JPS58294A - 排水処理方法 - Google Patents
排水処理方法Info
- Publication number
- JPS58294A JPS58294A JP9867181A JP9867181A JPS58294A JP S58294 A JPS58294 A JP S58294A JP 9867181 A JP9867181 A JP 9867181A JP 9867181 A JP9867181 A JP 9867181A JP S58294 A JPS58294 A JP S58294A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrazine
- waste water
- air
- rays
- jacket
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はヒドラジン含有排水からヒドラジンを除去する
排水地理方法に関するもOである。
排水地理方法に関するもOである。
例えばボイラーの休止に際してボイラーに導入される水
にはヒドラジンが防錆剤として添加される。したがって
この排水Kaヒドラジンが含まれ排水にあ九っては公害
防止の観点からヒドラジンを除去することが必要である
◇ 従来、上記のようなヒト2ジン含有排水からヒドラジン
を除去するKは次亜塩素酸ソーダ、過酸化水素等の酸化
剤を添加してヒドラジンを(1)式によって窒素と水と
に公簿する方法がとられている。
にはヒドラジンが防錆剤として添加される。したがって
この排水Kaヒドラジンが含まれ排水にあ九っては公害
防止の観点からヒドラジンを除去することが必要である
◇ 従来、上記のようなヒト2ジン含有排水からヒドラジン
を除去するKは次亜塩素酸ソーダ、過酸化水素等の酸化
剤を添加してヒドラジンを(1)式によって窒素と水と
に公簿する方法がとられている。
NaH番 十・ [0)→Ns+ 2 usO+ 20
s (1)しかしQ式O分解反応は速度
が小さく、ヒドラジンを兜4kK分解するまでに時間が
か\夛、連続大量処理は一難であり九〇 本発明は上W来の欠点を改^してヒドラジン含有排水か
ら遮か1lckドラジンを除去し、もって連続大量処理
を容島ならしめることを目的とし、ヒドラジン含有排水
KfIII外線を照射することを骨子、とすゐ。
s (1)しかしQ式O分解反応は速度
が小さく、ヒドラジンを兜4kK分解するまでに時間が
か\夛、連続大量処理は一難であり九〇 本発明は上W来の欠点を改^してヒドラジン含有排水か
ら遮か1lckドラジンを除去し、もって連続大量処理
を容島ならしめることを目的とし、ヒドラジン含有排水
KfIII外線を照射することを骨子、とすゐ。
本発明をIIK示ナー実施例によって説明すれば、水銀
ランプ(1)は石英からなるジャケット(り内に密封せ
られ、電層水槽(2)内に挿着される・鋏処理水槽(2
)011!111には散気管(4)が配置され、散気管
(4)Kはエヤポンプ(2)から水銀ランプ(1)のジ
ャケット(2)内に連絡する送通管(6)、およびジャ
ケラ) (り内から散気管@)K連絡する透過管(7)
Kよりてオゾンと空気とO混壺ガスが供給せられゐ。送
通管(7)にはバルブ(7)A、逆止弁(吟Bが介在す
る。なお水銀ランプ(1)は慮燈装置(呻によりて点燈
せられる。上記装置において処理水槽(2)の下部から
注入管(gり□ z<ルプ(!I)Aを開いてとドラジ
ン含有排水を注入する。
ランプ(1)は石英からなるジャケット(り内に密封せ
られ、電層水槽(2)内に挿着される・鋏処理水槽(2
)011!111には散気管(4)が配置され、散気管
(4)Kはエヤポンプ(2)から水銀ランプ(1)のジ
ャケット(2)内に連絡する送通管(6)、およびジャ
ケラ) (り内から散気管@)K連絡する透過管(7)
Kよりてオゾンと空気とO混壺ガスが供給せられゐ。送
通管(7)にはバルブ(7)A、逆止弁(吟Bが介在す
る。なお水銀ランプ(1)は慮燈装置(呻によりて点燈
せられる。上記装置において処理水槽(2)の下部から
注入管(gり□ z<ルプ(!I)Aを開いてとドラジ
ン含有排水を注入する。
処理水槽(3)内に注入され九排水には水銀ランプ(1
)からジャケット(2)を介して紫外線が照射される。
)からジャケット(2)を介して紫外線が照射される。
−紫外線の主波長は1800〜3000Xとする仁と
