JPS5832864A - ポリアルキルピペリジン誘導体 - Google Patents
ポリアルキルピペリジン誘導体Info
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- JPS5832864A JPS5832864A JP57115621A JP11562182A JPS5832864A JP S5832864 A JPS5832864 A JP S5832864A JP 57115621 A JP57115621 A JP 57115621A JP 11562182 A JP11562182 A JP 11562182A JP S5832864 A JPS5832864 A JP S5832864A
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- Japan
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- alkyl
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は高分子有機材料用の光及び熱安定剤として有
用な、ポリアルキルピペリノン誘導体に関する。
用な、ポリアルキルピペリノン誘導体に関する。
本発明は、1,3−ジヒドロキシ−4,6−ピスー4/
−(2/、 2/、 6/、 6/−テトラメチルビペ
リロキシ基の橋架は基を介する結合によシ、誘導された
七ツマ−又は?リマー生成物を提供する。
−(2/、 2/、 6/、 6/−テトラメチルビペ
リロキシ基の橋架は基を介する結合によシ、誘導された
七ツマ−又は?リマー生成物を提供する。
更に詳しくは、本発明は下記式Iで示される化上式中、
Rは水素、置換されていないが又は1個のヒドロキシも
しくは−coo(C,〜18アルキル)基によ多置換さ
れたC4〜12アルキル、アリル又ハベンジンを表わし
、nは0又は1〜2ot−表わし、Ail:C2〜、8
アルキレン又は下記A)〜C)、(式中、Xlは直接結
合、02〜,4アルキレン、C2又はC,アルキレン、
ヒドロキシエチレン、酸素及び/又は硫黄によシ介在さ
れた02〜2oアルキレン、フェニレン、ジフェニレン
又ハグリコールト過剰のジカルボン酸との反応によシ誘
導されたポリエステル基を表わし、X2はC2〜、2ア
ルキレン、フェニレン、ジフェニレン又はジフェニレン
メタンを表わし、X6はC2〜1□アルキレン、フェニ
レン又ハ+X4−o−(ここでX4はメチレン、酸素又
は−C(CH,)2−を表わす)を表わす)で示される
基を表わし、R1は水素、置換されていないか又は(0
1〜、8アルコキシ)カルボニル、C4〜6アルコキシ
もしくは(C4〜6アルキル)カルがニルによ多置換さ
れたC アルキル、1〜20 C2〜2oアルケニル、C3〜2oアルキニル、C5〜
、2シクロアルキル、フェニル(C4〜、2アルキル)
又は式、 1 リーC−0−X3−OH (上式中、R2は置換されていないか又は(C1〜18
アルコキシ)カルボニル、C4〜6アルコキシもしくi
i:(C1〜6アルキル)カルぎニルによ多置換された
C アルキル、Cアルケニル、C3〜2゜1〜20
2〜20アルキニル、Cシクロア
ルキル、フェニル5〜12 (01〜、2アルキル)又はフェニルを表わし、これら
のフェニル環は置換されていないか又は1個又は2個の
01〜8アルキル基及び/又は1個のヒドロキシル基に
よ多置換されていてもよく、R3は水素又は01〜4ア
ルキルを表わし、R4は水素、Cアルキル、Cシクロア
ルキル、フエ 1〜20 5〜12ニル又はナ
フチルを表わし、R5は水素、C1〜6アルコキシ又は
C1〜6アルキルチオを表わし、RIXlr X2及び
X5は前記規定に同一のものを表わす)で示される基を
表わす。
Rは水素、置換されていないが又は1個のヒドロキシも
しくは−coo(C,〜18アルキル)基によ多置換さ
れたC4〜12アルキル、アリル又ハベンジンを表わし
、nは0又は1〜2ot−表わし、Ail:C2〜、8
アルキレン又は下記A)〜C)、(式中、Xlは直接結
合、02〜,4アルキレン、C2又はC,アルキレン、
ヒドロキシエチレン、酸素及び/又は硫黄によシ介在さ
れた02〜2oアルキレン、フェニレン、ジフェニレン
又ハグリコールト過剰のジカルボン酸との反応によシ誘
導されたポリエステル基を表わし、X2はC2〜、2ア
ルキレン、フェニレン、ジフェニレン又はジフェニレン
メタンを表わし、X6はC2〜1□アルキレン、フェニ
レン又ハ+X4−o−(ここでX4はメチレン、酸素又
は−C(CH,)2−を表わす)を表わす)で示される
基を表わし、R1は水素、置換されていないか又は(0
1〜、8アルコキシ)カルボニル、C4〜6アルコキシ
もしくは(C4〜6アルキル)カルがニルによ多置換さ
れたC アルキル、1〜20 C2〜2oアルケニル、C3〜2oアルキニル、C5〜
、2シクロアルキル、フェニル(C4〜、2アルキル)
又は式、 1 リーC−0−X3−OH (上式中、R2は置換されていないか又は(C1〜18
アルコキシ)カルボニル、C4〜6アルコキシもしくi
i:(C1〜6アルキル)カルぎニルによ多置換された
C アルキル、Cアルケニル、C3〜2゜1〜20
2〜20アルキニル、Cシクロア
ルキル、フェニル5〜12 (01〜、2アルキル)又はフェニルを表わし、これら
のフェニル環は置換されていないか又は1個又は2個の
01〜8アルキル基及び/又は1個のヒドロキシル基に
よ多置換されていてもよく、R3は水素又は01〜4ア
ルキルを表わし、R4は水素、Cアルキル、Cシクロア
ルキル、フエ 1〜20 5〜12ニル又はナ
フチルを表わし、R5は水素、C1〜6アルコキシ又は
C1〜6アルキルチオを表わし、RIXlr X2及び
X5は前記規定に同一のものを表わす)で示される基を
表わす。
式中に記号が一度以上表われる場合、それらの記号は他
に断わらない限9同一の又は相異なる意味を有する。n
が1よシも大きい場合、平均値を表わす非整数であって
もよい。
に断わらない限9同一の又は相異なる意味を有する。n
が1よシも大きい場合、平均値を表わす非整数であって
もよい。
アルキルとしてのRは好1しくはC1〜4アルキル、特
にメチルである。好ましいRは水垢又はアルキルであシ
、更に好ましくは水素である。
にメチルである。好ましいRは水垢又はアルキルであシ
、更に好ましくは水素である。
式IにおいてnがOであるようなモノマー化合物に対し
ては、Rは好1しくはRlaすなわち式g) 、h)又
はi)の基以外のR1の意味の全てを有する。更に好ま
しくは、R1HR1/&すなわちC4〜2゜アルキル(
前記に規定したごとく置換されてい々くてもよく或いは
置換されていてもよい〕、式d)の基又は弐〇)の基で
ある。更に好1iシ<Fi、nは未置換C1〜2oアル
