JPH0784425B2 - オキサニリド誘導体 - Google Patents

オキサニリド誘導体

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JPH0784425B2
JPH0784425B2 JP62079828A JP7982887A JPH0784425B2 JP H0784425 B2 JPH0784425 B2 JP H0784425B2 JP 62079828 A JP62079828 A JP 62079828A JP 7982887 A JP7982887 A JP 7982887A JP H0784425 B2 JPH0784425 B2 JP H0784425B2
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alkyl group
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アバール ラヨス
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サンド アクチエンゲゼルシヤフト
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
    • C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D211/56—Nitrogen atoms
    • C07D211/58—Nitrogen atoms attached in position 4

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は高分子材料における紫外線吸収剤として有用な
オキサニリド誘導体に関する。
本発明に従って、式Ｉ 〔式中、各々のＲ基は、他とは無関係に、水素原子、C
1-8アルキル基、C1-8アルコキシ基若しくはハロゲン原
子であるか、又は両Ｒ基が相互にオルト位置にある諸炭
素原子に結合しそしてその両Ｒ基の結合している諸炭素
原子と共に炭素環式基若しくは複素環式基を形成してお
り、 ｎは１又は２であり、 R1は−OCH2−CO−Ｘ−R4であり、ここでＸは−Ｏ−又は
−Ｎ（R3）−であり、 R4は線状又は枝分かれC1-22アルキル基、 C5-6シクロアルキル基又は であり、 R3は水素原子又はC1-4アルキル基であり、 R5は水素原子、酸素原子、C1-8アルキル基又は−CO−R6
であり、 R6はC1-6アルキル基、フェニル基、−CO−Ｏ−C1-4アル
キル基又は−NR7R8であり、 R7は水素原子、C1-12アルキル基、C5-6シクロアルキル
基、フェニル基又はC1-12アルキルフェニル基であり、 R8は水素原子又はC1-12アルキル基であり、 各々のR10は、他とは無関係に、水素原子、ハロゲン原
子、C1-4アルキル基、C2-4アルケニル基、C1-8アルコキ
シ基、フェノキシ基、フェニル基、フェニルC1-4アルキ
ル基又はC1-4アルキルフェニル基から選ばれたものであ
り、そして 各々のR11は、他とは無関係に、R10又はR1とは無関係に
R10又はR1の意味をもち、 又は両R11基が水素原子でありそして両R10基が相互にオ
ルト位置にある諸炭素原子に結合しそしてその両R10基
の結合している諸炭素原子と共に炭素環式基又は複素環
式基を形成しており、この場合に、好ましくは両R10基
がそれらの結合しているフェニル基と一緒になって９又
は10員の炭素環式基又は複素環式基、一層好ましくは式
α又はβ の基を形成している〕 で表される化合物が提供される。
本明細書において疑いを避けるために、１つの式におい
て１つの記号が２度以上でてく場合には、それぞれの意
味は特に断らない限りは相互に他とは無関係である。本
明細書において、特に断らない限りは、C1-8アルキル基
は好ましくはC1-4アルキル基であり、C1-4アルキル基は
好ましくはメチル基又はエチル基であり、C1-4アルコキ
シ基は好ましくはメトキシ基又はエトキシ基であり、そ
してハロゲン原子は好ましくは塩素原子又は臭素原子で
ある。
好ましくはｎは１である。
好ましくはＲはＲ′であり、ここでＲ′は水素原子又は
C1-4アルコキシ基である。
好ましくはR1はR1′であり（ここでR1′は−Ｏ−CH2COO
