肪族、脂環族または芳香族カルボン酸、例
えば 式 上記式中、R3はメチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル
、ヘプチル、ウンデシル、テトラデシルまたはヘプタデ
シルのような炭素数1ないし17個を有する直鎖状また
は分枝鎖状のアルキル基;クロロメチル、フロモメチル
、ヨードメチル、2・2・2−トリクロロエチル、2・
2−ジブロモエチル、2・2・2− ) リフ”ロモエ
チル、2−ヨードエチル、2・2−ショートエチルまた
は1・1・2・2−テトラフロロエチルのような工ない
し4個のハロゲンが置換した炭素数1ないし4個、特に
1または2個を有する低級アルキル基;ビニル、イソプ
ロペニル、プロペニル、アリル、1−メチル−2−プロ
ペニル、2−メチル−2−プロペニル、2−7”テニル
、■−メチルー2−ブテニル、2−メチル2−ブテニル
、3−7”テニル、1−メチル3−フチニル、2−メチ
ル−3−ブテニル、2−へブテニル、2−ウンデセニル
、2−テトラデセニル、2−へブタデセニル、3−へブ
タデセニルまたは8・11−へブタデカジェニルのよう
な炭素数1ないし17個、特に3ないし5個を有する直
鎖状または分枝鎖状のアルケニル基;シクロペンチル、
シクロヘキシルまたはシクロヘプチルのような5員環な
いし7員環のシクロアルキル基;フェニル、2−ニトロ
フェニル、4−二トロフェニル、2−トリル、3−トリ
ル、4−)リル、2−クロロフェニル、4−クロロフェ
ニル、2−フロモフェニル、4−フロモフェニル、2・
4−ジクロロフェニル、2・4・6−トリクロロフエニ
ルまたは2−クロロ4−ニトロフェニルのヨウナニトロ
、ハロゲンおよび(または)炭素数1ないし4個、特に
1個を有するアルキル基を置換外として工ないし3個有
するか有しないフェニル基:ベンジル、フェネチル、フ
ェニルプロピル、フェニルフチル フェニルペンチル、
4−ニトロベンジル、4−ニトロフェネチル、2−クロ
ロベンジル、4−クロロフェネチル、2−7”ロモベン
ジル、4−ブロモフエネチル、3−(2・4−ジクロロ
フェニル)フロビルまfM4−(2・4・6トリクロロ
フエニル)ブチルのようなフェニル部分にニトロおよび
(または)ハロゲンを置換分として1ないし3個を有す
るか有せず、アルキル部分が炭素数1ないし5個特に1
または2個であるフェニルアルキル基ニスチリル基;ま
たはフェノキシメチル、2・4−ジクロロフェノキシメ
チル、2−メチル−4−クロロフェノキシメチルまたは
4−クロロフェノキシプロピルのようなフェニル部分に
ハロゲンおよび(または)メチルを置換分として1また
は2個を有するか有せず、アルキル部分が炭素数1ない
し3個であるフェノキシアルキル基を示す。
(2)カルバミン酸、例えば 式 上記式中R4およびR5はメチル、エチル、nプロピル
、イソプロピル、n−ブチルまたはイソブチルのような
炭素数1ないし4個を有する直鎖状または分校鎖状の低
級アルキル基またはR4とR5が共同してペンタメチレ
ン基を示す。
(3)スルホン酸、例えば 式 上記式中R6はメチル、エチル、n−プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチルまたはイソブチルのような炭素数1
ないし4個を有する直鎖状または分枝鎖状の低級アルキ
ル基;クロロメチル、ブロモメチル、ヨードメチル、ト
リフルオロメチル、1−クロロエチル、1−ブロモエチ
ルまたはl・1−ジクロロエチルのような1ないし3個
のハロゲンが置換した炭素数1ないし3個特に1または
2個を有する低級アルキル基:あるいはメチル、エチル
、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチ
ルまたはドデシルのような炭素数1ないし12個特に1
または2個を有する直鎖状または分枝鎖状のアルキルま
たはクロロのようなハロゲンを置換分とて有するか有し
ないフェニル基を示す。
(4)チオ燐酸ジエステル、例えば 式 上記式中R7は同一または異なりメチル、エチル、n−
プロピル、イソプロピル、n−ブチルまたはイソブチル
のような炭素数1ないし4個を有する直鎖状または分枝
鎖状の低級アルキル基を示す。
(5)炭酸またはチオ炭酸モノエステル、例えば式 上記式中R8はメチル、エチル、n−プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、イソブチルまたは5ec−ブチル
のような炭素数1ないし4個を有する直鎖状または分校
鎖状の低級アルキル基;フェニル基;またはベンジル、
フェネチル、4−ニトロベンジル、2−クロロベンジル
、4−クロロフェネチル、2−7”ロモベンジル、2・
4−ジクロロベンジルまたは2・4・6−トリクロロベ
ンジルのようなフェニル部分ニニトロおよび(または)