が望ましい。更にエアポング(5)から空気が送通管(
6)を介してジャケット(り内に送通され、ジャケット
(2)内で紫外線によってオゾン化され、かくしてオゾ
ンと空気との温金物は送通管(υを介して散気管←)か
ら排水中に散気される。排水中のヒドラジ/は紫外線に
よって励起されて)り、そζ嶌オゾンが添加され\ば(
1)式の反応に準する(2)式の反応によって急速に分
解される。
が望ましい。更にエアポング(5)から空気が送通管(
6)を介してジャケット(り内に送通され、ジャケット
(2)内で紫外線によってオゾン化され、かくしてオゾ
ンと空気との温金物は送通管(υを介して散気管←)か
ら排水中に散気される。排水中のヒドラジ/は紫外線に
よって励起されて)り、そζ嶌オゾンが添加され\ば(
1)式の反応に準する(2)式の反応によって急速に分
解される。
NmH* + 20s 4 Nm−+ 21’bO+
!Os 臼)かくしてヒドラジンが分解され除去
され九排水は処理水槽(3)上部の溢流管−から排出さ
れる。
!Os 臼)かくしてヒドラジンが分解され除去
され九排水は処理水槽(3)上部の溢流管−から排出さ
れる。
本発明は処理水槽の容量が大なる程有刹である・例えば
第2図には容量st、xot、30t、50t。
第2図には容量st、xot、30t、50t。
処理水槽において100PPII11のヒドラジンを含
む排水を処理した場合のヒト2ジン濃度一時間自纏が示
される0第111かもヒドラジン濃度が0.6ppm以
下(規制値以下)Kなる時間tΩ、−を求めると、 第
1表のとと(kなる。
む排水を処理した場合のヒト2ジン濃度一時間自纏が示
される0第111かもヒドラジン濃度が0.6ppm以
下(規制値以下)Kなる時間tΩ、−を求めると、 第
1表のとと(kなる。
第 1 表
第1表によればto、−は水槽容量が5jから(資)I
と10倍に&りても5倍にしかならない。
と10倍に&りても5倍にしかならない。
本発Wi4社ヒドッジン一度が高い鵬有刹である。
例えば第2図には容量lotの処理水槽において!0O
PPI!lヒドッジンを含む排水を処理した場合が示さ
れるが、仁の場合のto、・は2.5であシ、1100
pp ()場合に比してl n+6は2倍にはならずL
25倍にしかならない。
PPI!lヒドッジンを含む排水を処理した場合が示さ
れるが、仁の場合のto、・は2.5であシ、1100
pp ()場合に比してl n+6は2倍にはならずL
25倍にしかならない。
更に処理水槽容量501において紫外線照射をしない場
合のオゾン必要供給量は1100ppヒドラジン含有排
水の場合は75・00mgであるが、紫外線照射を行な
りた場合にはオゾン必要供給量が1800mgK過ぎな
かりた。
合のオゾン必要供給量は1100ppヒドラジン含有排
水の場合は75・00mgであるが、紫外線照射を行な
りた場合にはオゾン必要供給量が1800mgK過ぎな
かりた。
本発明は上記実施例によって限定されるものではない。
例えば酸化剤としてはオゾン以外に過酸化水素、過マン
ガン酸カリ、次亜塩素酸ソーダ等の周知のものが用いら
れるし、特に上記酸化剤を添加せず、空気を吹込んでも
よいし、ま九酸化剤の添加や空気の吹込みなくしても排
水中に溶存する空気等によってヒドラジンは充分酸化分
解されるO 本発明は上記したようにヒドラジン含有排水に紫外線を
照射することによって排水中のヒドラジンが励起される
からヒドラジンの酸化分解は極めて速力−に行われ、W
k高濃度にヒドラジンを含む排水の大量処理に有用な亀
のである。
ガン酸カリ、次亜塩素酸ソーダ等の周知のものが用いら
れるし、特に上記酸化剤を添加せず、空気を吹込んでも
よいし、ま九酸化剤の添加や空気の吹込みなくしても排
水中に溶存する空気等によってヒドラジンは充分酸化分
解されるO 本発明は上記したようにヒドラジン含有排水に紫外線を
照射することによって排水中のヒドラジンが励起される
からヒドラジンの酸化分解は極めて速力−に行われ、W
k高濃度にヒドラジンを含む排水の大量処理に有用な亀
のである。
第1図は本発明に用いられる装置の一実施例の概略図、
第2図はヒドラジン濃度と処理時間との関係を示すグラ
フである。
第2図はヒドラジン濃度と処理時間との関係を示すグラ
フである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 L ヒドラジン含有排水に紫外線を照射することを特徴