R4′であり）、一層好ましくはR1はR1″であり（ここで
R1″は−Ｏ−CH2COOR4″であり）、最も好ましくはR1は
R1であり（ここでR1は−Ｏ−CH2COOR4であり）、
この場合にR4′,R4″及びR4は後記で定義する通りで
ある。
好ましくは両Ｒ基が複素環式基又は炭素環式基を形成し
ている時には、両Ｒ基はそれらの結合しているフェニル
基と一緒になって９又は10員の基、一層好ましくは前記
で定義した式α又はβの基を形成している。
好ましくは少なくとも１つのR1（若しくはR1′）及び／
又はR11（若しくはR11′）は式Ｉのオキサニリドにおけ
る同一のフェニル環上の−NH−基に対してオルトの位置
にある。
好ましくはR3はR3′であり、このでR3′は水素原子又は
メチル基であり、一層好ましくは水素原子である。
R4がC5又はC6シクロアルキル基である場合には、好まし
くはR4はシクロヘキシル基である。
好ましくはR4はR4′（ここでR4′は線状若しくは枝分か
れC1-12アルキル基、又はＮ−非置換、Ｎ−メチル若し
くはＮ−アセチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
である）、一層好ましくはR4″（ここでR4″は線状若し
くは枝分かれC1-8アルキル基、又はＮ−非置換、Ｎ−メ
チル若しくはＮ−アセチル−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジンである）、最も好ましくはR4〔ここでR4は
iso−C3-8アルキル基｛殊に−CH2−CH（C1-2アルキル）
〔（CH2）1-3CH2〕n-1｝Ｈ（ここでｎは１又は２であ
る）、又はＮ−非置換2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ンである〕である。
好ましくはR5はR5′であり、ここでR5′は水素原子又は
C1-4アルキル基又は−CO−C1-4アルキル基である。
好ましくはR10はR10′であり、ここでR10′は水素原
子、塩素原子、C1-4アルキル基、C1-4アルコキシ基、フ
ェニル基又はフェノキシ基である。一層好ましくはR10
はR10″であり、ここでR10″は水素原子又はC1-4アルコ
キシ基である。
好ましくはR11はR11′であり、ここでR11′はR1′又はR
10′とは無関係にR1′又はR10′であり、一層好ましく
はR11はR11″であり、ここでR11″はR1′とは無関係にR
1′の意味である。
好ましくはＸは酸素原子である。
式Ｉの好ましい化合物の一群は式II （式中、ｎ、Ｒ′、R1′、R10′及びR11″は上記で定義
した通りである） の化合物である。
好ましくは式IIの化合物においてｎ＝１である。
好ましくは式IIの化合物は対称である。
好ましい化合物の他の群は式III （式中、Ｒ′、R1′、ｎ、R10′及びR11′は上記で定義
した通りである） の非対称化合物である。
好ましくは式IIIの化合物においてｎ＝１である。
式Ｉの化合物は式IV の化合物１モルと式Ｖ （式中、R13はハロゲン原子、好ましくは塩素原子であ
り、その他の記号は前記で定義した通りである） の化合物ｎモルとを反応させることによって調製するこ
とができる。
好ましくは式IVの化合物と式Ｖの化合物との反応は20〜
200℃、一層好ましくは40〜110℃の温度で実施すること
ができる。好ましくはその反応はアルカリ性媒体中で、
一層好ましくは８〜13のpHで、最も好ましくは９〜12の
pHで実施される。式IV及び式Ｖの化合物は公知である
か、又は公知の方法によって公知の化合物から調製する
ことができる。
更に、本発明に従って、高分子材料及び前記で定義した
式Ｉの化合物を含む組成物が提供される。
好ましくは本発明の組成物は、その高分子材料がアクリ
ルアルキド樹脂又はポリエステル樹脂であるラッカー組
成物である。そのようなラッカー組成物は金属質の１層
若しくは２層ラッカー組成物又は１層若しくは２層ユニ
・ラッカー組成物であることができる。
好ましくは本発明のラッカー組成物は焼付ラッカー組成
物である。
式Ｉの化合物は光分解に対して高分子材料を保護するた
めに安定剤として有用である。その化合物は溶剤系及び
液体ポリマー並びにプレポリマー中において特に良好な
溶解性及び混和性をもち、この特性はその化合物を広範