キル又は式d)の基であム式d)の基であるのが特に好
ましい。好1しくけ基R4は同一である。
ては、Rは好1しくはRlaすなわち式g) 、h)又
はi)の基以外のR1の意味の全てを有する。更に好ま
しくは、R1HR1/&すなわちC4〜2゜アルキル(
前記に規定したごとく置換されてい々くてもよく或いは
置換されていてもよい〕、式d)の基又は弐〇)の基で
ある。更に好1iシ<Fi、nは未置換C1〜2oアル
キル又は式d)の基であム式d)の基であるのが特に好
ましい。好1しくけ基R4は同一である。
式d)の基において、R2は好捷しくはR2tすなわち
01〜18 アルキル、アリル、メタリル、プロパル
ギル、メチルプロパルギル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、ベンジル、α、α−ジメチルヘン・ゾル、α−
メチルベンジル、フェニル、トリル、特ニcB〜、8ア
ルキルである。
01〜18 アルキル、アリル、メタリル、プロパル
ギル、メチルプロパルギル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、ベンジル、α、α−ジメチルヘン・ゾル、α−
メチルベンジル、フェニル、トリル、特ニcB〜、8ア
ルキルである。
式e)の基において、R3は好ましくは水素であ、9、
R4U好tL<はC4〜2oアルキル又ハフエニルであ
シ、史に好筐しくはC1〜18アルキル、特にC4〜、
8アルキルである。式f)の基において、R5は好まし
くはC4〜4アルコキシである。
R4U好tL<はC4〜2oアルキル又ハフエニルであ
シ、史に好筐しくはC1〜18アルキル、特にC4〜、
8アルキルである。式f)の基において、R5は好まし
くはC4〜4アルコキシである。
式Iにおいてnが1〜20であるポリマー化合物に対し
ては、Rは好ましくハR1bすなわち水素、(C1〜1
8アルキル)力λデニル又は式g) 、 b)又はl)
の基である。更に好ましくはR1は水垢又は式g) 、
h)又はυの基、特に水素である。
ては、Rは好ましくハR1bすなわち水素、(C1〜1
8アルキル)力λデニル又は式g) 、 b)又はl)
の基である。更に好ましくはR1は水垢又は式g) 、
h)又はυの基、特に水素である。
橋架は基Aは好1しくけA′すなわち式a) 、 b)
又はC)の基である。更に好ましくは、A“すなわち式
a)又はb)の基、特に式a)の基である。
又はC)の基である。更に好ましくは、A“すなわち式
a)又はb)の基、特に式a)の基である。
式a)及びg)の基において、Xlは好1しくは酸素又
は硫黄によシ介在されていてもよいC2〜12アルキレ
ンである。更に好ましくはC4〜1oアルキレン、特に
偶数の炭素原子を有するもの、−CH2CH2−8−C
H2CH2−又は−CH2CH2−O−CH3CN−1
2−である。式b)及びh)の基において、X2は好ま
しくはC2〜、2アルキレン、更に好ましくは5,6゜
8.9,10.11又は12個の炭素原子を有するもの
である。弐〇)及びl)の基において、X3は好ましく
はC2〜6アルキレンである。
は硫黄によシ介在されていてもよいC2〜12アルキレ
ンである。更に好ましくはC4〜1oアルキレン、特に
偶数の炭素原子を有するもの、−CH2CH2−8−C
H2CH2−又は−CH2CH2−O−CH3CN−1
2−である。式b)及びh)の基において、X2は好ま
しくはC2〜、2アルキレン、更に好ましくは5,6゜
8.9,10.11又は12個の炭素原子を有するもの
である。弐〇)及びl)の基において、X3は好ましく
はC2〜6アルキレンである。
式■のポリマー化合物に対しては、nは好ましくはn′
すなわち1〜1O,、Wに好1しくはn“すなわち2〜
8、特に3,4.5又は6である。
すなわち1〜1O,、Wに好1しくはn“すなわち2〜
8、特に3,4.5又は6である。
好ましいモノマー化合物は下記式1a及び1a1で示さ
れるものであシ、好ましいポリマー化合物は下記Ib及
びlb/で示されるものでおる。
れるものであシ、好ましいポリマー化合物は下記Ib及
びlb/で示されるものでおる。
1;、)、−−i余白
0 0
111
(19)
式■のモノマー化合物は下記式Hの化合物から二工程で
製造される。
製造される。
式■の化合物は水素化されて式Iにおいてnが0で基R
,が共にHであるような化合物となシ、これらの化合物
は次いで公知の方法で導入されるべき基R4の適当な誘
導体と反応されるか或いは式■の化合物は公知の方法で
導入されるべき基R1の適当な誘導体と反応され、次い
で得られる下記式■の化合物が水素化される。
,が共にHであるような化合物となシ、これらの化合物
は次いで公知の方法で導入されるべき基R4の適当な誘
導体と反応されるか或いは式■の化合物は公知の方法で
導入されるべき基R1の適当な誘導体と反応され、次い
で得られる下記式■の化合物が水素化される。
CHCHCHCH3
333
上式中R1は水素以外のものを表わす。
(20)
弐■及びmの中間化合物は新規であり本発明に含まれる
。
。
式lのポリマー化合物は式IにおいてR,が共に水素で
あるモノマー化合物を所望の橋架は基の三官能誘導体と
反応することにより調製される。
あるモノマー化合物を所望の橋架は基の三官能誘導体と
反応することにより調製される。
試薬の比によって、末端基R,は水素であってもよく或
いは一方の末端のみにおける三官能誘導体の反応で得ら
れる基であってもよい。或いは、ポリマー不飽和生成物
は式■の化合物から得られ、最後に水素化されてもよい
。
いは一方の末端のみにおける三官能誘導体の反応で得ら
れる基であってもよい。或いは、ポリマー不飽和生成物
は式■の化合物から得られ、最後に水素化されてもよい
。
Rlaが飽和もしくは不飽和炭化水素基であるような好
ましいモノマー化合物に対しては、適当な試薬はハルが
塩素又は臭素であるようなR1ハルである。R1が基d
)である場合、適当な試薬はR2C0OH又はその機能
的誘導体である。R1が基C)である場合、適当な試薬
はR4NGO(R3がアルキルである場合とれは引続く
アルキル化工程で誘導されてもよい)である。又R1が
基f)である場合、これは下記式の化合物との反応によ
り導入されてもよい。
ましいモノマー化合物に対しては、適当な試薬はハルが
塩素又は臭素であるようなR1ハルである。R1が基d
)である場合、適当な試薬はR2C0OH又はその機能
的誘導体である。R1が基C)である場合、適当な試薬
はR4NGO(R3がアルキルである場合とれは引続く
アルキル化工程で誘導されてもよい)である。又R1が
基f)である場合、これは下記式の化合物との反応によ
り導入されてもよい。
5
橋架は基Aが式a)の基であるような好ましいポリマー
化合物に対しては、これは □HOOC−X −C
OOH又はその機能的誘導体との反応によシ導入される
