JPS5830488A - 真空排気装置 - Google Patents

真空排気装置

Info

Publication number
JPS5830488A
JPS5830488A JP12894581A JP12894581A JPS5830488A JP S5830488 A JPS5830488 A JP S5830488A JP 12894581 A JP12894581 A JP 12894581A JP 12894581 A JP12894581 A JP 12894581A JP S5830488 A JPS5830488 A JP S5830488A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
packing
vacuum
vacuum tank
closure
tightly
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12894581A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuo Iwaoka
和男 岩岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP12894581A priority Critical patent/JPS5830488A/ja
Publication of JPS5830488A publication Critical patent/JPS5830488A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04BPOSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B37/00Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
    • F04B37/10Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use
    • F04B37/14Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use to obtain high vacuum
    • F04B37/16Means for nullifying unswept space

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は排気量を段階的に大きくするように切換え可能
な真空υI・気装置に関するものである。
真空装置は現在多くの分野で使用されている。すなわち
、実験用の小型のものから連続蒸着機、真空溶解炉、半
導体製造用や磁気テープ製造用、磁気ドラム、磁気ディ
スク等の各種分野の製品の製造に使用されている。寸だ
真空排気方式に関しては5油回転ポンプ全始め、メカニ
カルブースタポンプや、油拡散ポンプ5クライオポンプ
、ゲータ−ポンプ等低真空から高真空もしくは超高真空
まで数多くのポンプが提案されてお!11.そして各分
野に適合したポンプが使われている。
一般にこれらのポンプで真空k ?!7るL′工空槽と
大気を遮断するには、金属パツキンや、ゴムバラギンが
多く用いられており、この場合真空槽全減圧することに
よる大気との差圧でバラギン音訓用して真空槽への空気
の進入を防電し、L″↓空状態全イUるものであるが、
真空装1の容積が1m3以−ににもなると容器の自重も
重くなる/ヒめ、蓋k 4.′/i方向から閉じる形式
が採られており、この蓋を横方向から閉じるものではパ
ツキンの利賀、硬度なとにエリ。
初期排気は蓋の密着も兼ねて一時に大1ノ1気容i k
 を行なって容器と蓋の密着を行なわ」Vる方式が一般
的である。しかし真空槽を用いて精密な製品全製造する
産業分野、例えば半導体や磁気・i” 4スク。
磁気テープ等の分野では初期排気時に容器内の空気流に
より内部に堆積していたホコリや塵埃が基板表面に飛散
して製品の品質に著しい悪影響を及ぼすという欠点があ
った。
本発明は特に大容積真空装置においてこれらの問題′I
r:wf消し、均一性の良いit′7i品質の製品全1
511供できる真空排気装置を提供するものであり、以
下その一実施例について図面を用いて説明する。
1は真空4v!iであり、この真空槽1の前部にはこの
真空槽1の蓋2と真空槽1全密着さぜるためのゴムから
なるパツキン3が設けられている。真空槽1の内容積は
約8m3あり、従って真空槽1及び蓋2の重量も1to
nJl上に達している。真空槽1は固定されているが蓋
2は枠2ajCJ:って支えられ、車輪4によって床5
土全移動可能に設置されている。真空槽1の排気は排気
管7に、l:9油拡散ポンプs 、 lノl気管9.メ
カニカルブースタポンプ10 、 IIJI気管11全
経て油回祠ポンプ12により排気して真空を得るように
なっている。ここで。
図面には示していないが各真空ポンプ間及び排気管7の
途中には真空バルブが配されている。
一般的に見て内容積が約63もの大容量真空槽になると
蓋2とパツキン3の初期密着を得る為に。
重拡散ポンプ8を短絡するように排気管9と排気管7を
結ぶバイパス管を設け、このバイパス管により油回転ポ
ンプ12のみで瞬時に大容量の排気全行い、短時間に大
気との差圧を太きくしてその吸引力によりパツキン3を
介1−て真′7:ゾIl’t 1と蓋2の密着全(!L
真空4:il!71内の真空を・僅i 1jijするよ
うにされている。
上述のような瞬時の大芥111″杖気の場合5真空槽1
内で空気の急激な流れが牛じ5このため真?:・、!糟
1内に堆積しているホコリや;111!埃が飛散して被
蒸着物の基板表向に付着することがしit: Licl
″ある。
これはコンデンザ用のアルミニウノ・蒸着や装rイ]j
品の蒸着では重大な問題とdならないが、磁気テープ用
薄膜や31″導体用真空4f’i +磁気−j−イスク
、複写機用ドラムを作るための頁’、’! h(jlj
では重大な問題となる。
本発明は真空槽1内の排気をする場合、ホコリや塵埃が
飛散しないような初期+1JI気速歴とするように排気
管7と9間に内径が1り11えば1 :2:3:4の排
気管13,14,16.16をそれぞれI没け、かつそ
の各排気管13,14,15.16に真空バルブ18,
19.20.21を設け、一方真空槽1と蓋2全密着さ
せるパンギン3は第2図に示すように一定の硬さ全イア
するゴムよりなる第5ベー、二 1のパツキン31Lとその外側に第1のパツキン3a、
f:vも硬度が約IAのゴム、f:りなる第2のパツキ
ン3bとで構成し、この第2のパツキン3bld第1の
パツキン3a工りもさらに前方に突出された大きさに形
成されている。
以上のような構成からなり、つぎに排俄動作について述
べると、排気動作は捷ず真空バルブ18を開いて最も内
径が小さい排気管13に、l:9初期排気を行ない、つ
ぎに真空バルブ19全開いて排気管13と14を用いて
1)1気し5以下順に真空バルブ20.21 ’i開い
て排気を行なう。この場合真空バルブ18〜21を順に
開放して行く時間間陥としては2分程度が適当である。
前記排気量全段防菌に大きくして行く過程において、パ
ツキン3は1ず第2のパツキン3bに蓋2が密着し、そ
して次第に排気されて行くに従ってこの第2のパツキン
3bは変形して行き、蓋2は第2図の2点鎖線の位置に
移動して第1のパツキン3aに密着され、真空槽1は確
実に排気された状態に保持される。
前記パツキン3を第1のパツキン3a、第2のパツキン
3bでもって構成することに、1:v蓋2とパツキン3
との初期密着性の問題に」:る差力圧の確作が安定に保
たれるものである。
このように、真空′4’4”j 1内の1ノ1気if全
段階的に大きくして行くことに、J:り、ホコリや塵埃
が飛散することがなくなジ、しだがって被蒸着基板への
ホコリや塵埃の付着がなく5表面状態の良い製品が得ら
れるものである。第3図に蓋2とパツキン3の密着のだ
めの他の実施例を示す。
真空槽1には従来と同様のゴムからなるパツキン3を設
け、かつその真空槽1 (Illにエアーシリンダー2
2を取利け、そのピストン22aの先端部を蓋2に設け
た固定板23に挿入してその先端全ボルト24にて固定
板23に係合する。
そして、前記エアーシリンダー22に真空槽1の排気の
開始と同時にピストン22&に矢印F方向の力が働くよ
うにエアー全送り込むことにより。
蓋2がパツキン3に加圧され、密着性が増大するように
したものである。
7 ベータ 本発明はり、土の実施例より明らかなように5真空糟の
初期排気’n: k段階的に大きくして行く排気手段を
設けたものであり、これによれば真空槽内に残留してい
るホコリや塵埃の飛散が防止されるため、例えばこの真
空槽内に入れられる被蒸着基板等にホコリや塵埃がイマ
1着することがなく、表面状態の」:い製品がイ[Jら
れるもので、その効果は大である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例全示す概略構成図、第2図は
同要部側断面図、第3図は他の実施例の要部側断面図で
ある。 1・・・・・・真空槽52・・・・・・蓋、3・・・・
・パツキン。 13.14,15.16・・・・・・排気管、18,1
9゜20.21・・・・・・真空バルブ。 代11(人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名
第 1 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 真空槽と、その真空槽内の排気量全段階的に大きくなる
    ように切換え可能な排気手段を備えたことをlIN徴と
    する真空排気装置。
JP12894581A 1981-08-18 1981-08-18 真空排気装置 Pending JPS5830488A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12894581A JPS5830488A (ja) 1981-08-18 1981-08-18 真空排気装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12894581A JPS5830488A (ja) 1981-08-18 1981-08-18 真空排気装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5830488A true JPS5830488A (ja) 1983-02-22