囲の高分子材料に使用可能とする。
高分子材料中に用いられる式Ｉの化合物の濃度は適当に
は0.01〜５重量％、好ましくは0.02〜１重量％である。
その化合物は重合工程の前、重合工程中又は重合工程の
後に添加してもよく、また固体形態で、溶液として（好
ましくは式Ｉの化合物を20〜80重量％含有する液体濃厚
物として）、又は式Ｉの化合物20〜80重量％及び安定化
すべき高分子材料と同一又はそれと相溶性の固体高分子
材料80〜20重量％を含有する固体マスターバッチ組成物
として添加してもよい。
適した高分子材料としてはプラスチック材料、例えばポ
リエチレン、ポリプロピレン、エチレン／プロピレンコ
ポリマー、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリアミ
ド、ポリウレタン、ポリアクリロニトリル、ABS、アク
リレート、スチレン及びアクリロニトリルのターポリマ
ー、スチレン／アクリロニトリル、及びスチレン／ブタ
ジエンがある。その他のプラスチック材料、例えばポリ
ブチレン、ポリスチレン、塩素化ポリエチレン、ポリカ
ーボネート、ポリメチリメタクリレート、ポリフェニレ
ンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリアセター
ル、フェノール／ホルムアルデヒド樹脂、及びエポキシ
樹脂を用いてもよい。好ましいプラスチック材料はポリ
プロピレン、ポリエチレン、エチレン／プロピレンコポ
リマー及びABSである。天然のポリマー例えば天然ゴム
も、潤滑油含有高分子材料のように、安定化することが
できる。
式Ｉの化合は安定化すべき高分子材料中に公知の方法に
よって混和することができる。溶融状態での例えば溶融
ブレンダー中での、又は押出、射出成形、吹込成形、紡
糸又は電線被覆による造形品（箔、フィルム、チュー
ブ、容器、ボトル、ファイバー及びフォームを含む）の
成形中でのその化合物と熱可塑性ポリマーとの配合は格
別重要である。
式Ｉの化合物は光安定性ポリアミドファイバーにも用い
ることができる。
本発明の化合物との混合の前に完全に重合されているこ
とは高分子材料にとって必須ではない。その化合物はモ
ノマー、プレポリマー又は初期縮合物と混合されてもよ
く、それでその重合又は縮合反応はその後で実施されて
もよい。無論この方法は、溶融配合することのできない
熱硬化性ポリマー中にその化合物を混和させる好ましい
方法である。
式Ｉの化合物は単独で、又は特に水に担持された系にお
ける水性分散液として、又は他の光安定剤、例えば紫外
線安定剤との組み合わせで用いることができる。紫外線
安定剤の例はヒンダードアミン光安定剤、例えばＮ−非
置換又はＮ−置換（例えばアルキル又はアシル）−2,2,
6,6−テトラアルキルピペリジン化合物（特にその2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン化合物）である。そのよ
うな組み合わせは相乗効果を与える。
式Ｉの化合物は単独で又はその他の安定剤、例えば酸化
防止剤との組み合わせで用いてもよい。その例としては
立体障害フェノール、硫黄又は燐含有化合物又はこれら
の混合物がある。その例はベンゾフラン−２−オン、イ
ンドリン−２−オン、及び立体障害フェノール、例えば
β−（４−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルフェニル）
−プロピオニルステアレート、メタンテトラキス−（メ
チレン−３（３′,5′−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル−）−プロピオネート、1,1,3−トリス−（２
−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）
−ブタン、1,3,5−トリス（４−第三ブチル−３−ヒド
ロキシ−2,6−ジメチルベンジル）−1,3,5−トリアジン
−2,4,6（1H,3H,5H）−トリオン、ビス−（４−第三ブ
チル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル）−ジ
チオールテレフタレート、トリス（3,5−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、β−
