JPS5833821Y2 - 超音波霧化装置 - Google Patents

超音波霧化装置

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Publication number
JPS5833821Y2
JPS5833821Y2 JP8631779U JP8631779U JPS5833821Y2 JP S5833821 Y2 JPS5833821 Y2 JP S5833821Y2 JP 8631779 U JP8631779 U JP 8631779U JP 8631779 U JP8631779 U JP 8631779U JP S5833821 Y2 JPS5833821 Y2 JP S5833821Y2
Authority
JP
Japan
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liquid
water column
baffle plate
sound
piezoelectric vibrator
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Expired
Application number
JP8631779U
Other languages
English (en)
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JPS562972U (ja
Inventor
和貴 浦
幸三 川崎
健六 谷
俊春 田中
Original Assignee
松下電器産業株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by 松下電器産業株式会社 filed Critical 松下電器産業株式会社
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Publication of JPS562972U publication Critical patent/JPS562972U/ja
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  • Air Humidification (AREA)
  • Special Spraying Apparatus (AREA)
  • Apparatuses For Generation Of Mechanical Vibrations (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は超音波霧化装置の改良に関するものであり、超
音波により液体を霧化する際に発生する液体の水滴音を
低減する構造の改良に関するものである。
超音波霧化装置は霧化室内の液体の下部よリ一定強度の
超音波を液面上に向けて放射することにより、放射方向
に噴水状の水柱が形成され、該水柱の先端部付近で微細
な粒子が発生して霧化されるものである。
そして、上記噴水状の水柱の先端付近では微細な粒子と
ともに霧化しない大きな液体の水滴も連続して発生する
が、この大きな水滴がそのまま液面に落下すると水滴音
が発生し、静かな室内で霧化装置を使用する場合にかな
り耳ぎわすな雑音となるものである。
この水滴音を消去する対策を施した超音波霧化装置を実
願昭53−128282号として先に本出願人は出願し
ている。
これは穴あきじゃへい板をその穴に前記噴水状の水柱を
通過せしめるように設置し、落下する水滴をしやへい板
で受け、水滴を水流に還元して元の液体に流れ込む構造
にしたものである。
第1図にこの水音消去構造を設けた超音波霧化装置の一
例を示しており、液体1が所定量入っている霧化室2の
底部にチャンバーベース4を設け、このチャンバーベー
ス4の穴に圧電振動子3が保持具5によって取付けられ
ている。
この圧電振動子3は電気的に固有の周波数で駆動され、
液体1の液面には振動子3の振動子面の垂直軸方向に噴
水状の水柱6が形成され、該水柱6の先端部付近には大
きな液体粒子等の水滴7および微細粒子状の霧8が発生
し、送風口9からの送風により霧8は霧化室2に設けら
れた排出筒10より強制的に吐出されるようになってい
る。
この時大きな水滴7は排出筒10からは吐出されず、重
力によって落下する。
そこで液面と排出筒10の間に水柱6が通過する穴12
を開けた穴あきじゃへい板11を設け、水滴7の大きな
ものはこのしやへい板11上に落下せしめ、直接液面に
は落下しない構造とすることにより、水滴音を消去する
構造としている。
ここで、上記しゃへい板11は水平面に対し傾斜をもつ
ように設置されており、しやへい板11上に落下した水
滴は傾斜に沿って流れ、しやへい板11と排出筒10の
最下部との間に設けられた流出部13を通じて元の液体
1に流れ込む構造となっている。
しかし、この構造では以下に述べるような不都合が見ら
れることを本考案者らは見出した。
すなわち、この構造による水音消去は水柱6が通過する
じゃへい板11の穴12が小さい程効果が高いが、水柱
6は常に同じ位置にあるわけではなく液面の波打ち等の
原因によって多少のゆらぎがあるため、穴12が小さす
ぎたり、組立のバラツキによって穴位置がずれると、水