とする排水処理方法。 1 ヒドラジン含有排水に酸化剤の存在下紫外線を照射
することを特徴とする排水lIS]IN方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9867181A JPS58294A (ja) | 1981-06-24 | 1981-06-24 | 排水処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9867181A JPS58294A (ja) | 1981-06-24 | 1981-06-24 | 排水処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58294A true JPS58294A (ja) | 1983-01-05 |
Family
ID=14225972
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9867181A Pending JPS58294A (ja) | 1981-06-24 | 1981-06-24 | 排水処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58294A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108358274A (zh) * | 2018-03-16 | 2018-08-03 | 中山大学 | 一种去除水体中微污染物的方法 |
-
1981
- 1981-06-24 JP JP9867181A patent/JPS58294A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108358274A (zh) * | 2018-03-16 | 2018-08-03 | 中山大学 | 一种去除水体中微污染物的方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8562828B2 (en) | Wastewater treatment apparatus | |
JPH04506029A (ja) | 有害物質で汚染された液体の処理方法及び装置 | |
Gehringer et al. | Radiation-induced OH radical generation and its use for groundwater remediation | |
JP2001205277A (ja) | 水中の難分解性有機化合物の除去方法および装置 | |
JPH09271788A (ja) | 有機物含有廃水の紫外線分解処理方法及び装置 | |
JP5334148B2 (ja) | 排水処理方法 | |
JPS58294A (ja) | 排水処理方法 | |
JPS6128395B2 (ja) | ||
JPH01218676A (ja) | 排水の処理方法 | |
JP2004024995A (ja) | 石炭ガス化排水の処理方法 | |
JP3859866B2 (ja) | 水処理方法 | |
JP2001070958A (ja) | オゾン/紫外線隔式循環酸化処理装置 | |
JPS61185386A (ja) | 飲料水精製装置 | |
JPS6018477B2 (ja) | 過酸化水素添加オゾン廃水処理方法 | |
JP3493843B2 (ja) | 水処理における促進酸化処理装置 | |
JP2001149964A (ja) | 水処理方法 | |
JP2001170672A (ja) | 排水処理方法 | |
JPS55147192A (en) | Treating method for water | |
JP2546757B2 (ja) | 有機物高度処理方法及び装置 | |
JPH05277473A (ja) | 還元剤含有廃水の処理方法及び処理装置 | |
JP2002263670A (ja) | 汚水処理方法 | |
JPS55147191A (en) | Treatment process for waste water | |
JP3624625B2 (ja) | エキシマ紫外線ランプを用いた浄水処理方法 | |
JP2009101302A (ja) | 促進酸化処理法 | |
JPH0623374A (ja) | 酸化剤含有廃水の還元処理方法及び処理装置 |