（４−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルフェニル）−プ
ロピオン酸と1,3,4−トリス−（ヒドロキシエチル）−
５−トリアジン−2,4,6（1H,3H,5H）−トリオンとのト
リエステル、ビス−〔3,3−ビス−（４′−ヒドロキシ
−３−第三ブチルフェニル）酪酸〕グリコールエステ
ル、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス−（3,5−ジ第
三ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジル）ベンゼン、2,
2′−メチレン−ビス−（４−メチル−６−第三ブチル
−フェニル）テレフタレート、4,4−メチレン−ビス−
（2,6−ジ第三ブチルフェノール）、4,4′−ブチリデン
−ビス−（第三ブチル−メタクレゾール）、2,2′−メ
チレン−ビス−（４−メチル−６−第三ブチル）フェノ
ールである。
用いることのできる硫黄含有酸化防止補助安定剤として
は例えばジステアリルチオジプロピオネート、ジラウリ
ルチオジプロピオネート、メタンテトラキス−（メチレ
ン−３−ヘキシル−チオプロピオネート）、メタンテト
ラキス−（メチレン−３−ドデシル−チオプロピオネー
ト）及びジオクタデシルジスルファイドがある。燐含有
補助安定剤としては例えばトリノニルフェニルホスファ
イト、4,9−ジステアリル−3,5,8,10−テトラオキサジ
ホスファスピロウンデカン、トリス−（2,4−ジ第三ブ
チルフェニル）ホスファイト及びテトラキス（2,3−ジ
第三ブチルフェニル）−4,4′−ビスフェニレンジホス
ホナイトがある。その上の添加剤、例えばアミノアリー
ル化合物及び紫外線吸収剤及び光安定剤、例えば２−
（２′−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、
２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、1,3−ビス−（２′
−ヒドロキシベンゾイル）ベンゼン、サリチレート、シ
ンナメート、ベンゾエート及び置換ベンゾエート、立体
障害アミン及び修酸ジアミンを用いることができる。そ
の他の公知のタイプの添加剤、例えば難燃剤及び帯電防
止剤も添加することができる。
本発明の化合物は、光重合のための光開始剤を含有する
感光性高分子基材に用いることもできる。
式Ｉの化合物は有機ポリマー含有コーティング、特に自
動車の仕上げ塗料に用いるのに特に適している。
自動車の仕上げ塗料は一般的に、有機溶剤中の有機ポリ
マー又はポリマー先駆物質の溶液又は分散液である。そ
の大部分は焼き付け仕上げ塗料であり、これはプライマ
ー被覆された金属表面に塗布された後に許容できる時間
内でその仕上げ塗料を硬化させるために、一般的には80
℃以上の加熱を必要とする。その硬化工程は酸触媒の使
用によって促進することができる。この加熱の効果は熱
硬化系におけるポリマー先駆物質間の化学反応を促進す
ること、又は熱可塑性ポリマー粒子の溶融をもたらすこ
とであり得る。
多くの自動車の仕上げ塗料は金属光沢仕上げ塗料であ
り、これは、反射に起因する光学効果を提供するため
に、金属、普通にはアルミニウムのフレークを含有す
る。そのような仕上げ塗料はしばしば２層仕上げ塗料で
あり、この場合に、単一の顔料又は金属フレークを含有
している下塗り仕上げ塗料の上に透明な表面処理仕上げ
塗料を塗布する。式Ｉの化合物は表面処理仕上げ塗料中
に又は下塗り仕上げ塗料中に、好ましくは前者中に存在
することができる。そのような２層金属光沢仕上げ塗料
は表面処理仕上げ塗料中に紫外線安定剤を特に必要とす
る。何故ならば、この表面処理仕上げ塗料中のポリマー
は光吸収性顔料によって保護されておらず、それで下方
金属光沢層からの光の反射の故に通常の照射量殆ど２倍
の照射を受けるからである。
式Ｉの化合物は広範囲の液体仕上げ塗料、例えばメラミ
ン−ホルムアルデヒド樹脂と油変性ポリエステル樹脂、
架橋剤の添加されているポリアクリレート樹脂、又は飽
和ポリエステルとの組み合わせ系；又は自己架橋剤、又
は飽和ポリエステル系；又は自己架橋したポリアクリレ
ート系又はスチレンと共重合したポリアクリレート系、