ハロゲンを置換分として1ないし3個を有するか有せず
、アルキル部分が炭素数1または2個を有するフェニル
アルキル基を示す。
Yは酸素原子または硫黄原子を示す。(6)三塩基性酸
、例えば 式 上記式中mはOまたは1を示し、Roはメチレン、エチ
レン、トリメチレン、テトラメチレン、オクタメチレン
またはデカメチレンのような炭素数1ないし10個のア
ルキレン基;ビニレン基;または0−lm−もしくはp
−フェニレン基を示す。
またはRoを欠いて直接結合していてもよい。
あるいは、(7)式 上記式中RIOは水素原子またはハロゲン原子を示す。
本発明の方法によって得られる前記一般式(I)を有す
る有mエステルは除草剤として用いられ、雑草を白化せ
しめ枯死に至らしめる特徴を有する。
ぶ※ 前記一般式(I)において、すぐれた除草効果を
示す化合物は、R1およびR2が炭素数1ないし3個を
有する直鎖状または分枝鎖状の低級アルキル基特にメチ
ル基を示し、Xがハロゲン原子特にクロル原子またはニ
トロ基を示し、nは1または2を示し、特にXnが2・
4−ジクロロまたは2クロロ−4−二トロである場合が
好適である。
Yは酸素原子を示す。
また特に好適な有機酸エステルの有機酸は前述した脂肪
族、脂環族または芳香族カルボン酸、スルホン酸、炭酸
またはチオ炭酸モノエステルおよび三塩基性酸である。
本発明の方法によれば前記一般式(I)を有する有機酸
エステル(I)は次式に示すように式(n)の化合物に
アシル化剤を反応させることにより製造することができ
る。
(式中R1、R2、X、Yおよびnは前述したものと同
意義を示し、2は有機酸残基を示す。
)上記の反応は溶剤の存在下で好適に行なわれる。
使用される溶剤としては本反応に関与しなげれば特に限
定はな(、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル−ジオキサンまたはテトラヒドロ
ンラン−ジオキサンのようなエーテル類またはこれらの
混合溶剤;ベンゼン、トルエンまたはキシレンのような
芳香族炭化水素類ニジクロロメタン、クロロホルムまた
は四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類等があげら
れ、特に芳香族炭化水素類およびエーテル類が好適に使
用される。
また、使用されるアシル化剤は、酸クロライド、酸ブロ
マイドのようなアシルハライド;1・3−ジシクロへキ
シルカルボジイミドのようなカルボジイミドの存在下に
おけるカルボン酸;または酸無水物、好適にはアシルク
ロライドであり、脱酸剤の存在下行なわれる。
反応温度は特に限定はなく、室温乃至溶剤の還流温度で
行なわれる。
反応時間は主に反応温度、使用される試薬の種類によっ
て異なるが約1乃至24時間である。
(1)前記一般式(n)を有する化合物のうち、Yが酸
素原子である5−ヒドロキシピラソール誘導体(V)は
、次式に示すように、5−ピラゾロン誘導体(III)
に触媒の存在下、アシルハライド(IV)を反応させる
ことによって容易に製造される。
(式中R1、R2、Xおよびnは前述したものと同一で
ある。
)(2)また前記一般式(n)を有する化合物は、次式
に示すように、相当する5−ハロゲノピラゾ☆☆ −ル誘導体(VI)を水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムのようなアルカリ金属水酸化物あるいは水硫化ナトリ
ウムのようなアルカリ金属水硫化物と加熱することによ
り得られる。
(式中R1、R2、X、Yおよびnは前述したものと同
意義を示す。
)次に実施例および参考例をあげて本発明の方法を更に
具体的に説明するが本発明はこれによって限定されるも
のではない。
実施例 1 1 ・3−ジメチル−4−(2−クロロベンソイル)−
5−アセトキシピラゾール ト3−ジメチル−4−(2−クロロベンゾイル)−5−
ヒドロキシピラゾール1.25Pをベンゼン20m1お
よびトリエチルアミン0.51fの混液に溶解した後、
室温で攪拌しながらアセチルクロライド0.4Pを滴下
した。
滴下終了後、室温で3時間攪拌した。
反応終了後、反応混合物に水を加えて塩を溶解し、有機
層を分取した。
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶剤を留去し、
得られる油状物をn−へキサンより結晶化すると粗結晶
が得られたつこのものをメタノールより再結晶すると融
点78〜79℃を有する無色プリズム状晶の目的化合物
1.205’が得られた。
収率82.2% 元素分析値(%) C14H13CIN203 とし
て計算値C,57,45;R14,48;N、 9.5
7:C1112,11 実験値C157,50;H,4,45;N19.61
;CL 12.23 赤外吸収 Nujol !/。
