JPS5832149A - 放射線透過検査方法 - Google Patents
放射線透過検査方法Info
- Publication number
- JPS5832149A JPS5832149A JP56129386A JP12938681A JPS5832149A JP S5832149 A JPS5832149 A JP S5832149A JP 56129386 A JP56129386 A JP 56129386A JP 12938681 A JP12938681 A JP 12938681A JP S5832149 A JPS5832149 A JP S5832149A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- radiation
- incident
- window
- detector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/06—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption
- G01N23/18—Investigating the presence of flaws defects or foreign matter
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明社放射線透過検査方法に関し、特許、厚さ変化
の着るし砕波検体又は放射纏験収度が着るＬ〈変化する
部位を含む被検体く対して写真撮影による放射線透過検
査を行なう場合に、透過投影写真の濃度をこれら厚さ変
化等に＃して均等化し、欠陥の検出度を向上させるため
の濃度差の補償法を含む放射線透過検出方法の改良に関
する。
の着るし砕波検体又は放射纏験収度が着るＬ〈変化する
部位を含む被検体く対して写真撮影による放射線透過検
査を行なう場合に、透過投影写真の濃度をこれら厚さ変
化等に＃して均等化し、欠陥の検出度を向上させるため
の濃度差の補償法を含む放射線透過検出方法の改良に関
する。
鋼材の溶接部をはじめとする被検体の内部の欠陥（不連
続性）を検査するために従来から広く行なわれている放
射線透過検査においては、被検体の表面又は裏面からＸ
線等の放射線を入射してその反対側に写真フィルムを置
き、被検体を透過した放射線によって写真フィルムを感
光させることによ抄被検体内部の欠陥を検出する。すな
わち欠陥部は無欠陥部よりも放射線の吸収が少ないので
フィルムに強く感光し、より黒く撮るととＫなる。
続性）を検査するために従来から広く行なわれている放
射線透過検査においては、被検体の表面又は裏面からＸ
線等の放射線を入射してその反対側に写真フィルムを置
き、被検体を透過した放射線によって写真フィルムを感
光させることによ抄被検体内部の欠陥を検出する。すな
わち欠陥部は無欠陥部よりも放射線の吸収が少ないので
フィルムに強く感光し、より黒く撮るととＫなる。
フィルムに鋏し出された形状および黒さは欠陥の大きさ
および深さにだいたい比例しているものと′：考えるこ
とができ、このようにして撮影されたフィルム上に現わ
れた投影にもとづ−て被検体内の欠陥の種類や程度を判
定するが、正し一判定のためには例えば撮影部位の厚さ
変化等を現物と写真とを対比して判断するなど、被検体
の厚さ変化による写真上の濃度変化を考慮しな社ればな
らない。
および深さにだいたい比例しているものと′：考えるこ
とができ、このようにして撮影されたフィルム上に現わ
れた投影にもとづ−て被検体内の欠陥の種類や程度を判
定するが、正し一判定のためには例えば撮影部位の厚さ
変化等を現物と写真とを対比して判断するなど、被検体
の厚さ変化による写真上の濃度変化を考慮しな社ればな
らない。
このため従来から様々亀濃度差補償法が提案されており
、例えば特公昭４０−１８２００．特公昭４１−２０１
６０、特公昭４２−２１９７号公報等によ抄第１ ＦＡ
（ａ） （ｂ） Ｋ示すような筐体状のマスタ液（１
）を使用して被検材（２）の厚さ変化を補償して線源（
３）からの放射線の透過投影をフィルム（４）上に得る
方式が公知であるが、この方式に用いるマスク液（１）
は沃素を含んだ有毒のものであるばかりか、被検体の材
質によりマスク液の組成や量の調整が必要で、さらに被
検体を腐食する恐れもある等一種々の解決すべき問題点
を含んだままである。
、例えば特公昭４０−１８２００．特公昭４１−２０１
６０、特公昭４２−２１９７号公報等によ抄第１ ＦＡ
（ａ） （ｂ） Ｋ示すような筐体状のマスタ液（１
）を使用して被検材（２）の厚さ変化を補償して線源（
３）からの放射線の透過投影をフィルム（４）上に得る
方式が公知であるが、この方式に用いるマスク液（１）