。橋架は基が式b)で示されるものである場合、適当々
試薬は0CN−X2−Neoである。
化合物に対しては、これは □HOOC−X −C
OOH又はその機能的誘導体との反応によシ導入される
。橋架は基が式b)で示されるものである場合、適当々
試薬は0CN−X2−Neoである。
又橋架は基が弐〇)で示されるものである場合、試薬は
HO−X3−OHとホスゲンを反応させてとれらの試薬
は又それぞれ式g)、h)及びI)のR4基を生ずる。
HO−X3−OHとホスゲンを反応させてとれらの試薬
は又それぞれ式g)、h)及びI)のR4基を生ずる。
式11の化合物は1モルのレゾルシンと2モルのトリア
セトンアミンとを酸性媒体中で反応させ、次いで所望に
よυN−アルキル化することによシ得られる。
セトンアミンとを酸性媒体中で反応させ、次いで所望に
よυN−アルキル化することによシ得られる。
式■の化合物は高分子有機材料を光及び熱による劣化に
対して保護するだめの安定剤として有用である0式Iの
化合物のポリマー材料中における濃度は0.01〜5重
量%、好ましくは0.02〜1重量%であるのが適当で
ある。化合物は重合工程の前、間又は後で添加されても
よく、固体状で、溶液中で、又は20〜80重量%好ま
しくは40〜60%の式■の化合物と80〜20重量%
、好ましくは60〜40チの、安定化されるべきポリマ
ー材料と同一であるか又はこれと相様性の固体ポリマー
材料とを含む固体マスターパッチ組成物として添加され
てもよい。
対して保護するだめの安定剤として有用である0式Iの
化合物のポリマー材料中における濃度は0.01〜5重
量%、好ましくは0.02〜1重量%であるのが適当で
ある。化合物は重合工程の前、間又は後で添加されても
よく、固体状で、溶液中で、又は20〜80重量%好ま
しくは40〜60%の式■の化合物と80〜20重量%
、好ましくは60〜40チの、安定化されるべきポリマ
ー材料と同一であるか又はこれと相様性の固体ポリマー
材料とを含む固体マスターパッチ組成物として添加され
てもよい。
適当なポリマー材料はプラスチック材料、例えハ、yl
e+)エチレン、ポリグロビレン、エチレン/プロピレ
ンコIリマー、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリア
ミド、?リウレタン、f′リアクリロニトリル、 AB
S 、アクリレート、スチレン及びアクリロニトリルの
ターポリマー°7”1スチレン/アクリロニトリル及び
スチレン/ブタジェンを含む。
e+)エチレン、ポリグロビレン、エチレン/プロピレ
ンコIリマー、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリア
ミド、?リウレタン、f′リアクリロニトリル、 AB
S 、アクリレート、スチレン及びアクリロニトリルの
ターポリマー°7”1スチレン/アクリロニトリル及び
スチレン/ブタジェンを含む。
ポリウレタン、ポリスチレン、塩素化Iリエチレ(23
) ン、ポリカー?ネート、ホリメチルメタクリレート、ポ
リフェニレ/オキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリ
アセタール、フェノール/ホルムアルデヒド樹脂及びエ
ポキシ樹脂のごとき他のプラスチックス材料も有用であ
る。好ましいプラスチックス材料はポリゾロピレン、ポ
リエチレン、エチレン/プロピレンコポリマー及びAB
Sである。
) ン、ポリカー?ネート、ホリメチルメタクリレート、ポ
リフェニレ/オキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリ
アセタール、フェノール/ホルムアルデヒド樹脂及びエ
ポキシ樹脂のごとき他のプラスチックス材料も有用であ
る。好ましいプラスチックス材料はポリゾロピレン、ポ
リエチレン、エチレン/プロピレンコポリマー及びAB
Sである。
天然ポリマー、例えば天然ゴムも安定化することができ
、又号?リマー材料を含む潤滑油も安定化できる。
、又号?リマー材料を含む潤滑油も安定化できる。
弐Iの化合物は公知の方法で安定化されるべきポリマー
材料中に配合される。特に重要表ものは化合物と熱可塑
性ポリマーとの、メルトにおける、例えばメタ−クレゾ
−ルで又は押出し、射出成形、プロー成形、紡糸又はt
liAM被覆によるホイル。
材料中に配合される。特に重要表ものは化合物と熱可塑
性ポリマーとの、メルトにおける、例えばメタ−クレゾ
−ルで又は押出し、射出成形、プロー成形、紡糸又はt
liAM被覆によるホイル。
チューブ、繊維及びフオームを含む成形品の成形の間に
おけるブレンド9である。
おけるブレンド9である。
′+1
本発明に係る化合物との混合前にポリマー材料を完全に
重合させることは必須ではない。化合物をモノマー、ゾ
レポリマー又は初期縮合物と混合(24) し、次いで重合又は縮合反応を実施してもよい。
重合させることは必須ではない。化合物をモノマー、ゾ
レポリマー又は初期縮合物と混合(24) し、次いで重合又は縮合反応を実施してもよい。
これはもちろん溶融混合することのできない熱硬化性ポ
リマー中に化合物を配合する好ましい方法である。
リマー中に化合物を配合する好ましい方法である。
式Iの化合物は単独で用いられてもよく、或いは他の安
定剤、例えば、酸化防止剤と一諸に用いられてもよい。
定剤、例えば、酸化防止剤と一諸に用いられてもよい。
例としては立体障害フェノール。
硫黄又は燐含有化合物又はそれらの混合物を含む。
それらの例はベンゾフラン−2−オン、インドリン−2
−オン及び立体障害フェノール、例えば、β−(4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジーtart−ブチルフェニル)プ
ロピオニルステアレート、メタンテトラキス−しメチレ
ン−3(3’、5’−ジー遺ert−ゾチルー4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオネート〕。
−オン及び立体障害フェノール、例えば、β−(4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジーtart−ブチルフェニル)プ
ロピオニルステアレート、メタンテトラキス−しメチレ
ン−3(3’、5’−ジー遺ert−ゾチルー4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオネート〕。
1.3.3− )リス(2−メチル−4−ヒドロキシ−
5−tart−ブチルフェニル)ブタン、 1.3.5
−トリス(4−tsrt−ブチル−3−ヒドロキシ−2
,6−シメチルベンジル) −1,3,5−トリアジン
−2,4−6(IH,3H,5)I)−)リオン、ビス
(4−tert−ジチル−3−ヒドロキシ−2,6−ノ