−Q 1793cm’実施例 2 ■ ・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイ
ル)−5−ラウロイルオキシピラシールド3−シ、lチ
ル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル)−5−ヒドロ
キシピラゾール0.285 fをベンゼン10m1に溶
解した後、トリエチルアミンQ、 2mlを加え、水冷
攪拌下ラウロイルクロライド0.27Pをベンゼン5m
lに溶解した溶液を滴下し、滴下終了後、室温で19時
間攪拌した。
反応終了後、反応混合物にエーテルを加え、次いで水、
IN−塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和
食塩水の順で順次洗浄した。
次いで反応混合物を無機硫酸ナトリウムで乾燥後、反応
混合物より溶剤を留去し、得られる残留物をドライアイ
ス冷却下、n−ヘキサンより再結晶すると融点56℃を
有する白色結晶の目的化合物0.46Pが得られた。
収率98.0%元素分析値(%) C24H3□C1
□N2O3として計算値C161,66;H,6,90
;N、 5.99;C1,15,17 実験値C161,27;H16,94;N、5.84;
C1,15,11 赤外吸収 Nujol v 。
−=01790CrfL’実施例 3 1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル
)−5−クロロアセトキシピラゾールト3−ジメチル−
4−(2・4−ジクロロベンゾイル)−5−ヒドロキシ
ピラゾール0.2851をベンゼン10m1およびトリ
エチルアミン0.2mlの混液に溶解した後、水冷攪拌
下、クロロアセチルクロライド0.18fをベンゼン5
7711に溶解した溶液を滴下し、滴下終了後室温で2
時間攪拌した。
反応終了後、反応混合物にエーテル30r/Llを加え
、次いで水50rrLl×3回で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。
次いで反応混合物より溶剤を留去し、得られる残留物を
n−ヘキサンより再結晶すると融点120〜122℃を
有する白色結晶の目的化合物0.297rが得られた。
収率82.0% 元素分析値(%) C14H1□C13N203とし
て計算値C,46,50;H,3,07;N、7.25
;C1,29,41 実験値C,46,25;H13,08;N、 7.81
;CL 29.32 赤外吸収 Nujol v 。
==Q 1790crn−1上記実施例1乃至実施例3
の方法に準じて次の化合物が製造された。
■・3−ジメチル−4−(2−クロロベンゾイル) −
5−(N −N−ジメチルカルバモイルオキシ)−ピラ
ゾール m、p、115〜1168C 1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル
)−5−ステアロイルオキシピラゾールm、p、57〜
6FC 1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル
)−5−クロトニルオキシピラゾールm、p、87〜8
9℃ 1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル
)−5−ベンゾイルオキシピラゾールm、p、138〜
139℃ 1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル
)−5−アセトキシピラゾール m、p、81〜82℃ ■・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル
)−5−アセチルチオピラゾール17.5 rJ) 1.5890 1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル
)−5−プロピオニルオキシピラゾールm、p、48℃ 1、・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイ
ル)−5−インブチリルオキシピラゾールm、p、10
1〜102℃ ■・3−−)メfルー4−(2・4−ジクロロベンゾイ
ル)−5−リルイルオキシピラゾール19.8 rJ) 1.5196 ■・3−ジメチル−4−(2−クロロ−4−二トロベン
ゾイル)−5−ベンゾイルオキシヒラソール m、p、163℃ 1・3−ジメチル−4−(2−クロロ−4−ニトロベン
ソイル)−5−(4−クロロベンゾイルオキシ)ピラゾ
ール m、p、194℃ 1・3−ジメチル−4−(2−クロロ−4−二トロベン
ゾイル)−5−(2−クロロ−4−二トロベンゾイルオ
キシ)ピラゾール m、p、182〜184°C 1・3−ジメチル−4−(2−クロロ−4−ニトロベン