は沃素を含んだ有毒のものであるばかりか、被検体の材
質によりマスク液の組成や量の調整が必要で、さらに被
検体を腐食する恐れもある等一種々の解決すべき問題点
を含んだままである。
また別の方式として特開昭５２−８９８８３〜５号公報
には第２図（ａ） （ｂ）に示すように被検体（２）の
外面形状に合わせた放射ＩＩ＠収マスク（５）を油臭と
して用いる方式が開示されているが、対象とがる被検体
の形状が一定なら何も問題はないものの、実際には例え
ば溶接部の余盛形状等のように形の定まらない場合が殆
んどであ尿ので、この方式を実際に用いやに際しては個
々の被検体毎にその形状に合った放射線吸収マスクを用
意する必要があって実用的で寒いという欠点が避けられ
ない。
には第２図（ａ） （ｂ）に示すように被検体（２）の
外面形状に合わせた放射ＩＩ＠収マスク（５）を油臭と
して用いる方式が開示されているが、対象とがる被検体
の形状が一定なら何も問題はないものの、実際には例え
ば溶接部の余盛形状等のように形の定まらない場合が殆
んどであ尿ので、この方式を実際に用いやに際しては個
々の被検体毎にその形状に合った放射線吸収マスクを用
意する必要があって実用的で寒いという欠点が避けられ
ない。
この発明の目的は、被検体の厚さ変化ばかりか材質によ
る放射線検出器、の変化および線源かもの放射線照射分
布のムラに対しても濃度差補償を自動的に行逢い、しか
も、それら変化が一様でなくても何等の調整を要するこ
となく一律に適用できる放射線透過検査方法を提供する
ことにある。
る放射線検出器、の変化および線源かもの放射線照射分
布のムラに対しても濃度差補償を自動的に行逢い、しか
も、それら変化が一様でなくても何等の調整を要するこ
となく一律に適用できる放射線透過検査方法を提供する
ことにある。
またこの発明のもうひとつの目的は、濃度補償のために
有害物質を使用せず、治具さえも不要にすることである
。
有害物質を使用せず、治具さえも不要にすることである
。
すなわちこの発明は、被検体の表面又は裏面から放射線
を入射し、その反対側に置−た写真フィルムを、被検体
を透過した放射線によって感光させ、前記フィルム上に
現われる投影によ勤被検体の内部欠陥を検出する方法に
あって、前記フィルムの放射線入射域を予じめ定められ
た形状寸法の小区域に制限し、この小区域を移動させる
ことにより前記フィルム面を走査するようＫＬ、同時に
５前記小区域内の平均入射量率が一定となるように前
記小区域の走査移動速度を制御してフィルム濃度差を補
償することを特徴とする放射線透過検査方法である。
を入射し、その反対側に置−た写真フィルムを、被検体
を透過した放射線によって感光させ、前記フィルム上に
現われる投影によ勤被検体の内部欠陥を検出する方法に
あって、前記フィルムの放射線入射域を予じめ定められ
た形状寸法の小区域に制限し、この小区域を移動させる
ことにより前記フィルム面を走査するようＫＬ、同時に
５前記小区域内の平均入射量率が一定となるように前
記小区域の走査移動速度を制御してフィルム濃度差を補
償することを特徴とする放射線透過検査方法である。
前記小区域は、例えば被検体の前面又は後面にてフィル
ムへの放射線入射を阻止する遮幣体ｋに開けられた窓に
よりフィルム面上に画定され、その移動走査は前記遮蔽
体をフィルム面に平行に移動させることで果される。
ムへの放射線入射を阻止する遮幣体ｋに開けられた窓に
よりフィルム面上に画定され、その移動走査は前記遮蔽
体をフィルム面に平行に移動させることで果される。
小区域内の平均入射線量率を一定（制御するために、フ
ィルム裏面側で前記窓からの入射総量平均値を放射線検
出器で検出し、この検出器出力ｖｉと遮蔽体移動速度ｖ
ｉとの比Ｖｉ ／ ｖｉがフィル＾の種類等に応じて設
定した一定基準値に等Ｌ＜’＆るように遮蔽体移動速度
をフィードバッタ制御する。
ィルム裏面側で前記窓からの入射総量平均値を放射線検
出器で検出し、この検出器出力ｖｉと遮蔽体移動速度ｖ
ｉとの比Ｖｉ ／ ｖｉがフィル＾の種類等に応じて設
定した一定基準値に等Ｌ＜’＆るように遮蔽体移動速度
をフィードバッタ制御する。
この発明によればフィルム上の濃度分布は一様になり、
一方、被検体の内部欠陥は通常、前記窓による小区域寸
法に比べて小さいため異常亀（フィルム上に記録される
。
一方、被検体の内部欠陥は通常、前記窓による小区域寸
法に比べて小さいため異常亀（フィルム上に記録される
。
この発明において小区域の形状と寸法、すなわち前記窓
の形状と寸法は、被検体の形状な≠し材質変化パターン
の形状と寸法上の条件および予測される（或い社着目す
べき）内部欠陥の大きさ等の条件に応じて定められ、例
えば直線溶接部に対する検査では、前記窓は溶接シーム
