JPS5829300B2 - ホウコウゾクアミノスルホンサンエン ノ セイゾウホウ - Google Patents
ホウコウゾクアミノスルホンサンエン ノ セイゾウホウInfo
- Publication number
- JPS5829300B2 JPS5829300B2 JP11125473A JP11125473A JPS5829300B2 JP S5829300 B2 JPS5829300 B2 JP S5829300B2 JP 11125473 A JP11125473 A JP 11125473A JP 11125473 A JP11125473 A JP 11125473A JP S5829300 B2 JPS5829300 B2 JP S5829300B2
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- Japan
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- aromatic
- sulfone
- hydrogen
- acid
- catalyst
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- Expired
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は芳香族アミノスルホン酸塩の製造法に関する。
さらに詳しくは芳香族ニトロスルホン酸塩の水素接触還
元により芳香族アミノスルホン酸塩を製造するにあたり
、予め芳香族ニトロスルホン酸塩を水溶性コバルト化合
物存在下に空気処理をすることによって工業的に有利に
芳香族アミノスルホン酸塩を得る方法である。
元により芳香族アミノスルホン酸塩を製造するにあたり
、予め芳香族ニトロスルホン酸塩を水溶性コバルト化合
物存在下に空気処理をすることによって工業的に有利に
芳香族アミノスルホン酸塩を得る方法である。
芳香族アミノスルホン酸の製法として芳香族ニトロ化合
物を発煙硫酸などでスルホン化し、または芳香族化合物
をスルホン化、続いてニトロ化した後ライミングし次い
でナトリウム塩化して得た芳香族ニトロスルホン酸塩を
ニッケル、パラジウム、コバルト、銅などを触媒として
水素で還元する方法が知られている。
物を発煙硫酸などでスルホン化し、または芳香族化合物
をスルホン化、続いてニトロ化した後ライミングし次い
でナトリウム塩化して得た芳香族ニトロスルホン酸塩を
ニッケル、パラジウム、コバルト、銅などを触媒として
水素で還元する方法が知られている。
このような従来公知の方法に於ては芳香族化合物にニト
ロ化およびスルホン化を適用して得られた芳香族ニトロ
スルホン酸中に接触還元を抑制する不純物が存在するの
で小規模製法に於ては触媒活性の低下を防ぐために通常
使用量の触媒より遥かに多量の触媒を使用したり、一度
還元を途中で中止して被毒触媒を除去した後新らしい触
媒を加える方法などを行なっている。
ロ化およびスルホン化を適用して得られた芳香族ニトロ
スルホン酸中に接触還元を抑制する不純物が存在するの
で小規模製法に於ては触媒活性の低下を防ぐために通常
使用量の触媒より遥かに多量の触媒を使用したり、一度
還元を途中で中止して被毒触媒を除去した後新らしい触
媒を加える方法などを行なっている。
またニトロベンゼンスルホン酸の接触的水素還元に先立
ち、これを二酸化イオウ、亜硫酸ナトリウム或いは金属
と酸などで軽く還元処理するが、またはニッケル、パラ
ジウム、白金などの存在下に軽く水素を作用させ、次い
で過酸化水素、酸素、硝酸、塩素などで酸化した後重金
属イオンを水酸化ナトリウムで水酸化物として沢別する
如き面倒な前処理をした後通常の接触還元を行なうなど
の方法(イタリヤ特許第804753)が採られている
が倒れも工業的製法としては不利である。
ち、これを二酸化イオウ、亜硫酸ナトリウム或いは金属
と酸などで軽く還元処理するが、またはニッケル、パラ
ジウム、白金などの存在下に軽く水素を作用させ、次い
で過酸化水素、酸素、硝酸、塩素などで酸化した後重金
属イオンを水酸化ナトリウムで水酸化物として沢別する
如き面倒な前処理をした後通常の接触還元を行なうなど
の方法(イタリヤ特許第804753)が採られている
が倒れも工業的製法としては不利である。