柱6がじゃへい板11の穴12の周辺部に直接当ること
がある。
すると圧電振動子3から発生している超音波かじゃへい
板11で反射され、この反射波は霧化室2や圧電振動子
3に当り、樹脂材料で形成されることの多い霧化室2を
溶融変形させたり、圧電振動子3の劣化を促進する原因
となる゛。
特にこの反射波が定在波を形成すると、その影響は増々
大きくなる。
また、霧化室2中の水位は霧化装置を静置した場合には
給水タンクの弁によってほぼ一定に保たれるが、霧化装
置を持ち運んだりして振動を与えると給水タンクからの
給水が過剰となって水位が高くなり、しやへい板11が
液面または液中に位置するようになる場合がある。
その場合、しやへい板11からの超音波の反射はより大
きくなり、上述した霧化室2の溶融変形や圧電振動子3
の劣化が起りやすくなる。
本考案は上記のような欠点を改善し、水滴音消去をより
完全なものにした超音波霧化装置を提供しようとするも
のである。
以下、本考案の一実施例について第2図および第3図と
ともに上記と同一個所には同一番号を付して説明する。
本考案は穴あきじゃへい板11をその穴12に水柱6を
通過せしめるように設置し、落下する水滴7をしやへい
板11で受けることにより水滴音を消去する構造は第1
図と同様であるが、しやへい板11の圧電振動子3側に
第3図に示すように同じく穴をもったシリコンゴム、ブ
チルゴム等の吸音材14を貼付けしたことを特長として
いる。
この吸音材14によって超音波は吸収され、反射波を非
常に小さくすることができる。
また、消音効果が損なわれないことは言うまでもない。
そして、吸音材14は複数枚貼付ける方が効果は高く、
1枚の場合は第4図に示すように中空部分15を形成す
るように吸音材14をしやへい板11に貼付けする方が
効果はより高くなる。
なお、本考案による吸音材14を貼付けたじゃへい板1
1の取付けは液面に対し傾斜して取付けても水平に取付
けてもよく、また取付位置は第2図の一実施例のように
排出筒10の下部に取付けるだけでなく、霧化室2の底
部または壁面に適宜の手段によって取付けてもよい。
以上のように本考案の超音波霧化装置は構成されている
ものであり、超音波により液体を霧化する際に発生する
液体の水滴音を低減することができ、また吸音材によっ
て超音波が吸収されて反射波を非常に小さくすることが
できるため、霧化室や圧電振動子への影響をなくすこと
ができるものであり、その実用性は大なるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本出願人の出願である超音波霧化装置の断面図
、第2図は本考案に係る超音波霧化装置の一実施例を示
す断面図、第3図は同装置を構成する穴あきじゃへい板
に吸音材を貼付けたものの断面図、第4図は穴あきじゃ
へい板に吸音材を貼付けたものの他の実施例を示す断面
図である。 1・・・・・・液体、2・・・・・・霧化室、3・・・
・・・圧電振動子、6・・・・・・水柱、8・・・・・
・霧、11・・・・・・穴あきじゃへい板、12・・・
・・・穴、14・・・・・・吸音材、15・・・・・・
中空部分。

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. (1)霧化室の底部に取付けられた圧電振動子によって
    その霧化室内の液体中に放射された超音波振動により液
    面に水柱を形成し、この水柱より微細粒子の霧を発生さ
    せる構成とし、かつ穴あきじゃへい板をその穴を上記水
    柱が通過するように位置せしめるとともにそのしやへい
    板の上記圧電振動子側に吸音材を貼付けてなる超音波霧
    化装置。
  2. (2)穴あきじゃへい板と吸音材の間に中空部分を設け
    てなる実用新案登録請求の範囲第(1)項記載の超音波
    霧化装置。
JP8631779U 1979-06-22 1979-06-22 超音波霧化装置 Expired JPS5833821Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8631779U JPS5833821Y2 (ja) 1979-06-22 1979-06-22 超音波霧化装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP8631779U JPS5833821Y2 (ja) 1979-06-22 1979-06-22 超音波霧化装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS562972U JPS562972U (ja) 1981-01-12
JPS5833821Y2 true JPS5833821Y2 (ja) 1983-07-28

Family

ID=29319542

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JP8631779U Expired JPS5833821Y2 (ja) 1979-06-22 1979-06-22 超音波霧化装置

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