メチルペンジル)ジチオールテレフタレート、トリス(
3゜5−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシベンジ
ル)インシアヌレート、β−(4−ヒドロキシ−3,5
−ジーtert−ブチルフェニル)プロピオン酸と1,
3゜4− ) IJス(2−ヒドロキシエチル) −5
−) IJアジン−2,4−6(IH,31(,51(
)−)リオンとのトリエステル、ビス[3,3−ビス(
4′−ヒドロキシ−3−tert−ブチルフェニル)酪
酸]グリコールエステル、 1.3.5− )ジメチル
−2,4−6−トリス(3゜5−ジーtert−!チル
−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、2,2′−メヂレン
ービス(4−メチル−6−tert−ブチルフェニル)
テレフタレート、4.4−メチレン−ビス(2,6−シ
ーtert−ブチルフェノール)、4.4′−ブチリデ
ン−ビス(tert−ブチル−メタ−クレゾール)、4
,4−チオ−ビス(2−tart−ブチル−5−メチル
フェノール)、2.2’−メチレン−ビス(4−メチル
−5−tart−ブチルフェノール)である。
5−tart−ブチルフェニル)ブタン、 1.3.5
−トリス(4−tsrt−ブチル−3−ヒドロキシ−2
,6−シメチルベンジル) −1,3,5−トリアジン
−2,4−6(IH,3H,5)I)−)リオン、ビス
(4−tert−ジチル−3−ヒドロキシ−2,6−ノ
メチルペンジル)ジチオールテレフタレート、トリス(
3゜5−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシベンジ
ル)インシアヌレート、β−(4−ヒドロキシ−3,5
−ジーtert−ブチルフェニル)プロピオン酸と1,
3゜4− ) IJス(2−ヒドロキシエチル) −5
−) IJアジン−2,4−6(IH,31(,51(
)−)リオンとのトリエステル、ビス[3,3−ビス(
4′−ヒドロキシ−3−tert−ブチルフェニル)酪
酸]グリコールエステル、 1.3.5− )ジメチル
−2,4−6−トリス(3゜5−ジーtert−!チル
−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、2,2′−メヂレン
ービス(4−メチル−6−tert−ブチルフェニル)
テレフタレート、4.4−メチレン−ビス(2,6−シ
ーtert−ブチルフェノール)、4.4′−ブチリデ
ン−ビス(tert−ブチル−メタ−クレゾール)、4
,4−チオ−ビス(2−tart−ブチル−5−メチル
フェノール)、2.2’−メチレン−ビス(4−メチル
−5−tart−ブチルフェノール)である。
有用な硫黄含有酸化防止安定剤は、例えば、ジステアリ
ルチオジプロピオネート、ジラウリルチオシプロピオネ
ート、メタンテトラキス(メチレン−3−へキシルチオ
プロピオネ−1−)、メタンテトラキス(メチレン−3
−ドデシルチオプロピオネート)及びジオクタデシルジ
スルフィドv含む。
ルチオジプロピオネート、ジラウリルチオシプロピオネ
ート、メタンテトラキス(メチレン−3−へキシルチオ
プロピオネ−1−)、メタンテトラキス(メチレン−3
−ドデシルチオプロピオネート)及びジオクタデシルジ
スルフィドv含む。
燐含有安定剤は、例えば、トリノニルフェニルフォスフ
ァイト、4,9−ジステアリル−3,5,8,1,0−
テトラオキサジホスファスピロウンデカン、トリス(2
,4−ジーtert−ブチルフェニル)フォスファイト
及びテトラキス(2,3−ジーtert−ブチルフェニ
ル)−4,4’〜ビフェニレンジフォスフォナイトヲ含
む。更にアミノアリール化合物及び紫外線吸収剤のごと
き添加剤及び日光安定剤、例えば2−(2′−ヒドロキ
シフェニル)へ/ソトリアゾール。
ァイト、4,9−ジステアリル−3,5,8,1,0−
テトラオキサジホスファスピロウンデカン、トリス(2
,4−ジーtert−ブチルフェニル)フォスファイト
及びテトラキス(2,3−ジーtert−ブチルフェニ
ル)−4,4’〜ビフェニレンジフォスフォナイトヲ含
む。更にアミノアリール化合物及び紫外線吸収剤のごと
き添加剤及び日光安定剤、例えば2−(2′−ヒドロキ
シフェニル)へ/ソトリアゾール。
2−ヒドロキシベンゾフェノン、■、3−ビス(2’−
ヒドロキシベンゾイル)ベンゼン、サリチレート。
ヒドロキシベンゾイル)ベンゼン、サリチレート。
シンナメート、ベンゾエート及び置換ベンゾエート、立
体障害アミン及び蓚酸ジアミドを用いることもできる。
体障害アミン及び蓚酸ジアミドを用いることもできる。
他の公知のタイプ、の添加剤、例えば、難燃剤及び静電
防止剤を用い添加することもできる。
防止剤を用い添加することもできる。
(27)
式Iの化合物は有機ポリマーを含有するコーティング、
特に自動車用仕上塗装に用いるのに特に適する。
特に自動車用仕上塗装に用いるのに特に適する。
自動車用仕上塗料は一般に有機溶剤中の有機ポリマー又
はポリマー前駆体の溶液又は分散液である。大部分は焼
付は仕上塗料であり、これは一旦下塗シされた金属表面
に適用された後で所定の時間内に塗料を固化させるため
に一般に100℃以上で熱全適用することが必要である
。この加熱の効果は熱硬化の系におけるポリマー前駆体
間の化学反応を促進するか又は熱可塑性ポリマーの粒子
の融解を生せしめるためである。
はポリマー前駆体の溶液又は分散液である。大部分は焼
付は仕上塗料であり、これは一旦下塗シされた金属表面
に適用された後で所定の時間内に塗料を固化させるため
に一般に100℃以上で熱全適用することが必要である
。この加熱の効果は熱硬化の系におけるポリマー前駆体
間の化学反応を促進するか又は熱可塑性ポリマーの粒子
の融解を生せしめるためである。
多くの自動車用仕上塗料はメタリック仕上であり、これ
は反射による光学的効果を与えるために金属片、通常は
アルミニウム片を含む。このような仕上は一般に二層仕
上であシ、この場合ピグメント及び金属片を含むペース
コート上に透明なトップコートが適用される。このよう
な二層メタリック仕上は、トップコート中のポリマーは
日光吸収性はピグメントによって保護されておらず、ま
(28) た下のメタリック層からの光の反射にょシ通常曾のほぼ
2倍の光をうけるから、トップコ−1・中に紫外線安定
剤を特に必要とする。
は反射による光学的効果を与えるために金属片、通常は
アルミニウム片を含む。このような仕上は一般に二層仕
上であシ、この場合ピグメント及び金属片を含むペース
コート上に透明なトップコートが適用される。このよう
な二層メタリック仕上は、トップコート中のポリマーは
日光吸収性はピグメントによって保護されておらず、ま
(28) た下のメタリック層からの光の反射にょシ通常曾のほぼ
2倍の光をうけるから、トップコ−1・中に紫外線安定