本発明者らは上述のような不利を改良すべく研究するう
ち還元前処理として芳香族ニトロスルホン酸塩を水溶性
コバルト化合物存在下に空気処理することによって接触
還元を有利に導くことを知り本発明に到達した。
ち還元前処理として芳香族ニトロスルホン酸塩を水溶性
コバルト化合物存在下に空気処理することによって接触
還元を有利に導くことを知り本発明に到達した。
本発明は芳香族ニトロスルホン酸塩水溶液を水溶性コバ
ルト化合物の存在下に空気を流通処理し、次いで金属触
媒存在下に水素で還元することを特徴とする芳香族ニト
ロスルホン酸塩から芳香族アミノスルホン酸塩を製造す
る方法である。
ルト化合物の存在下に空気を流通処理し、次いで金属触
媒存在下に水素で還元することを特徴とする芳香族ニト
ロスルホン酸塩から芳香族アミノスルホン酸塩を製造す
る方法である。
本発明の方法に用いられる芳香族ニトロスルホン酸塩は
例えば芳香族ニトロ化合物を発煙硫酸でスルホン化し、
次いで常法により塩基性化した水溶液として使用される
。
例えば芳香族ニトロ化合物を発煙硫酸でスルホン化し、
次いで常法により塩基性化した水溶液として使用される
。
この場合、溶液は弱塩基性が好ましい。
また本発明の方法において空気処理の際に触媒として用
いられる水溶性コバルト化合物としては硫酸コバルト、
硝酸コバルトあるいは酢酸コバルトなどの無機酸または
有機酸のコバルト塩が好ましく、その使用量は通常使用
される触媒量で十分である。
いられる水溶性コバルト化合物としては硫酸コバルト、
硝酸コバルトあるいは酢酸コバルトなどの無機酸または
有機酸のコバルト塩が好ましく、その使用量は通常使用
される触媒量で十分である。
芳香族ニトロスルホン酸塩の弱塩基性水溶液に上述の水
溶性コバルト化合物を触媒量添加し、常圧または加圧下
に好ましくは100℃以下の温度に於て、予め予備試験
で求めた所要量の空気をバブリングし、次に処理の終っ
た水溶液をそのまま、又は必要に応じて活性炭処理した
液を徐冷却して芳香族ニトロスルホン酸塩を晶析し1別
する。
溶性コバルト化合物を触媒量添加し、常圧または加圧下
に好ましくは100℃以下の温度に於て、予め予備試験
で求めた所要量の空気をバブリングし、次に処理の終っ
た水溶液をそのまま、又は必要に応じて活性炭処理した
液を徐冷却して芳香族ニトロスルホン酸塩を晶析し1別
する。
1液は次回前処理工程に循環使用する。
r塊の芳香族ニトロスルホン酸塩は水に溶解して水溶液
とし、ラネーニッケル、ニッケル、パラジウム、コバル
ト、銅など公知の触媒を使用し水素触媒還元を行ない高
収率で芳香族アミノスルホン酸塩を得る。
とし、ラネーニッケル、ニッケル、パラジウム、コバル
ト、銅など公知の触媒を使用し水素触媒還元を行ない高
収率で芳香族アミノスルホン酸塩を得る。
上述の如く本発明の長所は特定の触媒を用いることによ
り空気処理と言う簡単な前処理を実施するだけで工業的
に有利に水素接触還元を進められることにある。
り空気処理と言う簡単な前処理を実施するだけで工業的
に有利に水素接触還元を進められることにある。
次に実施例により本発明の方法を詳述する。
実施例 1
m−二トロベンゼンを常法により発煙硫酸でスルホン化
し、水酸化カリウムで中和、濾過して得たm−ニトロベ
ンゼンスルホン酸カリウム40.2f(0,2モル)を
10%水酸化カリウム水溶液によりpH8,5にする。
し、水酸化カリウムで中和、濾過して得たm−ニトロベ
ンゼンスルホン酸カリウム40.2f(0,2モル)を
10%水酸化カリウム水溶液によりpH8,5にする。
この水溶液に硫酸コバルト(7水塩)0.97fを加え
90〜95℃の温度でかくはんしながら100TrLl
/−の速度で10時間空気を吹き込む。
90〜95℃の温度でかくはんしながら100TrLl
/−の速度で10時間空気を吹き込む。
次いで室温まで徐冷して析出する針状結晶を濾過、水1
00TLlで洗滌してm−ニトロベンゼンスルホン酸カ
リウム塩36.Ofを得た。
00TLlで洗滌してm−ニトロベンゼンスルホン酸カ
リウム塩36.Ofを得た。
とのm−二トロベンゼンスルホン酸カリウム塩24.1
f (0,1モル)と水100TILlおよび日揮化
学社製N103安定化ニッケル触媒1.21とを内容積
500TLlの電磁攪拌式オートクレーブに仕込み、窒