Family

ID=14997287

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12894581A Pending JPS5830488A (ja) 1981-08-18 1981-08-18 真空排気装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5830488A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS625004A (ja) * 1985-06-28 1987-01-12 Masanori Nakayama 固体燃料燃焼装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5325845U (ja) * 1976-08-07 1978-03-04

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5325845U (ja) * 1976-08-07 1978-03-04

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS625004A (ja) * 1985-06-28 1987-01-12 Masanori Nakayama 固体燃料燃焼装置
JPH0327802B2 (ja) * 1985-06-28 1991-04-17 Masanori Nakayama

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6063248A (en) Process chamber isolation system in a deposition apparatus
JPS62502050A (ja) 基板上に複数個の薄膜層を付着する装置と方法
JPH0250962A (ja) 成膜装置及び成膜方法
JPH0864578A (ja) 半導体製造装置及び半導体製造装置のクリーニング方法
JPS62503106A (ja) 磁性層をスパッタ付着するためのターゲット
JP2714833B2 (ja) 仕込・取出室
WO2003003417A2 (en) High throughput hybrid deposition system and method using the same
ITMI990744A1 (it) Metodo per aumentare la produttivita' di processi di deposizione di strati sottili su un substrato e dispositivi getter per la realizzazione
JPS5830488A (ja) 真空排気装置
JP3020567B2 (ja) 真空処理方法
JPH02118064A (ja) 真空蒸着装置
JPS61170568A (ja) 連続真空処理装置
US5237756A (en) Method and apparatus for reducing particulate contamination
JP3163675B2 (ja) 機械式インターフェース装置
JPH0586475A (ja) 真空成膜装置
JPH0783011B2 (ja) 減圧処理方法及び装置
JP4781105B2 (ja) スパッタリング装置および方法
JPS6257377B2 (ja)
JPH0242901B2 (ja)
JPH0219186B2 (ja)
JPS62161971A (ja) 真空装置
JP3281005B2 (ja) スパッタリング装置及びそれを用いた半導体装置の製造方法
JP2000271469A (ja) 真空処理装置
JP2912318B2 (ja) 真空処理装置用搬送システム
JP4203913B2 (ja) 真空装置