剤を特に必要とする。
式■の化合物は焼付は仕上、特に二層メタリック仕上の
トップコート中に特に有効である。
トップコート中に特に有効である。
式■の化合物は種々の液体仕上、例えばメラミン−ホル
ムアルデヒド樹脂とオイル変性ポリエステル樹脂、ポリ
アクリレート樹脂と添加架橋剤、又は不飽和ポリエステ
ルの組み合せにもとづくもの又は自己架橋ポリアクリレ
ート又はスチレンと共重合されたポリアクリレ−)at
li−Iにもとすくものにおける紫外線安定剤として用
いるのに適する。
ムアルデヒド樹脂とオイル変性ポリエステル樹脂、ポリ
アクリレート樹脂と添加架橋剤、又は不飽和ポリエステ
ルの組み合せにもとづくもの又は自己架橋ポリアクリレ
ート又はスチレンと共重合されたポリアクリレ−)at
li−Iにもとすくものにおける紫外線安定剤として用
いるのに適する。
他の例は脂肪族又は芳香族ジインシアネーj・及びヒド
ロキシ基含有ポリアクリレート、ポリエステル又はポリ
エーテル樹脂にもとづく二成分仕上である。熱可塑性ポ
リアクリレート樹脂を用いることもでき、これはメタリ
ック仕上に特に有用であシ、又架橋剤を添加したポリア
クリレート樹脂並びにブタノールでエーテル化されたメ
ラミy−ホルムアルデヒド樹脂、更に脂肪族ジイソシア
ネートで固化されたヒドロキシ基含有ぼりアクリレート
樹脂も有用である。
ロキシ基含有ポリアクリレート、ポリエステル又はポリ
エーテル樹脂にもとづく二成分仕上である。熱可塑性ポ
リアクリレート樹脂を用いることもでき、これはメタリ
ック仕上に特に有用であシ、又架橋剤を添加したポリア
クリレート樹脂並びにブタノールでエーテル化されたメ
ラミy−ホルムアルデヒド樹脂、更に脂肪族ジイソシア
ネートで固化されたヒドロキシ基含有ぼりアクリレート
樹脂も有用である。
式Iの化合物は仕上塗料製造のいかなる段階において仕
上塗料に添加されてもよく、固体状で又は溶、液で、好
寸しくけ適渦な溶剤中の液体濃厚物の形で添加されても
よい。
上塗料に添加されてもよく、固体状で又は溶、液で、好
寸しくけ適渦な溶剤中の液体濃厚物の形で添加されても
よい。
0.02〜5重量%、好ましくは0,2〜2重量%の一
柚又はそれ以上の式Iの化合物の添加は焼付は仕上中の
有機ピグメントの日光及び耐候性に明らか々改良をもた
らし、更に屋外暴露の結果としての毛筋割れ及び光沢の
減少の傾向を低下させる。
柚又はそれ以上の式Iの化合物の添加は焼付は仕上中の
有機ピグメントの日光及び耐候性に明らか々改良をもた
らし、更に屋外暴露の結果としての毛筋割れ及び光沢の
減少の傾向を低下させる。
これはメタリック仕上にとっては驚くべきことであシ、
二層メタリック仕上の透明トップコートの優れた長期間
安定性が得られる。このような仕上においては、式Iの
化合物はメタリックアンダーコート、透明なトップコー
ト又はその両者、好ましくは透明なトップコートのみに
添加されてもよい。
二層メタリック仕上の透明トップコートの優れた長期間
安定性が得られる。このような仕上においては、式Iの
化合物はメタリックアンダーコート、透明なトップコー
ト又はその両者、好ましくは透明なトップコートのみに
添加されてもよい。
下記の例は本発明を説明するためのものである。
以下余白
例1
65m1の氷酢酸中5.69のレゾルシン(98%)及
び20.89のトリアセトンアミンヒドロクロリドの溶
液中に80℃でHCtガスを約8時間通じた。
び20.89のトリアセトンアミンヒドロクロリドの溶
液中に80℃でHCtガスを約8時間通じた。
次いで混合物を室温で16時曲放置し、固体沈殿物を濾
過によシ分離した。22.8#の白色生成物が得られた
。これを加温して少量の水に溶解し、この遊離塩基を1
0%炭酸す) IJウムの添加によシ沈殿させた。レゾ
ルシン−4,6−ピスー4’−(3’。
過によシ分離した。22.8#の白色生成物が得られた
。これを加温して少量の水に溶解し、この遊離塩基を1
0%炭酸す) IJウムの添加によシ沈殿させた。レゾ
ルシン−4,6−ピスー4’−(3’。
4′−デヒドロ−2’、2’、6’、6’−テトラメチ
ルピペリジン)が得られた。融点251〜253℃。
ルピペリジン)が得られた。融点251〜253℃。
例2
50m1の乾燥ピペリジン中側1の生成物4.3.9ノ
溶液に、70℃で窒素化に9.0.9の塩化ステアロイ
ルを添加した。85℃で約30時間攪拌後、ヒヘリジン
を蒸留除去した。150m1のエーテルを添加すると、
生成物がヒドロクロリドとして固体状で得られた。沈殿
を濾過によ#)i、離し、8.41!のベージュ色の粉
末を得た。これをクロロホルム中に取シ10%炭酸ナト
リウム溶液で洗浄(31) してアルカリ性とした。次にクロロホルム層を水洗し、
シリカアース(5ilica earth )で処理し
、減圧下に蒸発乾固した。残留物をベンゼンに溶解し一
夜間放置し、再び濾過した。減圧下にベンゼンを蒸発後
9.29の1,3−ジステアロイルオキシ−4,6−ピ
スー4’−(3’、4’−デヒドロ−21,2′、61
6フーテトラメチルピペリジル)ベンゼンを黄色シロッ
プの形で得た。
溶液に、70℃で窒素化に9.0.9の塩化ステアロイ
ルを添加した。85℃で約30時間攪拌後、ヒヘリジン
を蒸留除去した。150m1のエーテルを添加すると、
生成物がヒドロクロリドとして固体状で得られた。沈殿
を濾過によ#)i、離し、8.41!のベージュ色の粉
末を得た。これをクロロホルム中に取シ10%炭酸ナト
リウム溶液で洗浄(31) してアルカリ性とした。次にクロロホルム層を水洗し、
シリカアース(5ilica earth )で処理し
、減圧下に蒸発乾固した。残留物をベンゼンに溶解し一
夜間放置し、再び濾過した。減圧下にベンゼンを蒸発後
9.29の1,3−ジステアロイルオキシ−4,6−ピ
スー4’−(3’、4’−デヒドロ−21,2′、61
6フーテトラメチルピペリジル)ベンゼンを黄色シロッ
プの形で得た。
例3
100Tnlの無水エタノールに1.15.9の金属ナ
トリウムヲ添加してナトリウムエトキシドの溶液を調製
し、9.6.9の例1の生成物及び10gの臭化オクチ
ル(98%)&80℃で添加した。80Cで19時間攪
拌後、溶液を濾過し、濾液を蒸発させた。生成物である
レゾルシン−4,6−ビス−4′=(3/、4/−デヒ
ドロ−2’、2’、6’、6’−テトラメチルピペリジ
ン)ジオクチルエーテルをカームクロマトグラフィによ
レゾルシンとして7草 離した。
トリウムヲ添加してナトリウムエトキシドの溶液を調製
し、9.6.9の例1の生成物及び10gの臭化オクチ
ル(98%)&80℃で添加した。80Cで19時間攪
拌後、溶液を濾過し、濾液を蒸発させた。生成物である
レゾルシン−4,6−ビス−4′=(3/、4/−デヒ
ドロ−2’、2’、6’、6’−テトラメチルピペリジ
ン)ジオクチルエーテルをカームクロマトグラフィによ
レゾルシンとして7草 離した。
