JPS5826525Y2 - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPS5826525Y2 JPS5826525Y2 JP1977096121U JP9612177U JPS5826525Y2 JP S5826525 Y2 JPS5826525 Y2 JP S5826525Y2 JP 1977096121 U JP1977096121 U JP 1977096121U JP 9612177 U JP9612177 U JP 9612177U JP S5826525 Y2 JPS5826525 Y2 JP S5826525Y2
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- electrode
- bonding
- area
- semiconductor substrate
- wire
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/04042—Bonding areas specifically adapted for wire connectors, e.g. wirebond pads
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- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
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- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/4847—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は半導体装置、特に小さい電極のダイオードの
構造に関するものである。
構造に関するものである。
従来、高周波用ダイオードの電極は同心円形状のものが
多く用いられている。
多く用いられている。
第1図は従来の高周波用ダイオードの1例の平面図であ
って、1は半導体基板、2は動作領域、3は電極である
。
って、1は半導体基板、2は動作領域、3は電極である
。
しかし、外部電極との接続をTCボンディングといわれ
る熱圧着方法や、USボンディングといわれている超音
波ボンディングで行う場合は、ポンチ゛イング線といわ
れる外部電極との接続の為に使用される線と半導体基板
上の電極との接触面は円形をしておらずボンディング線
の線の方向に長い形状をしているのが普通である。
る熱圧着方法や、USボンディングといわれている超音
波ボンディングで行う場合は、ポンチ゛イング線といわ
れる外部電極との接続の為に使用される線と半導体基板
上の電極との接触面は円形をしておらずボンディング線
の線の方向に長い形状をしているのが普通である。
第2図はボンディング線と半導体基板上の電極との接触
状態を説明する図である。
状態を説明する図である。
ダイオードの半導体基板21上の電極23にTCボンデ
ィングされた場合のボンディング線24の圧着された面
の形状は線の方向に長い形25をしている。
ィングされた場合のボンディング線24の圧着された面
の形状は線の方向に長い形25をしている。
これは超音波ボンディングの場合でも同様のことが言え
る。
る。
接触面の形状を円形にする方法としてはネールヘッドT
Cボンディングがあるが、TCボンディングや超音波ボ
ンディングでは円形にすることが出来ない。
Cボンディングがあるが、TCボンディングや超音波ボ
ンディングでは円形にすることが出来ない。
これはポンチ゛イング線に比して電極の面積が充分に大
きくない場合はボンディング線の圧着面の一部が電極よ
りはみ出すことになり、接着強度が充分に得られないこ
とと、はみ出した部分の浮遊容量が増加するという二つ
の欠点につながる。
きくない場合はボンディング線の圧着面の一部が電極よ
りはみ出すことになり、接着強度が充分に得られないこ
とと、はみ出した部分の浮遊容量が増加するという二つ
の欠点につながる。
この二つの欠点を避けるために従来の様に円形パターン
でこの接触面をすべて電極内におさめるには23の如き
形状にしなければならない。
でこの接触面をすべて電極内におさめるには23の如き
形状にしなければならない。
すなわち斜線で示す部分26はボンディング線との接続
には不要であり、その部分だけ電極面積を大きくとらな
ければならない欠点を生ずる。
には不要であり、その部分だけ電極面積を大きくとらな
ければならない欠点を生ずる。
この考案は上記欠点を除き、電極面積がポンチ゛イング
線に比して充分大きく出来ない場合、電極とポンチ゛イ
ング線との接触面積を増加させ接続強度を確保し、浮遊
容量を増加させない電極構造を有する半導体装置を提供