に紫外線安定剤として用いるのに適している。
その上の例は脂肪族又は芳香族ジイソシアネートとヒド
ロキシ基含有ポリアクリレート、ポリエステル又はポリ
エーテル樹脂とに基づく２成分仕上げ塗料である。これ
らのポリウレタン２成分仕上げ塗料は好ましくは60〜12
0℃で硬化する。熱可塑性ポリアクリレート樹脂も用い
ることができ、後者が金属光沢仕上げ塗料に特に有用で
あり、架橋剤の添加されているポリアクリレート樹脂と
ブタノールでエーテル化されているメラミン−ホルムア
ルデヒド樹脂との組み合わせ、更には脂肪族ジイソシア
ネートで硬化されているヒドロキシ基含有ポリアクリレ
ート樹脂も同様である。そのようなポリアクリレート樹
脂は米国特許第3,062,753号に記載されており、その記
載内容は参照文として本明細書に含まれるものとする。
式Ｉの化合物は、酸で触媒された焼き付け仕上げ塗料
に、特に２層金属光沢仕上げ塗料の表面処理仕上げ塗料
に特に有用である。
式Ｉの化合物は仕上げ塗料にその製造の任意の段階で添
加してもよく、固体形態で又は溶液として、好ましくは
適した溶剤中の液体濃厚物の形態で又は水又は溶剤中の
分散液の形態で添加することができる。
実際には、式Ｉの化合物は、結合剤材料が35重量％（低
固体含量仕上げ塗料）と70重量％（高固体含量仕上げ塗
料）との間にある有機溶剤中の溶液（液体仕上げ塗料）
としての仕上げ塗料に添加する。その仕上げ塗料の結合
剤材料は、結合剤材料部分が20〜30重量％を占める水性
エマルジョン又は懸濁液の形態（水性仕上げ塗料）であ
り得る。しかしながら、式Ｉの化合物は公知の粉末仕上
げ塗料に添加することもできる。
式Ｉの化合物は焼き付け又は硬化の前に液体又は粉末の
仕上げ塗料に添加すべきである。好ましくは式Ｉの化合
物は、正確な適用量を添加することが容易であるので液
体仕上げ塗料に用いられる。式Ｉの化合物を焼き付け用
仕上げ塗料に導入するために濃厚物の全重量の少なくと
も40重量％、好ましくは60〜80重量％の式Ｉの化合物を
含有する（好ましくは炭化水素溶剤中の）濃厚物を用い
ることが特に好ましい。
式Ｉの１種以上の化合物0.01〜５重量％、好ましくは0.
2〜２重量％を添加すると、焼き付け仕上げ塗料中の有
機顔料の光安定性及び耐候安定性を明確に改良し、並び
に屋外暴露の結果としての毛筋割れ及び光沢損失の傾向
を低下させる。このことは金属光沢仕上げ塗料について
も見いだされそれで２層金属光沢仕上げ塗料の透明な表
面処理仕上げ塗料の長期の優秀な安定性が得られる。そ
のような仕上げ塗料においては、式Ｉの化合物は金属光
沢下層、透明な表面層又はその両方に、好ましくは透明
な表面層にのみ添加することができる。仕上げ塗装すべ
き金属表面は、金属表面塗装技術で通例であるようにプ
ライマーコーティングで下塗りすることができる。
本発明を以下の諸実施例によって例証する。以下の諸実
施例において総ての部及び百分率は重量によるものであ
る。
実施例 １ 式1a （式中、両Ｒ基は である） の化合物の調製は次のように実施できる： 2,2′−ジヒドロキシオキサニリド13,6gを60〜62℃でテ
トラヒドロフラン150ml中に溶解させる。炭酸カリウム2
4.8g及び沃化カリウム1.0gを添加する。この懸濁液にク
ロル酢酸−イソオクチルエステル21.7gを30分間にわた
って滴下し、そしてこの混合物をこの温度で、完全な反
応が生じてしまったことを薄層クロマトグラフィーが示
すまで、撹拌する。次いで水を添加し、そしてその上方
有機相に分別し、次いで２回水洗する。次いでその有機
相を濃縮し、そしてその生成物をヘキサンから結晶化さ
せる。その生じた生成物は融点64〜66℃の白色粉末であ
る。
実施例 ２ 式2a の化合物の調製は次のように実施できる： ２−エトキシ−２′−ヒドロキシオキサニリド15.0gを
アセトン100mlに添加する。炭酸カリウム12.4g及び沃化
カリウム1.0gを添加し、そしてその混合物を45〜50℃に
暖める。
この温度でクロル酢酸エチルエステル6.1gを添加し、そ
の混合物を一晩撹拌する。その懸濁液を過し、そして
そのアセトン溶液を濃縮する。その残留物をトルエンか
ら結晶化させる。その生成物は融点115〜118℃の白色粉
末である。
実施例 ３〜７ 下記の表に詳記した化合物は実施例１又は２の方法と類
似の方法によって、適当な出発製品から調製することが