例4〜13
例1,2及び3と同様にして、下記式の生成物(32)
を得ることができた。
上式中、R及びR1は共にそれぞれ同一であって下記表
Iに示す意味を有する。
Iに示す意味を有する。
以下余白
表■
例14
例2の生成物10gを150m1の氷酢酸に溶解し、1
.5#のラネイニッケル上に1時間放置した。
.5#のラネイニッケル上に1時間放置した。
ニッケル触媒を濾過によシ除去し、次に溶液を室温にお
いて、39の活性炭上5%バラジュームの存在下に10
気圧で水素化した。水素の吸収が終了した時に、触媒を
濾別し、濾液を蒸発乾固し、10%炭酸ナトリウム溶液
の添加によジアルカリ性にした。生成物はレゾルシン−
4,6−ピスー4′−(2/、2/、6/、6/−テト
ラメチルピペリジン)であシ融点は300℃よシ高かっ
た 例15〜26 例14と同様にして水素化し、例2〜13の生成物を飽
和ピペリジン環を有する対応化合物に変成した。
いて、39の活性炭上5%バラジュームの存在下に10
気圧で水素化した。水素の吸収が終了した時に、触媒を
濾別し、濾液を蒸発乾固し、10%炭酸ナトリウム溶液
の添加によジアルカリ性にした。生成物はレゾルシン−
4,6−ピスー4′−(2/、2/、6/、6/−テト
ラメチルピペリジン)であシ融点は300℃よシ高かっ
た 例15〜26 例14と同様にして水素化し、例2〜13の生成物を飽
和ピペリジン環を有する対応化合物に変成した。
例27
96gの例14の生成物ケ80℃において6004のピ
リジンに溶解し、この温度で32.4.9の塩化ステア
ロイルを添加した。85″′℃で22時間攪拌後、ピリ
ジンを蒸発除去した。ベンゼンを添加(35) すると、生成物がヒドロクロリドとして沈殿した。
リジンに溶解し、この温度で32.4.9の塩化ステア
ロイルを添加した。85″′℃で22時間攪拌後、ピリ
ジンを蒸発除去した。ベンゼンを添加(35) すると、生成物がヒドロクロリドとして沈殿した。
沈殿を分離し、酢酸エチルの存在下に熱水に溶解し、1
0チ炭酸ナトリウム水溶液でアルカリ性にした。有機層
を分離し、蒸発させ、残留物をアセトン中に取シ、濾過
し、乾燥した。■、3−ジステアロイルオキシー4,6
−ビス−4L(2/、2/、51.(31−テトラメチ
ルピペリジニル)ベンゼンを樹脂の形で得た。
0チ炭酸ナトリウム水溶液でアルカリ性にした。有機層
を分離し、蒸発させ、残留物をアセトン中に取シ、濾過
し、乾燥した。■、3−ジステアロイルオキシー4,6
−ビス−4L(2/、2/、51.(31−テトラメチ
ルピペリジニル)ベンゼンを樹脂の形で得た。
例28
19.4F+7)例140生成物及び20.3IIの臭
化n−オクチルを100m1の無水アルコール中2.3
Iのナトリウムに添加した。80℃で67時間攪拌後、
混合物を熱時濾過し、濾液を冷却した。得られた沈殿を
単離し、ヘキサン中に取シ脱色した。
化n−オクチルを100m1の無水アルコール中2.3
Iのナトリウムに添加した。80℃で67時間攪拌後、
混合物を熱時濾過し、濾液を冷却した。得られた沈殿を
単離し、ヘキサン中に取シ脱色した。
溶剤を蒸発後、レゾルシン−4,6−ピスー4’−(2
’。
’。
2′、616′−テトラメチルピペリジン)ジオクチル
エーテルを得た。融点73〜77℃。
エーテルを得た。融点73〜77℃。
例29〜31
例27〜28と同様にして、下記式の生成物を得た。
(36)
上式中、R1は共に同一であって下記の表Iに示す意味
を有する。
を有する。
表1
例32
ジアセテートの形の例14の生成物6.76#及び2.
95.9のセパシン酸(98チ)を−諸に、200℃で
2時間、窒素下に攪拌した。反応の間に遊離した酢酸を
回収した。次に反応混合物を(37)
AQら 1 am IQの真空下、180℃で更に6時間攪拌し
た。
95.9のセパシン酸(98チ)を−諸に、200℃で
2時間、窒素下に攪拌した。反応の間に遊離した酢酸を
回収した。次に反応混合物を(37)
AQら 1 am IQの真空下、180℃で更に6時間攪拌し
た。
生成物はポリ−レゾルシン−4,6−ピスー4′−(2
′。
′。
2/、6/、6/−テトラメチルピペリジン)セパケー
トであシ、融点は129〜131℃、蒸気圧測定によシ
決定された分子量は2400であった0例33 例32と同様にし、但しセパチン酸のかわシにアジeノ
酸を用いて、対応するポリマーアジペートを得た。融点
158〜165℃。分子量16700例34 例32と同様にし、但しセパチン酸のかわシにn−デカ
ン−1,10−ジカル?ン酸を用いて、対応する高分子
量デカン−1,10−ジカル?キシレートを得た。融点
127〜130℃。分子量2320゜適用例A 0.5重量%の例27の化合物をニーダ−中180℃に
てポリプロピレン(紫外線安定剤を含まず)甲に配合し
た。得られた混合物を3m+厚のプレートにプレスし、
又0.3m厚のフィルムとした。フィルムをキセノンラ
ンプを有するアトラス(3B) ウエザーオメーターwRC600中で照射し、紫外光に
よシ生じた損傷全5.8ミクロンにおけるIRカルがキ
シルバンド吸収の強度の増加により測定した。試験法D
IN 53453に従って、3鵡のプレートからカット
したサンプルの衝撃強度の変化を、アトラスウエザーオ
メーターの露光後に測定した。
トであシ、融点は129〜131℃、蒸気圧測定によシ
決定された分子量は2400であった0例33 例32と同様にし、但しセパチン酸のかわシにアジeノ
酸を用いて、対応するポリマーアジペートを得た。融点
158〜165℃。分子量16700例34 例32と同様にし、但しセパチン酸のかわシにn−デカ
ン−1,10−ジカル?ン酸を用いて、対応する高分子
量デカン−1,10−ジカル?キシレートを得た。融点
127〜130℃。分子量2320゜適用例A 0.5重量%の例27の化合物をニーダ−中180℃に
てポリプロピレン(紫外線安定剤を含まず)甲に配合し
た。得られた混合物を3m+厚のプレートにプレスし、
又0.3m厚のフィルムとした。フィルムをキセノンラ
ンプを有するアトラス(3B) ウエザーオメーターwRC600中で照射し、紫外光に
よシ生じた損傷全5.8ミクロンにおけるIRカルがキ
シルバンド吸収の強度の増加により測定した。試験法D
IN 53453に従って、3鵡のプレートからカット
したサンプルの衝撃強度の変化を、アトラスウエザーオ
メーターの露光後に測定した。
いずれの場合にも得られた結果は未安定化ポリマーを用
いたものよシも良好であった。
いたものよシも良好であった。
適用例B
下記の組成を有する二層メタリック仕上を調製した。
a)ペースコート
126部の、DIN53186に規定した架橋剤を添加
した、市販のポリアクリレート樹脂(ViacrylS
C344,Vlanova、Vlenna+キシレン/
ブタノール4:1中の50%溶液として供給) 2.19部の、中度の反応性の、1モルのメラミンと3