方向に平行な数■巾のスリット状を呈してその巾方向に
移動されることｋより溶接部を走査し、また別の例では
前記窓が円形であって繰返し往復移動を含む動きによっ
てフィルム全面の走査を行なう。
の形状と寸法は、被検体の形状な≠し材質変化パターン
の形状と寸法上の条件および予測される（或い社着目す
べき）内部欠陥の大きさ等の条件に応じて定められ、例
えば直線溶接部に対する検査では、前記窓は溶接シーム
方向に平行な数■巾のスリット状を呈してその巾方向に
移動されることｋより溶接部を走査し、また別の例では
前記窓が円形であって繰返し往復移動を含む動きによっ
てフィルム全面の走査を行なう。
以下にこの発明を実施例に基づいて図面と共に詳述する
。第６図はこの発明の一声施例を示す説明図で、（２１
ｔｉ被検体、（３）は放射Ｉｎ、（４）Ｈ写真フィルム
である。被検体（２）の裏面側のフィルム（４）の前面
にはフィルム寸法分の移動スＦロークで可動の放射線遮
蔽体（６）が配置され、該遮蔽体（６）Ｋは窓（７）か
設けられている。フィルム（４）の後面には、はぼフィ
ルム全面をカバーする入射領域で電離精成などの放射線
検出器（８）が固定され、窓（力を介してフィルムに入
射する放射線量を検出するよう虻なされている０尚この
検出器（８）は窓（７）に対応した入射領域のものを遮
蔽体（６）と一体に窓（７）に対置して遮蔽体（６）と
共に移動するようにして龜よい。
。第６図はこの発明の一声施例を示す説明図で、（２１
ｔｉ被検体、（３）は放射Ｉｎ、（４）Ｈ写真フィルム
である。被検体（２）の裏面側のフィルム（４）の前面
にはフィルム寸法分の移動スＦロークで可動の放射線遮
蔽体（６）が配置され、該遮蔽体（６）Ｋは窓（７）か
設けられている。フィルム（４）の後面には、はぼフィ
ルム全面をカバーする入射領域で電離精成などの放射線
検出器（８）が固定され、窓（力を介してフィルムに入
射する放射線量を検出するよう虻なされている０尚この
検出器（８）は窓（７）に対応した入射領域のものを遮
蔽体（６）と一体に窓（７）に対置して遮蔽体（６）と
共に移動するようにして龜よい。
検出器（８）の出カス゛ｉは増巾器（９）を介して制御
器αＱへ入力され、制御器（１０で線膜定器（２）（よ
って別に設定さ些る基準信号と前、記検出器出カフｉと
で、ｖｉの時間積分値が設定値に等しく亀るように駆動
部（１３に速度指令信号を与え、駆動部ｒｉｚはこれｋ
よって常に前述の比７ｉ／ｙｉがある一定値を保つよう
に遮蔽体（６）の走査移動を果す。すなわち第３！Ｉ！
ｆｆの例′ において検出器（８）はフィルム（４）に
窓（７）を介して入射する特定の小区域についての放射
線の平均線量率に応じた出力Ｖｉを生じる。従って例え
ば被検体（２）が図示のように母材部ム、Ｃとそ０間の
溶接肉盛部Ｂからなる場合、遮蔽体（６）の走査移動に
よって窓（７）がム部−Ｂ部−〇部と移動したと愈の検
出器出力ｖｉ の変化は第４図（（転）の通抄となる。
器αＱへ入力され、制御器（１０で線膜定器（２）（よ
って別に設定さ些る基準信号と前、記検出器出カフｉと
で、ｖｉの時間積分値が設定値に等しく亀るように駆動
部（１３に速度指令信号を与え、駆動部ｒｉｚはこれｋ
よって常に前述の比７ｉ／ｙｉがある一定値を保つよう
に遮蔽体（６）の走査移動を果す。すなわち第３！Ｉ！
ｆｆの例′ において検出器（８）はフィルム（４）に
窓（７）を介して入射する特定の小区域についての放射
線の平均線量率に応じた出力Ｖｉを生じる。従って例え
ば被検体（２）が図示のように母材部ム、Ｃとそ０間の
溶接肉盛部Ｂからなる場合、遮蔽体（６）の走査移動に
よって窓（７）がム部−Ｂ部−〇部と移動したと愈の検
出器出力ｖｉ の変化は第４図（（転）の通抄となる。
この変化に応じて遮蔽体（６）の移動速度マｌを第４ｖ
！ＪＣｂ）のように制御し、被検体（２）の各部におけ
る検出器出力Ｖｉと遮蔽体移動速度マｉとの比ｖｉＡｉ
がフィルム・１： の種類等に応じて設定された基準値に一定となるように
し、かくして第４図（Ｃ）の如くフィルム（４）上の濃
度分布を一様にするわけである。この場合、被検体内部
欠陥は、通常遮蔽体の窓の開口寸法に比べて小さいため
、この発明の制御系の不感帯内に入ってしまうのでフィ
ルム上への撮像コンシラストが低下することはなく、か
えつそ濃度補償による散乱線の低減効果によって明瞭に
記録されるものである。
！ＪＣｂ）のように制御し、被検体（２）の各部におけ
る検出器出力Ｖｉと遮蔽体移動速度マｉとの比ｖｉＡｉ
がフィルム・１： の種類等に応じて設定された基準値に一定となるように
し、かくして第４図（Ｃ）の如くフィルム（４）上の濃
度分布を一様にするわけである。この場合、被検体内部
欠陥は、通常遮蔽体の窓の開口寸法に比べて小さいため