ゾイル)−5−シンナモイルオキシピラゾール m、p、164℃ ビス〔1・3−ジメチル−4−(2−クロロ4−ニトロ
ベンゾイル) −5−ヒラソリル〕サクシネート m、p、203℃ l・3−ジメチル−4−(2−クロロ−4−ニトロベン
ゾイル)−5−アセトキシピラゾールm、p、133℃ 1・3−ジメチル−4−(2−クロロ−4−ニトロベン
ゾイル) −5−ヒバロイルオキシピラゾール m、p、157〜158℃ 1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル
)−5−フェニルアセトキシピラゾールm、p、74〜
76℃ 1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル
)−5−(4−クロロフェニルアセトキシ)ピラゾール m、p、 130〜13 FC ■・3−ジメチル−4−(4−ニトロベンゾイル)−5
−アセトキシピラゾール m、p、179〜180℃ 1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンソイル
)−5−シクロヘキシル力ルポニルオキシシピラゾール m、p、98〜99℃ 1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンソイル
)−5−(2・4−ジクロロフェノキシアセトキシ)ピ
ラゾール m、p、 107〜108℃ 1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル
)−5−(2・4−ジクロロベンツイルオキシ)ピラゾ
ール m、p、168〜169℃ 実施例 4 ■・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル
)−5−ビラゾリルメタンスルホネート ト3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンソイル)
−5−ヒドロキシヒラゾール0.29fをトリエチルア
ミン0.1fおよび乾燥ベンゼン5mlの混液に溶解し
た後、室温で攪拌しなからメタンスルホニルクロライド
0.11を滴下し、滴下終了後、室温で12時間攪拌し
た。
反応終了後、反応混合物に水H)rnlを加え、次いで
有機層を分取した。
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶剤を留去し、
得られる残留物をn−ヘキサンより再結晶すると融点7
3〜74℃を有する白色針状晶の目的化合物0.31が
得られた。
収率83.3%元素分析値(%) C13H12C1
2N204 Sとして計算値C142,99;H13,
33;N、7.71;S、8.83;C1,19,25 実験値C142,64:H13,37;N、7.76;
S、9.15 ;C1,19,23 赤外吸収 Nujol I/SO:1355crIL
’1□80m−・′ 上記実施例4の方法に準じて次の化合物が製造された。
1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンソイル
) −5−ヒラゾリル 4−トルエンスルホネート m、p、 122〜124℃ 実施例 5 1 ・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイ
ル) −5−(5−メチル−3−オキソ−4−イソオキ
サゾリン−2−イルカルボニルオキシ)ピラゾール 3−ヒドロキシ−5−メチルイソオキサゾール0.1t
を乾燥ベンゼン4rulに溶解し、次いで液状ホスゲン
0.5Pを加え、室温で1時間攪拌した後、1時間加熱
還流した。
放冷後、減圧下過剰のホスゲンおよびベンゼンを留去し
た。
残渣を乾燥ベンゼン5Tllに溶解し、4−(2・4−
ジクロロベンソイル)−1・3−ジメチル−5−ヒドロ
キシピラゾール0.31およびトリエチルアミン0.1
y′を乾燥ベンゼン5mlに溶解した溶液を室温で攪拌
しながら滴下し、滴下終了後、更に1時間室温で攪拌し
た。
反応終了後、反応混合物に水10m1を加え、次いで有
機層を分取した。
有機層は1N−塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液お
よび水の順で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後
、溶剤を留去し、得られる残留物をベンゼン−n−へキ
サンより再結晶すると融点180〜182℃を有する白
色針状晶の目的化合物0.25fが得られた。
収率61.0%元素分析値(%)C1□H13C12N
305として計算値C,49,78;H,3,19;N
、 10.24;C1117,28 実験値C149,75;H13,31;N、 10.3