〜6モルのホルムアルデヒドとの縮合によ・1ニ ジ調製され、1MN53187に従って3〜6モルのブ
タノールでエーテル化された市販のブタノール−(39
) エテル化メラミン樹脂(Maprenal MF80
0 +Caaella+インブタノール中の72チ溶液
として供給) 0.96部のブタノール 0.26部のコロイド珪酸 7.05部のクシレン 52−0部の、下記の組成の20%セルロースアセテー
トブチレート溶液: 20チセルロースアセテートブチレート(アセチル含量
13.6%、ブチリル含−738.7%、ヒドロキシル
含−1ij 1.25%、アセトン中の20%溶液の粘
1μ二200cp) 10チブタノール 35チキシレン 35チ酢酸ブチル 680部の、DIN55923に従いアルキルグリコー
ルアセテート中65%懸濁液として供給される、非薄片
化アルミニウムペースト 1814部の酢酸ブチル 0.3部の銅フタロシアニンブルー(C,1,ビグメ(
40) ントプルー15:1) b) )ツブコート so、oo部のポリアクリレート樹脂(ペースコートと
同一) 13.75部のメラミン樹脂(ベースコートト同一)4
50部のグリコール酸ブチル 7.50部の芳香族炭化水素溶剤(沸点186〜212
℃) 600部の芳香族炭化水素溶剤(沸点155〜178℃
) C)適用 ペースコートを下塗シした金属プレートに、紫外線安定
剤を用いることなくスプレーによ如適用して約20μm
厚さの層を与えた。ペースコートを乾燥後、プレートを
1)紫外線安定剤を含量ない上記b)のトップコート又
は11)1部(すなわち1重量%)の例27の化合物(
キシレン中80%の溶液として添加)を含む上記b)の
トップコートでスプレーし、140℃で30分間焼1−
・jけた。
した、市販のポリアクリレート樹脂(ViacrylS
C344,Vlanova、Vlenna+キシレン/
ブタノール4:1中の50%溶液として供給) 2.19部の、中度の反応性の、1モルのメラミンと3
〜6モルのホルムアルデヒドとの縮合によ・1ニ ジ調製され、1MN53187に従って3〜6モルのブ
タノールでエーテル化された市販のブタノール−(39
) エテル化メラミン樹脂(Maprenal MF80
0 +Caaella+インブタノール中の72チ溶液
として供給) 0.96部のブタノール 0.26部のコロイド珪酸 7.05部のクシレン 52−0部の、下記の組成の20%セルロースアセテー
トブチレート溶液: 20チセルロースアセテートブチレート(アセチル含量
13.6%、ブチリル含−738.7%、ヒドロキシル
含−1ij 1.25%、アセトン中の20%溶液の粘
1μ二200cp) 10チブタノール 35チキシレン 35チ酢酸ブチル 680部の、DIN55923に従いアルキルグリコー
ルアセテート中65%懸濁液として供給される、非薄片
化アルミニウムペースト 1814部の酢酸ブチル 0.3部の銅フタロシアニンブルー(C,1,ビグメ(
40) ントプルー15:1) b) )ツブコート so、oo部のポリアクリレート樹脂(ペースコートと
同一) 13.75部のメラミン樹脂(ベースコートト同一)4
50部のグリコール酸ブチル 7.50部の芳香族炭化水素溶剤(沸点186〜212
℃) 600部の芳香族炭化水素溶剤(沸点155〜178℃
) C)適用 ペースコートを下塗シした金属プレートに、紫外線安定
剤を用いることなくスプレーによ如適用して約20μm
厚さの層を与えた。ペースコートを乾燥後、プレートを
1)紫外線安定剤を含量ない上記b)のトップコート又
は11)1部(すなわち1重量%)の例27の化合物(
キシレン中80%の溶液として添加)を含む上記b)の
トップコートでスプレーし、140℃で30分間焼1−
・jけた。
露光試験後(フロリダにおいて1年)の結果トラ(41
) Aす7プコー)ii)でコ
ーティングしたプレートについて優れた結果を得た。
) Aす7プコー)ii)でコ
ーティングしたプレートについて優れた結果を得た。
例14〜26及び28〜34の化合物を適用例A及びB
と同様にして用いることができた。
と同様にして用いることができた。
竹許出願人
サンド アクチェンrゼルシャフト
特許出願代理人
弁理士 青 木 朗
弁理士西舘和之
弁理士 吉 田、 維 夫
弁理士 山 口 昭 之
(42)
第1頁の続き
優先権主張 @1981年8月17日■西ドイツ(DE
)CP 3132420.7 @1981年12月lO日■西ドイツ (I)E)■P3148921.4 438−
)CP 3132420.7 @1981年12月lO日■西ドイツ (I)E)■P3148921.4 438−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.1.3−ジヒPロキシー4.6−ピスー4′、
−(2’、 2’、 6’、 6’−テトラメチルペ
ピリジル)ロキシ基の橋架は基を介する結合にょシ、誘
導されたモノマー又はポリマー生成物。 2、下記式■で示される化合物。 上式中、Rは水素、置換されていないか又は1個のヒド
ロキシもしくは−000(01〜8アルキル)基によ多
置換された01〜12 アルキル、アリル又はベンジ
ルを表わし、nは0又は1〜20を表わし、Aは02〜
18アルキレン又は下記A)〜C)、(式中、X1ハ直
接結合、02〜14アルキレン、C又はC3アルキレン
、ヒドロキシエチレン、酸素及び/又は硫黄によシ介在
されたC2〜2oアルキレン、フェニレン、ジフェニレ
ン又ハゲリコールと過剰のジカルボン酸との反応によ)
誘導されたポリエステル基を表わし、X2はC2〜、2
アルキレン、フェニレン、ジフェニレン又はジフェニレ
ンメタンを表わし、X3はC2〜、2アルキレン、フエ
ニレン又は−G−x4−C)−(ここでX4kiメチレ
ン、酸素又は−C(CH3)2− を表わす)を表わす
)で示される基を表わし、R1は水素、置換されていナ
イカ又は(01〜18アルコキシ〕カルボニル、C1〜
6アルコキシもしくは(01〜6アルキル)力klニル
によ多置換されたC アルキル、1〜20 C2N2oアルケニル、C5,2oアルギニル、C52
,2シクロアルキル、フェニル(C1〜12アルキル)
又は式、 *) −C−0−Xs −OH、、;(上式中、R2
は置換されていないが又は(c1〜18アルコキシ)カ
ルボニル、C1,6アルコキシもしくハ(C1〜6アル
キル)カルボニルによ多置換されたC アルキル、C
アルケニル、C3〜2゜1〜20
2〜20アルキニル、Cシクロアルキル、フェニル5
〜12 (C1〜、2アルキル)又はフェニルを表わし、これら
のフェニル環は置換されていないか又は1個又は2個の
C1〜8アルキル基及び/又は1個のヒドロキシル基に
より置換されていてもよく、R3は水素又はC4〜4ア
ルキルを表わし、R4は水素、Cアルキル、Cシクロア
ルキル、フェニ1〜20 5〜1