、この発明の制御系の不感帯内に入ってしまうのでフィ
ルム上への撮像コンシラストが低下することはなく、か
えつそ濃度補償による散乱線の低減効果によって明瞭に
記録されるものである。
尚、第３図の実施例では遮蔽体（６）を被検体（２）と
フィルム（４）との間に配置したが、これは第５図に示
すように被検体（２）の前面に遮蔽体（２）を配置する
ようにしてもよい。
フィルム（４）との間に配置したが、これは第５図に示
すように被検体（２）の前面に遮蔽体（２）を配置する
ようにしてもよい。
以上に述べえようにこの発明による濃度補償付きの放射
線透過検査方法によれば、人体等に有害な物質を一切使
用破ず、まためんどうな成形準備が必要な治具等も用い
ることなしに、フィルムへの入射線量を直接制御してい
るために被検体の材質や形状、例えば溶接母幇の種類や
余盛中および余盛高さなどに無関係に適用″′！：き、
散乱線の低減効果が大きく欠陥検出度の向上に寄与する
ところが大きいものである。
線透過検査方法によれば、人体等に有害な物質を一切使
用破ず、まためんどうな成形準備が必要な治具等も用い
ることなしに、フィルムへの入射線量を直接制御してい
るために被検体の材質や形状、例えば溶接母幇の種類や
余盛中および余盛高さなどに無関係に適用″′！：き、
散乱線の低減効果が大きく欠陥検出度の向上に寄与する
ところが大きいものである。
【図面の簡単な説明】
第１図および第２図は各々従来例の方法を示す説明図、
８３図はこの発明の一実施例に係る検査系の構成説明図
、第４図（ａ）Ｃｂ） （Ｃ）は、放射線検出器出力、
遮蔽体移動速度、およびフィルム濃度の各々窓位置に対
する変化を示す線図、第５図はこの発明の別の実施例に
係る検査系の構成説明図である。 （２）：被検体、（３）；放射線源、（４）：写真フィ
ルム、（６）二数射線遮蔽体、（７）：窓、（８）；放
射線検出器、（９）：増巾器、ａＩ；制御器、Ｑｌ）：
設定器、α２ ： 駆動部。 代理人 弁理士 佐 藤 正 年 第１ 図、。、 第１ 図（ｂ）第２図ｔｏ）
第２図（ｂ） 第３図 マスクイ友寵
８３図はこの発明の一実施例に係る検査系の構成説明図
、第４図（ａ）Ｃｂ） （Ｃ）は、放射線検出器出力、
遮蔽体移動速度、およびフィルム濃度の各々窓位置に対
する変化を示す線図、第５図はこの発明の別の実施例に
係る検査系の構成説明図である。 （２）：被検体、（３）；放射線源、（４）：写真フィ
ルム、（６）二数射線遮蔽体、（７）：窓、（８）；放
射線検出器、（９）：増巾器、ａＩ；制御器、Ｑｌ）：
設定器、α２ ： 駆動部。 代理人 弁理士 佐 藤 正 年 第１ 図、。、 第１ 図（ｂ）第２図ｔｏ）
第２図（ｂ） 第３図 マスクイ友寵
Claims (1)
- 被検体の表面又は裏面から放射線を入射し、その反対９
１ｒＩＣ置いた写真フィルムを、被検体を透過した放射
線によって感光させ、前記フィルム上に現われる投影に
よシ被検体の内部欠陥を検査する方法（おいて、前記フ
ィルムの放射線入射域を予じめ定められた形状付法の小
区域Ｋ１１ｌ＠Ｌ％この小区域を移動させることによっ
て前記フィル表面を走査するよう処し、同時に前記小区
域内の入射線量率が一定となるように前記小区域の涜査
移動速度を１ｗ御してフィルム濃度差を着信することを
特徴とする放射線透過検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56129386A JPS5832149A (ja) | 1981-08-20 | 1981-08-20 | 放射線透過検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56129386A JPS5832149A (ja) | 1981-08-20 | 1981-08-20 | 放射線透過検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5832149A true JPS5832149A (ja) | 1983-02-25 |
Family
ID=15008289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56129386A Pending JPS5832149A (ja) | 1981-08-20 | 1981-08-20 | 放射線透過検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5832149A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0569752U (ja) * | 1992-02-18 | 1993-09-21 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 排出マガジン |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS508536A (ja) * | 1973-05-18 | 1975-01-29 | ||