1 ;CL 17.05 赤外吸収 Nujolvc−81785cfrL−1上
記実施例5の方法に準じて次の化合物が製造された。
■・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル
) −5−(3−オキソ−4−クロロ−5メチル−4−
インオキサゾリン−2−イルカルボニルオキシ)ピラゾ
ール m、p、204〜206℃ 実施例 6 ■・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル
)−5−メトキシカルボニルオキシピラゾール ト3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル)
−5−ヒドロキシピラゾール0.72Pを乾燥ベンゼン
20rui!およびトリエチルアミン0.28Pの混液
に溶解した後、室温で攪拌しなからクロロ炭酸メチル0
.26′?を滴下し、滴下終了後室温で1時間攪拌した
反応終了後、反応混合物を12時間放置した抜水3om
lを加え、次いでヘンセン層ヲ分離し、水層は更にベン
ゼン溶液えテ抽出を行なう。
ベンゼン層およびベンゼン抽出液を合わせた後、水で洗
浄し、次いで無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
次いでベンゼン溶液より溶剤を留去し、得られる残留物
を少量のn−へキサンより再結晶すると融点86〜88
℃で有する白色結晶の目的化合物0.779が得られた
収率92% 元素分析値(%)C14H12c12N2o4トシテ計
算値C149,00;H13,52;N、8.16;C
I、20.66 実験値C,49,05;H,3,56;N、 8.33
;CI、 20.44 赤外吸収 Nujol v 。
=0177 ICIn’上記実施例6の方法に準じて次
の化合物が製造された l・3−ジメチル−4−(2−クロロベンシイ#)−5
−メトキシカルボニルオキシピラソールm、p、69〜
70℃ 1・3−ジメチル−4〜(2・4−ジクロロベンゾイル
) −5−n−プロポキシカルボニルオキシピラゾール m、p、59〜62℃ ■・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル
)−5−ベンジルオキシカルボニルオキシピラゾール m、p、87〜90℃ ビス〔1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベン
ゾイル)−5−ピラゾリル〕カーボネイト m、 p、166 〜168 ℃ ■・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンソイル
)−5−フェノキシカルボニルオキシピラゾール m、p、 15 ’J−160℃ ■・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンソイル
)−5−フェニルチオカルボニルオキシピラゾール m、p、83〜84℃ 1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンソイル
) −5−n −ブチルチオカルボニルオキシピラゾー
ル nDl、5618 実施例 7 0−0−ジエチル o−〔1・3−ジメチル−4−(2
−クロロベンゾイル)−5−ピラソリル〕ホスホロチオ
エート 4−(2−クロロベンゾイル)−1・3−ジメチル−5
−ヒドロキシピラゾール1.0?、ベンゼン20m11
トリエチルアミン0.433S’および○・O−ジエ
チルチオリン酸クロライド0.81f?の混合物を、攪
拌6.5時間加熱還流した。
反応終了後、反応混合物を放冷した後、水を加えて塩を
溶解し、次いで有機層を分取した。
有機層は水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後
、溶剤を留去し、得られる油状物をシリカゲル1o2を
用いてカラムクロマトグラフィーに付し、精製および分
離を行ない、更にn−ヘキサンより再結晶すると融点7
1〜74℃を有する目的化合物0.28 ?が得られた
収率17.8%元素分析値(%) C16H2ocIN
2o4psとシテ計算値C147,41;H15,00
;N、6.95;C1,8,80; p17.69 実験値C,47,83;H,494;N、 6.76;
CL 9.08;pl 7.35 参考例 1 ■・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル
)−5−ヒドロキシピラゾール ト3−ジメチル−5−ピラゾロン4.48Pおよび水酸
化カルシウム3yをインプロパツール65m1に懸濁し
、攪拌下、30分加熱還流した。
冷后、これに2・4−ジクロロベンゾイルクロライド8