2ル又はナフチルを表わし、Rは水素、C1〜6アルコ
キシ又はC1〜6アルギルチオヲ表わL、R。 Xl、X2及びX3は前記規定に同一のものを表わすう
で示される基を表わす。 3、 Rが水素である特許請求の範囲第2項記載の化
合物。 4、 nがOである特許請求の範囲第1〜3項のいず
れかに記載の化合物。 5、R1かR1/aすなわち特許請求の範囲第2項に規
定したごとき未置換もしくは置換01〜2oアルキル又
は特許請求の範囲第2項に規定したごとき式d)又はe
)の基である特許請求の範囲第4項記載の化合物。 6、R1が式d)においてR2がR2tすなわちC1〜
18アルキル、アリル、メタリル、プロパルギル、メチ
ルゾロパルギル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベ
ンジル、α、α−ツメチルベンジル、α−メチルベンジ
ル、フェニル、トリル、ナす)であるような基である特
許請求の範囲第5項記載の化合物。 7、 Rが弐〇)においてR3が水素であ、D、R4
がC1〜2oアルキル又はフェニルであるような基であ
る特許請求の範囲第5項記載の化合物。 8、 nが1〜20である特許請求の範囲第1〜3項
のいずれかに記載の化合物。 9、R1がR1′aすなわち水素、(C4〜18アルキ
ル)カルボニル、又は特許請求の範囲第2項に規定した
ごとき弐g) 、 h)又はりの基である特許請求の範
囲第8項記載の化合物。 10、 R1が水素である特許請求の範囲第9項記載の
化合物。 11、AがA′すなわち特許請求の範囲第2項に規定し
たごとき式a) 、 b)又はC)の基である特許請求
の範囲第8〜10項のいずれかに記載の化合物。 12、AがA”すなわち特許請求の範囲第2項に規定し
たごとき式a)又はb)の基である特許請求の範囲第1
1項記載の化合物。 13、下記式Hbで示される化合物。 上式中、Rlbは特許請求の範囲第9項の規定に同一の
ものを表わし、A′は特許請求の範囲第11項の規定に
同一のものを表わす。 14、下記式1b/で示される化合物。 上式中、A“は特許請求の範囲第12項の規定に同一の
ものを表わす。 15、例14〜31のいずれかに記載したごとき特許請
求の範囲第1項記載の化合物。 16、式Iの化合物を製造するにあたシ、下記式■、 で示される化合物を水素化し、そしてnがOよシも大き
いか又はR7が水素以外のものである場合には、その生
成物を公知の方法で導入されるべき基R1又は橋架は基
Aの適当な単官能価又は二官能価誘導体と反応させるこ
とによシ製造する方法。 17、例のいずれかに記載したごとき式Iの化合物の製
造方法・ 18、下記式で下される化合物 上式中、R及びR1は特許請求の範囲第2項の規定に同
一のものを表わす。 19、 11が水素である特許請求の範囲第18項記載
の化合物。 20、例1〜13のいずれかに記載したごとき特許請求
の範囲第18〜19項のいずれかに記載のンとを酸性媒
体中で反応させそして、Rが水素以外のものである場合
には、その生成物tN−アルキル化することによる、特
許請求の範囲第19項記載の化合物の製造方法。 2、特許請求の範囲第1〜15項のいずれかに記載の化
合物0,01〜5重に%を安定化されるべきポリマー材
料中に配合することを含んでなる高分子有機材料を光及
び熱の作用に対して安定化する方法。 詔、ポリマー材料が熱可塑性ポリマーである特許請求の
範囲第22項記載の方法。 24、化合物が浴融混合による配合される特許請求の範
囲第23項記載の方法。 25、化合物が20〜80重量%の化合物と80〜20
重量%の、安定化されるべきポリマー材料と同一である
か又はこれと相容性の、固体ポリマー材料とを含む固体
マスターバッチ組成物の形で添加される特許請求の範囲
第24項記載の方法。 26、ポリマー材料が自動車用仕上塗装である特許請求
の範囲第22項記載の方法。 2、特許請求の範囲第1〜15項のいずれかに記載の化
合物0.01〜5重量%を含む、日光及び熱の作用に対
して安定化されたポリマー拐料。 詔、ポリマー材料がポリプロピレン、ポリエチレン、エ
チレン/プロピレンコポリマー又ハABsである特許請
求の範囲第27項記載の安定化されたポリマー材料。 29.20〜80重量%の式Iの化合物及び80〜20
](量チの固体熱可塑性を含む固体マスターパッチ組成
物。 30、特許請求の範囲第1〜15項のいずれかに記載の
化合物0,02〜5重量%を含む、金属表面に通用する
ための液体焼付は自動車用仕上塗料。 31、特許請求の範囲第1〜15項のいずれかに記載の
化合物0.02〜5N量チを含む、二層メタリック仕上
塗装において透明トップコートとして適用するための液
体焼付は自動車用仕上塗料。 32、適用例Bに記載したごとき、特許請求の範門弟1
〜15項のいずれかに記載の化合物を含む液体焼付は自
動車用仕上塗料。 33、特許請求の範囲第30〜32項のいずれかに記載
の液体仕上塗料を適用し、焼付けすることによシ得られ
た硬化された自動車仕上塗装。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE31266045 | 1981-07-06 | ||
DE3126604 | 1981-07-06 | ||
DE31324207 | 1981-08-17 | ||
DE31489214 | 1981-12-10 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5832864A true JPS5832864A (ja) | 1983-02-25 |
Family
ID=6136221
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57115621A Pending JPS5832864A (ja) | 1981-07-06 | 1982-07-05 | ポリアルキルピペリジン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5832864A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59232152A (ja) * | 1983-06-16 | 1984-12-26 | Kazunobu Shibata | 塗料 |
-
1982
- 1982-07-05 JP JP57115621A patent/JPS5832864A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59232152A (ja) * | 1983-06-16 | 1984-12-26 | Kazunobu Shibata | 塗料 |
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