| JPS55141658A (en) * | 1979-04-20 | 1980-11-05 | Toshiba Corp | Xxray fluoroscopic inspecting apparatus |
-
1981
- 1981-08-20 JP JP56129386A patent/JPS5832149A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS508536A (ja) * | 1973-05-18 | 1975-01-29 | ||
| JPS55141658A (en) * | 1979-04-20 | 1980-11-05 | Toshiba Corp | Xxray fluoroscopic inspecting apparatus |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0569752U (ja) * | 1992-02-18 | 1993-09-21 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 排出マガジン |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE19822724A1 (de) | Musterfehlerkontrollsystem und Musterfehlerkontrollverfahren | |
| JPH03252512A (ja) | 油膜または塗膜のオンライン測定法およびその装置 | |
| JPH0260329B2 (ja) | ||
| JPH0663959B2 (ja) | 坪量分布を測定する方法および装置 | |
| JPS5832149A (ja) | 放射線透過検査方法 | |
| JPH01235839A (ja) | 透過線像を作製するための装置及び方法 | |
| JP2004117193A (ja) | トンネル覆工の内部欠陥検出装置 | |
| Huyge et al. | Analysis of flat fields in edge illumination phase contrast imaging | |
| Greene | Radiographic inspection | |
| DE10133846A1 (de) | Messtechnik für optische Proximity-Korrekturserife | |
| US5753930A (en) | Device for translating negative film image to a line scan | |
| US4177482A (en) | Population and profile data of bodies in a transparent mass | |
| JP2939169B2 (ja) | 放射線生成管の光学焦点の寸法測定方法 | |
| DE3520600C2 (ja) | ||
| JP2978035B2 (ja) | 円筒状物体の内径測定装置 | |
| RU98109601A (ru) | Способ исследования микрообъектов | |
| Wu et al. | Non-subjective cataract analysis and its application in space radiation risk assessment | |
| JPH0533721B2 (ja) | ||
| JPH07284491A (ja) | Ｄｅｘａによる骨密度測定装置 | |
| SU1673932A1 (ru) | Способ радиационного контрол | |
| RU2052798C1 (ru) | Способ неразрушающего контроля размеров и/или состояния объекта и/или его части | |
| JPH04249761A (ja) | 異物検査装置 | |
| JPS6386429A (ja) | Ｘ線マスクのひずみ測定法 | |
| JPH0682222A (ja) | スクリーン上に投影したレーザ散乱光による表面計測のための装置 | |
| JPH10227734A (ja) | 密度分布測定装置及び方法 |