JPS5832640U - 半導体処理用加熱炉 - Google Patents
半導体処理用加熱炉Info
- Publication number
- JPS5832640U JPS5832640U JP12678481U JP12678481U JPS5832640U JP S5832640 U JPS5832640 U JP S5832640U JP 12678481 U JP12678481 U JP 12678481U JP 12678481 U JP12678481 U JP 12678481U JP S5832640 U JPS5832640 U JP S5832640U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- quartz tube
- heating furnace
- flow path
- utility
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は半導体処理用加熱炉の従来例を示す斜視図、第
２図は本考案の一実施例加熱炉を示す斜、親図、第３図
は第２図の加熱炉の気体加熱手段の一部をなす部材の斜
視図である。 主要部分の符号の説明、２２・・・石英管、Ｈ・・・流
路狭窄部材。
２図は本考案の一実施例加熱炉を示す斜、親図、第３図
は第２図の加熱炉の気体加熱手段の一部をなす部材の斜
視図である。 主要部分の符号の説明、２２・・・石英管、Ｈ・・・流
路狭窄部材。
Claims (3)
- （１）半導体基板が内部の所定位置に置かれる石英管と
、所定圧力の気体を前記石英管内に流通せしめるための
手段と、前記石英管内の前記基板を加熱する加熱手段と
を含む加熱炉であって、前記石英管内の前記気体の流れ
方向において前記所定位置より上流の位置で前記気体の
流路を狭くする第１の流路狭窄手段を有することを特徴
とする加熱炉。 - （２）前記第１流路狭窄手段は、各々前記気体の流路を
なす開口部を有して前記上流の位置で各々前記石英管の
内部を仕切る複数の板状部材を含むことを特徴とする実
用新案登録請求の範囲第１項記載の加熱炉。 - （３）前記石英管内の前記気体の流れ方向において前記
所定位置より下流の位置で前記気体の流路を狭くする第
２流路狭窄手段を有しており、前記第２流路狭窄手段は
、各々前記気体の流路をなす開口部を有して前記下流の
位置で各々前記石英管の内部を仕切る複数の板状部材を
含むことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項若
しくは第２項記載の加熱炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12678481U JPS5832640U (ja) | 1981-08-27 | 1981-08-27 | 半導体処理用加熱炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12678481U JPS5832640U (ja) | 1981-08-27 | 1981-08-27 | 半導体処理用加熱炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5832640U true JPS5832640U (ja) | 1983-03-03 |
Family
ID=29920558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12678481U Pending JPS5832640U (ja) | 1981-08-27 | 1981-08-27 | 半導体処理用加熱炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5832640U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005276993A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Sanyo Electric Co Ltd | 拡散炉及び半導体装置の製造方法 |
| JP2016163025A (ja) * | 2015-03-05 | 2016-09-05 | 三菱電機株式会社 | 半導体製造装置および半導体デバイスの製造方法 |
-
1981
- 1981-08-27 JP JP12678481U patent/JPS5832640U/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005276993A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Sanyo Electric Co Ltd | 拡散炉及び半導体装置の製造方法 |
| JP4535754B2 (ja) * | 2004-03-24 | 2010-09-01 | 三洋電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| JP2016163025A (ja) * | 2015-03-05 | 2016-09-05 | 三菱電機株式会社 | 半導体製造装置および半導体デバイスの製造方法 |
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