できる。
他の方法として、実施例７においてＮ−非置換2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン基をＮ−メチル−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン基（実施例８）又はＮ−アセチ
ル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン基（実施例９）
によって置き換えることができる。
実施例10〜16 式 （式中、R20〜R22は下記の表に定義されている） の化合物は実施例１又は２の方法と類似の方法によっ
て、適当な反応体から調整することができる。
実施例No. R20 R21 R22 10 −Ｈ −Ｈ −Ｈ 11 −C2H5 −Ｈ −Ｈ 12 −OCH3 −Ｈ −Ｈ 13 −OCH3 −OCH3 −Ｈ 14 −Ｈ −nC4H9 −Ｈ 15 −CH3 −CH3 −Ｈ 16 −OCH3 −Ｈ −CH3 実施例17 式17a の化合物は実施例１の方法と類似の方法によって、２−
エトキシ−２′,4′−ジヒドロキシオキサニリド１モル
とクロル酢酸イソオクチルエステル２モルとを反応させ
ることによって調製することができる。
実施例18 式18a の化合物は実施例17の方法によって適当な反応体から調
製することができる。
実施例19及び20 実施例１の方法と類似の方法によって適当の反応体から
式19a又は20a の化合物を調製することができる。
応用実施例Ａ 80部のViacryl SC 344（Vianova製のアクリル樹脂の50
％溶液）、 13.9部のMaprenal MF 80（Hoechst製のメラミン樹脂の7
2％溶液）及び 4.1部のByketol OK（Byk−Malinckrodt製）の透明な仕
上げ塗料を（実施例１で記載した）式1aの化合物２部に
添加する。１分後には、そのように形成された光安定剤
材料は仕上げ塗料中に溶解する。その仕上げ塗料を慣例
的に（公知の２層法にしたがって）金属光沢の又は単一
顔料の仕上げ塗装にまだ湿っている間に噴霧によって塗
布して、30〜40μ厚の層を形成させる。その生成コーテ
ィングを次いで140℃で30分間硬化させる。そのコーテ
ィングは紫外線及び屋外暴露に対して非常に良好な耐性
を示す。
応用実施例Ｂ 29.5部のSetalux C−1502 X−60（Synthese B.V.製のア
クリル樹脂の60％溶液） 39.2部のSetalux C−1328 BX−60（Synthese B.V.製の
アクリル樹脂の60％溶液） 21.4部のSetamine US−138 BB−70（Syntese B.V.製の
メラミン樹脂の70％溶液 2.5部のBaysilonoil（Bayer製、キシレン中の２％溶
液）及び 7.5部のDepanol Y（Hoechst製の溶液） の透明な仕上げ塗料を（実施例１で記載した）式1aの化
合物2.5部及び燐酸から誘導された酸触媒（タイプ:Amer
ican Cyanmid製触媒296−９）２部と一緒に撹拌して均
質混合物を生成させる。その仕上げ塗料を慣例的に（公
知の２層法にしたがって）金属光沢の又は単一顔料の仕
上げ塗装にまだ湿っている間に噴霧によって塗布して、
30〜40μ厚の層を形成させる。その生成コーティングを
次いで110℃で20分間硬化させる。そのコーティングは
紫外線及び屋外暴露に対して非常に良好な耐性を示す。
応用実施例Ｃ 75部のMacrynal SH 510 N（Bayer製のヒドロキシ含有ア
クリル樹脂） ２部のBaysilon−オイルＡ（Bayer製、キシレン中の１
％溶液） 0.3部のジブチル亜鉛ジラウレート 0.35部のジエタノールアミン 5.0部の酢酸エチルグリコール 5.0部のSolvesso 100 6.0部のキシレン及び 6.35部の酢酸ブチル の透明な仕上げ塗料を（実施例１で記載した）式1aの化
合物23.5部及びDesmodur N 75（Bayer製）30部に添加す
る。その生成された均質混合物を慣例的に（公知の２層
法にしたがって）金属光沢の又は単一顔料の仕上げ塗装
に、その両者がまだ湿っている間に噴霧によって塗布し
て、30〜40μ厚の層を形成させ、その生成コーティング
を80〜90℃で20分間硬化させる。その生成2K−PURコー