.42を滴下し、滴下終了後2時間加熱還流した。
反応混合物から溶媒を留去し、水15mJを加え、2N
−塩酸溶液23m1で酸性となし、クロロホルム60m
1で抽出した。
クロロボルム層ヲ水洗后溶媒層を分取して無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、クロロホルムを留去した。
残渣をエタノールより再結晶すると無色稜状晶の融点1
65〜166℃を有する目的化合物7,6?が得られた
収率66.7% 元素分析値(%)C1□H1□N5o4として計算値C
150,55;H13,53;N、9.82;C1、2
4,88 実験値C,50,85;H13,54;N、 9.81
;C1、24,55 参考例 2 ■・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル
)−5−メルカプトピラゾール 5−クロロート3−ジメチルピラゾール1.0グ、無水
塩化アルミニウム1.05S’および2・47クロルベ
ンゾイルクロライド1.66Pをテトラクロルエタンf
3rnlに溶解した後、8時間加熱還流した。
反応終了後、反応混合物を水中に注ぎ、有機層を分取し
、5%水酸化ナトリウム水溶液7rILlを加えて1時
間攪拌した。
次いで有機層を無水Wナトリウムで乾燥後、有機層より
溶剤を留去し、得られる油状物をエタノールより結晶化
すると融点101.5〜102.5℃を有するプリズム
状結晶の5−クロロ−4−(2・4−ジクロロベンゾイ
ル)−1・3−ジメチルピラゾール1.82?が得られ
た。
収率78.3%元素分析値(%)C1□H9C13N2
0 として計算値C147,48;H12,99;N、
9.23;C1,35,04 実験値C147,49;H12,96;N、9.31;
C1,34,91 5−クロロ−4−(2・4−ジクロロベンソイル)−1
・3−ジメチルピラゾール0.31、硫化水素ナトリウ
ム三水塩2.11およびエタノール6rrLlの混合物
を水浴上で3時間加熱還流した。
反応終了後、反応混合物よりエタノールを減圧下で留去
し、次いで水15m1を加え、ベンゼンで抽出した。
水層に濃塩酸を加えてpH1に調整し、クロロホルムで
抽出し、抽出液を水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。
抽出液より溶剤を留去し得られた粗結晶をn−へキサン
より再結晶すると、融点85〜86℃を有する黄色粉末
の目的化合物0.10rが得られた。
収率33.3%元素分析値(%)C1□H1oN20S
C12として計算値C147,85;H13,35;N
、9.30 ;S、10.65 ;C1123,54 実験値C,47,76;H13,43;N、 9.38
;S111.02 ;C1,23,24

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1式 (式中R1およびR2は低級アルキル基を示す。 Xはハロゲン原子またはニトロ基を示すっnは1または
    2を示し、nが2のときXは互いに同一または相異なっ
    てもよい。 Yは酸素原子または硫黄原子を示す。 )を有する化合物をアシル化剤と反応させることを特徴
    とする式 (式中、R1、R2、X、Yおよびnは前述したものと
    同意義を示し、Zは脂肪族、脂環族もしくは芳香族カル
    ボン酸、カルバミン酸、スルホン酸、チオ燐酸ジエステ
    ル、炭酸もしくはチオ炭酸モノエステル、三塩基性酸及
    び式 (式中、RIOは水素原子または〕・ロゲン原子を示す
    。 )を有する酸から選ばれた有機酸の残基な示す。 )を有する有機酸エステル化合物の製法。
JP4167079A 1979-04-06 1979-04-06 エステル化合物の製法 Expired JPS5834472B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4167079A JPS5834472B2 (ja) 1979-04-06 1979-04-06 エステル化合物の製法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4167079A JPS5834472B2 (ja) 1979-04-06 1979-04-06 エステル化合物の製法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3493974A Division JPS5436648B2 (ja) 1974-03-28 1974-03-28

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS55363A JPS55363A (en) 1980-01-05