素置換した後、初圧40kg/crAまで水素ガスを圧
入した。
f (0,1モル)と水100TILlおよび日揮化
学社製N103安定化ニッケル触媒1.21とを内容積
500TLlの電磁攪拌式オートクレーブに仕込み、窒
素置換した後、初圧40kg/crAまで水素ガスを圧
入した。
151℃に昇温した点でゲージ圧58kgを示し水素の
吸収が始まり、90分間で吸収率100%に達した。
吸収が始まり、90分間で吸収率100%に達した。
冷却後内容物を取り出して1過し、触媒を分離してメタ
ニル酸カリウム水溶液を得た。
ニル酸カリウム水溶液を得た。
収率98.5%。本例に於て空気処理をしないm−ニト
ロベンゼンスルホン酸カリウム塩を用いて接触還元した
場合は150℃に昇温した点でゲージ圧63kg/cm
を示したが水素の吸収が殆んど見られず、収率5.0%
であった。
ロベンゼンスルホン酸カリウム塩を用いて接触還元した
場合は150℃に昇温した点でゲージ圧63kg/cm
を示したが水素の吸収が殆んど見られず、収率5.0%
であった。
実施例 2
m−ニトロベンゼンを常法により発煙硫酸でスルホン化
し、次いでライミング、ソーディジョンして得たm−ニ
トロベンゼンスルホン酸ナトリウム塩22.51 (0
,1モル) ヲ水100m1K溶解’L水酸化ナトリウ
ム水溶液でpH8,5に調整する。
し、次いでライミング、ソーディジョンして得たm−ニ
トロベンゼンスルホン酸ナトリウム塩22.51 (0
,1モル) ヲ水100m1K溶解’L水酸化ナトリウ
ム水溶液でpH8,5に調整する。
この水溶液に硝酸コバルト(6水塩)0.001Pを加
え、50〜55℃の温度でかくはんしながら1500r
ul/TniILの速度で3時間空気を吹き込む。
え、50〜55℃の温度でかくはんしながら1500r
ul/TniILの速度で3時間空気を吹き込む。
次いで活性炭1.1りを加え55°Cで30分間かくは
んした後活性炭をP別する。
んした後活性炭をP別する。
このP液のm−=トロベンゼンスルホン酸ナトリウム塩
水溶液ト、ギ酸ニッケルの熱分解法(日本化学金網、実
験化学講座17、有機化合物の反応■(下)313頁)
により調製したニッケル触媒1.1テとを500rIl
l電磁攪拌式オートクレーブに仕込み、窒素置換した後
、初ゲージ圧10kg/crAまで水素ガスを圧入する
。
水溶液ト、ギ酸ニッケルの熱分解法(日本化学金網、実
験化学講座17、有機化合物の反応■(下)313頁)
により調製したニッケル触媒1.1テとを500rIl
l電磁攪拌式オートクレーブに仕込み、窒素置換した後
、初ゲージ圧10kg/crAまで水素ガスを圧入する
。
その後昇温を行ない85°C113kg/crAで水素
の吸収が始まり11kg/crAに低下したとき更に水
素ガスを13に9/crAまで圧入する。
の吸収が始まり11kg/crAに低下したとき更に水
素ガスを13に9/crAまで圧入する。
この繰り返えしを行なうことにより90〜95°C17
5分間で吸収が終った。
5分間で吸収が終った。
冷却後内容物を取り出して濾過し、還元触媒を分離、メ
タニル酸ナトリウム塩水溶液を得た。
タニル酸ナトリウム塩水溶液を得た。
収率98.7%。本例において空気処理をしない場合は
、90℃で水素ガスを13 kg/crAまで圧入して
も水素の吸収が殆んど見られず、収率は2.0%であっ
た。
、90℃で水素ガスを13 kg/crAまで圧入して
も水素の吸収が殆んど見られず、収率は2.0%であっ
た。
実施例 3
n製ナフタレンを常法により96%硫酸でスルホン化を
行ない、次いで42°Be’硝酸によりニトロ化を行な
う。
行ない、次いで42°Be’硝酸によりニトロ化を行な
う。
このニトロ化溶液をドロマイト、水混合液中に排出して
炭酸カルシウムで中和した後熱時濾過をして得た1−ナ
フタレン−8(および7.6.5)スルホン酸マグネシ
ウム塩24.6 f (0,1モル)を含むP液150
m1をとり、水酸化ナトリウム水溶液を用いpH8,5
に調整する。
炭酸カルシウムで中和した後熱時濾過をして得た1−ナ
フタレン−8(および7.6.5)スルホン酸マグネシ
ウム塩24.6 f (0,1モル)を含むP液150
m1をとり、水酸化ナトリウム水溶液を用いpH8,5
に調整する。
この水溶液に酢酸コバルト(4水塩)0.001′fI