ティングは紫外線及び屋外暴露に対して良好な耐性を示
す。
応用実施例Ｄ 14.30部のSetamine US−132 BB 70（Synthese製のメラ
ミン樹脂の70％溶液） 57.15部のSetal 84 W−70（Synthese製のアルキド樹脂
の70％溶液） 7.70部のｎ−ブタノール 1.85部の酢酸ブチルグリコール 9.50部のキシレン及び 25部の二酸化チタン（ルチル形） の単一白色顔料入り仕上げ塗料を式1a（実施例１参照）
の製品1.38部に添加する。その仕上げ塗料を、層厚20〜
30μの目止剤のアニール処理されている下塗されたスチ
ール金属に噴霧によって慣例的に塗布し、そして室温で
30分間放置した後にそのスチール金属表面を120℃で30
分間アニール処理する。その生成コーティングは紫外線
及び屋外暴露に対して非常に良好な耐性を示す。
応用実施例Ａ〜Ｄにおいて、式1aの製品の代わりに適当
量の実施例２〜20のいずれか１つの製品を用いることが
できる。
上記の応用実施例において疑いを避けるために、式Ｉの
化合物の代わりに適当量の実施例２〜20の製品の１種以
上を用いることができる。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】式Ｉ 〔式中、各々のＲ基は、他とは無関係に、水素原子、C
    1-8アルキル基、C1-8アルコキシ基若しくはハロゲン原
    子であるか、又は両Ｒ基が相互にオルト位置にある諸炭
    素原子に結合しそしてその両Ｒ基の結合している諸炭素
    原子と共に炭素環式基若しくは複素環式基を形成してお
    り、 ｎは１又は２であり、 R1は−OCH2−CO−Ｘ−R4であり、ここでＸは−Ｏ−又は
    −Ｎ（R3）−であり、 R4は線状又は枝分かれC1-22アルキル基、 C5-6シクロアルキル基又は であり、 R3は水素原子又はC1-4アルキル基であり、 R5は水素原子、酸素原子、C1-8アルキル基又は−CO−R6
    であり、 R6はC1-6アルキル基、フェニル基、−CO−Ｏ−C1-4アル
    キル基又は−NR7R8であり、 R7は水素原子、C1-12アルキル基、C5-6シクロアルキル
    基、フェニル基又はC1-12アルキルフェニル基であり、 R8は水素原子又はC1-12アルキル基であり、 各々のR10は、他とは無関係に、水素原子、ハロゲン原
    子、C1-4アルキル基、C2-4アルケニル基、C1-8アルコキ
    シ基、フェノキシ基、フェニル基、フェニルC1-4アルキ
    ル基又はC1-4アルキルフェニル基から選ばれたものであ
    り、そして 各々のR11は、他とは無関係に、R10又はR1とは無関係に
    R10又はR1の意味をもち、 又は両R11基が水素原子でありそして両R10基が相互にオ
    ルト位置にある諸炭素原子に結合しそしてその両R10基
    の結合している諸炭素原子と共に炭素環式基又は複素環
    式基を形成している〕 で表される化合物。
  2. 【請求項２】ＲがＲ′であり、ここでＲ′は水素原子又
    はC1-4アルコキシ基である、特許請求の範囲第１項記載
    の化合物。
  3. 【請求項３】R1がR1′であり、ここでR1′は−Ｏ−CH2C
    OOR4′であり、このR4′は線状若しくは枝分かれC1-12
    アルキル基、又はＮ−非置換、Ｎ−メチル若しくはＮ−
    アセチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンである、
    特許請求の範囲第１又は２項記載の化合物。
  4. 【請求項４】R10がR10′であり、ここでR10′は水素原
    子、塩素原子、C1-4アルキル基、C1-4アルコキシ基、フ
    ェニル基又はフェノキシ基である、特許請求の範囲第１
    〜３項の何れか１項に記載の化合物。
  5. 【請求項５】R11がR11′であり、ここでR11′は特許請
    求の範囲第３項で定義したR1′又は特許請求の範囲第４
    項で定義したR10′の意味をもつ、特許請求の範囲第１
    〜４項の何れか１項に記載の化合物。
  6. 【請求項６】式II又はIII 〔式中、Ｒ′は水素原子又はC1-4アルコキシ基であり、 R1′は−Ｏ−CH2COOR4′であり、ここでR4′は線状若し