JPS5834472B2 true JPS5834472B2 (ja) 1983-07-27

Family

ID=12614826

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4167079A Expired JPS5834472B2 (ja) 1979-04-06 1979-04-06 エステル化合物の製法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5834472B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AR056889A1 (es) * 2005-12-15 2007-10-31 Ishihara Sangyo Kaisha Compuestos benzoilpirazol y herbicidas que los contienen

Also Published As

Publication number Publication date
JPS55363A (en) 1980-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL218431B1 (pl) Pochodne pirazolu i sposób ich wytwarzania
KR19990063989A (ko) 염증 치료용의 1,3,5-삼치환된 피라졸 화합물
KR830000026B1 (ko) 트리사이클릭 오르토-융합된 헤테로사이클릭 화합물의 제조방법
JPS5834472B2 (ja) エステル化合物の製法
KR100365873B1 (ko) 1-(헤트)아릴-3-히드록시피라졸의 제조 방법
US4855442A (en) Substituted 3-hydroxy pyrazoles
US5117054A (en) N-hydroxy, N-methyl propanamides
US3282954A (en) Substituted pyrazolylthioacetic acids and esters thereof
US5235058A (en) 3(5)-hydrazinopyrazole compounds
JPS61249968A (ja) 5−ヒドラジノ−1h−ピラゾ−ル系化合物
CA1178285A (en) Method for preparing 1-aryl-3-arylamino-2-pyrazolin-5- ones from n-aryl-3-arylamino-3-oximinopropionamides
SU649315A1 (ru) Способ получени производных пиразола или их солей или эфиров органических кислот
US5705651A (en) Process for producing a 3,4-alkylene-1,3,4-thiadiazolidin-2-one and intermediates for the same
JP2527587B2 (ja) O−スルホニル−n−(クロロピラゾリル)アミドオキシムの製造方法
DE2703589A1 (de) Verfahren zur herstellung eines in 3-stellung mit einem n-monosubstituierten aminorest und in 4-stellung substituierten 5-pyrazolons
JP3896399B2 (ja) 3−オキソプロピオン酸アミド化合物の製造方法
US4855441A (en) Process for the preparation of thioether compounds
JPS6047264B2 (ja) チアゾリジン誘導体
US2651638A (en) Derivatives of i
US5276158A (en) Method of preparing 5-amino-3-substituted-pyrazole
US5380869A (en) Regioselective synthesis of 1,5-diaryl pyrazole anti-inflammatory agents
JPS61249987A (ja) 1h−ピラゾロ〔3,2−c〕−1,2,4−トリアゾ−ル系化合物の製造方法
JPH04275277A (ja) 5−アミノピラゾール類の製造方法
JPH0567148B2 (ja)
EP0679634A2 (en) Method for producing a 3-oxo-propionic acid amide compound and substituted acetyl compound used therein