を加え50〜55°Cの温度でかくはんしながら150
0T/Ll/7rujlの速度で3時間空気を吹き込む
。
を加え50〜55°Cの温度でかくはんしながら150
0T/Ll/7rujlの速度で3時間空気を吹き込む
。
次いで活性炭1.3りを加え55℃で30分間かくはん
した後活性炭を1別する。
した後活性炭を1別する。
このt液と日揮化学社製N152ラネーニッケル触媒1
.21を通常の方法により活性化した触媒とを500m
1電磁攪拌式オートクレーブに仕込み、窒素置換した後
初ゲージ圧18kg/c4まで水素ガスを圧入し昇温し
で80℃とした。
.21を通常の方法により活性化した触媒とを500m
1電磁攪拌式オートクレーブに仕込み、窒素置換した後
初ゲージ圧18kg/c4まで水素ガスを圧入し昇温し
で80℃とした。
水素の吸収が始まり10 kg/cr;tまで下ったと
き再び20kg/crAまで水素を圧入する。
き再び20kg/crAまで水素を圧入する。
この操作を繰り返えすことにより80〜85℃、120
分間で水素の吸収が終った。
分間で水素の吸収が終った。
冷却後内容物を取り出してr過し還元触媒を分離し、ぺ
り酸、ローレント酸、クレープ6酸およびクレープ7酸
のマグネシウム塩水溶液を得た。
り酸、ローレント酸、クレープ6酸およびクレープ7酸
のマグネシウム塩水溶液を得た。
還元反応率97.2%であった。本例において空気処理
しない場合は80℃で水素ガスを20kg/caまで圧
入しても水素の吸収が殆んど見られず、収率は2.0%
であった。
しない場合は80℃で水素ガスを20kg/caまで圧
入しても水素の吸収が殆んど見られず、収率は2.0%
であった。
Claims (1)
- 1 芳香族ニトロスルホン酸塩水溶液を水溶性コバルト
化合物の存在下に空気を流通処理し、次いでニッケル触
媒存在下に水素で還元することを特徴とす芳香族ニトロ
スルホン酸塩から芳香族アミノスルホン酸塩を製造する
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11125473A JPS5829300B2 (ja) | 1973-10-03 | 1973-10-03 | ホウコウゾクアミノスルホンサンエン ノ セイゾウホウ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11125473A JPS5829300B2 (ja) | 1973-10-03 | 1973-10-03 | ホウコウゾクアミノスルホンサンエン ノ セイゾウホウ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5059349A JPS5059349A (ja) | 1975-05-22 |
JPS5829300B2 true JPS5829300B2 (ja) | 1983-06-22 |
Family
ID=14556508
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11125473A Expired JPS5829300B2 (ja) | 1973-10-03 | 1973-10-03 | ホウコウゾクアミノスルホンサンエン ノ セイゾウホウ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5829300B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0000634A1 (en) * | 1977-07-28 | 1979-02-07 | The Clayton Aniline Company Limited | Process for the manufacture of naphthylamine sulphonic acids |
-
1973
- 1973-10-03 JP JP11125473A patent/JPS5829300B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5059349A (ja) | 1975-05-22 |
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