    くは枝分かれC1-12アルキル基、又はＮ−非置換、Ｎ−
    メチル若しくはＮ−アセチル−2,2,6,6−テトラメチル
    ピペリジンであり、 R10′は水素原子、塩素原子、C1-4アルキル基、C1-4ア
    ルコキシ基、フェニル基又はフェノキシ基であり、 R11′はR1′又はR10′とは無関係にR1′又はR10′の意
    味であり、 R11″はR1′とは無関係にR1′の意味である〕 で表される、特許請求の範囲第１項記載の化合物。
  7. 【請求項７】式Ｉ 〔式中、各々のＲ基は、他とは無関係に、水素原子、C
    1-8アルキル基、C1-8アルコキシ基若しくはハロゲン原
    子であるか、又は両Ｒ基が相互にオルト位置にある諸炭
    素原子に結合しそしてその両Ｒ基の結合している諸炭素
    原子と共に炭素環式基若しくは複素環式基を形成してお
    り、 ｎは１又は２であり、 R1は−OCH2−CO−Ｘ−R4であり、ここでＸは−Ｏ−又は
    −Ｎ（R3）−であり、 R4は線状又は枝分かれC1-22アルキル基、 C5-6シクロアルキル基又は であり、 R3は水素原子又はC1-4アルキル基であり、 R5は水素原子、酸素原子、C1-8アルキル基又は−CO−R6
    であり、 R6はC1-6アルキル基、フェニル基、−CO−Ｏ−C1-4アル
    キル基又は−NR7R8であり、 R7は水素原子、C1-12アルキル基、C5-6シクロアルキル
    基、フェニル基又はC1-12アルキルフェニル基であり、 R8は水素原子又はC1-12アルキル基であり、 各々のR10は、他とは無関係に、水素原子、ハロゲン原
    子、C1-4アルキル基、C2-4アルケニル基、C1-8アルコキ
    シ基、フェノキシ基、フェニル基、フェニルC1-4アルキ
    ル基又はC1-4アルキルフェニル基から選ばれたものであ
    り、そして 各々のR11は、他とは無関係に、R10又はR1とは無関係に
    R10又はR1の意味をもち、 又は両R11基が水素原子でありそして両R10基が相互にオ
    ルト位置にある諸炭素原子に結合しそしてその両R10基
    の結合している諸炭素原子と共に炭素環式基又は複素環
    式基を形成している〕 で表される化合物の製造するに際して、式IV の化合物１モルと式Ｖ （式中、R13はハロゲン原子である） の化合物ｎモルとを反応させることを含む方法。
  8. 【請求項８】式Ｉ 〔式中、各々のＲ基は、他とは無関係に、水素原子、C
    1-8アルキル基、C1-8アルコキシ基若しくはハロゲン原
    子であるか、又は両Ｒ基が相互にオルト位置にある諸炭
    素原子に結合しそしてその両Ｒ基の結合している諸炭素
    原子と共に炭素環式基若しくは複素環式基を形成してお
    り、 ｎは１又は２であり、 R1は−OCH2−CO−Ｘ−R4であり、ここでＸは−Ｏ−又は
    −Ｎ（R3）−であり、 R4は線状又は枝分かれC1-22アルキル基、 C5-6シクロアルキル基又は であり、 R3は水素原子又はC1-4アルキル基であり、 R5は水素原子、酸素原子、C1-8アルキル基又は−CO−R6
    であり、 R6はC1-6アルキル基、フェニル基、−CO−Ｏ−C1-4アル
    キル基又は−NR7R8であり、 R7は水素原子、C1-12アルキル基、C5-6シクロアルキル
    基、フェニル基又はC1-12アルキルフェニル基であり、 R8は水素原子又はC1-12アルキル基であり、 各々のR10は、他とは無関係に、水素原子、ハロゲン原
    子、C1-4アルキル基、C2-4アルケニル基、C1-8アルコキ
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    R10又はR1の意味をもち、 又は両R11基が水素原子でありそして両R10基が相互にオ
    ルト位置にある諸炭素原子に結合しそしてその両R10基
    の結合している諸炭素原子と共に炭素環式基又は複素環
    式基を形成している〕 で表される化合物を高分子基材に付与することを含む、
    光の作用に対して高分子基材を安定化する方法。
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