するものである。
線に比して充分大きく出来ない場合、電極とポンチ゛イ
ング線との接触面積を増加させ接続強度を確保し、浮遊
容量を増加させない電極構造を有する半導体装置を提供
するものである。
この考案の半導体装置は、外部電極との接続のための半
導体基板上の電極が長円形であることを特徴とする。
導体基板上の電極が長円形であることを特徴とする。
この考案によれば電極面積を小さくでき、しかもボンデ
ィング線との接着強度を増大させることができる。
ィング線との接着強度を増大させることができる。
また、はみだし部分がないから浮遊容量を小さくできる
効果がある。
効果がある。
この考案を実施例により説明する。
第3図はこの考案の1実施例のダイオードの平面図であ
る。
る。
半導体基板31に長円形の動作領域32が設けられ、そ
の内側に長円形の電極33が設けられている。
の内側に長円形の電極33が設けられている。
動作領域と電極との大きさがこの実施例と逆であっても
良い。
良い。
第4図はこの考案の他の実施例のダイオードの平面図で
ある。
ある。
半導体基板41に円形の動作領域42が設けられ、設計
上の制限から動作領域面積を大きくできないとき、該動
作領域42を覆って、これより面積の大きい長円形の電
極43を設ける。
上の制限から動作領域面積を大きくできないとき、該動
作領域42を覆って、これより面積の大きい長円形の電
極43を設ける。
このようにすれば動作領域の面積が小さくてもポンチ゛
イング線との接着強度を大きくすることができる。
イング線との接着強度を大きくすることができる。
しかも、第2図および第3図においては、電極33.3
4は長円形で形成されているため、角部がなく、その結
果端効果による電界集中や角部に現れる浮遊容量をも確
実に防止することができる。
4は長円形で形成されているため、角部がなく、その結
果端効果による電界集中や角部に現れる浮遊容量をも確
実に防止することができる。
従って、電極周辺の絶縁膜を素子動作時に破壊したり、
クラックを生じさせることなく、浮遊容量の少ない半導
体装置が得られる。
クラックを生じさせることなく、浮遊容量の少ない半導
体装置が得られる。
以上詳細に説明したように、この考案によれば電極面積
を不必要に大きくすることなく、ポンチ゛イング線との
接着強度が大きく、かつ浮容量の小さい半導体装置を得
ることができる。
を不必要に大きくすることなく、ポンチ゛イング線との
接着強度が大きく、かつ浮容量の小さい半導体装置を得
ることができる。
第1図は従来の高周波用ダイオードの1例の平面図、第
2図はボンディング線と半導体基板上の電極との接触状
態を説明する図、第3図はこの考案の1実施例のダイオ
ードの平面図、第4図はこの考案の他の実施例のダイオ
ードの平面図である。 1.21.31.41・・・・・・半導体基板、2.3
2.42・・・・・・動作領域、3.23 、33.4
3・・・・・・電極、24・・・・・・ボンディング線
、25・・・・・・ボンディング線と電極との接触面、
26・・・・・・不必要領域。
2図はボンディング線と半導体基板上の電極との接触状
態を説明する図、第3図はこの考案の1実施例のダイオ
ードの平面図、第4図はこの考案の他の実施例のダイオ
ードの平面図である。 1.21.31.41・・・・・・半導体基板、2.3
2.42・・・・・・動作領域、3.23 、33.4
3・・・・・・電極、24・・・・・・ボンディング線
、25・・・・・・ボンディング線と電極との接触面、
26・・・・・・不必要領域。
Claims (1)
- 接続用導体が圧着された半導体基板上の電極が長円形の
形状をもち、上記接続用導体の圧着部分がこの電極の長
手方向に延びるように上記導体が圧着されていることを
特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1977096121U JPS5826525Y2 (ja) | 1977-07-18 | 1977-07-18 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1977096121U JPS5826525Y2 (ja) | 1977-07-18 | 1977-07-18 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5423563U JPS5423563U (ja) | 1979-02-16 |
JPS5826525Y2 true JPS5826525Y2 (ja) | 1983-06-08 |
Family
ID=29029706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1977096121U Expired JPS5826525Y2 (ja) | 1977-07-18 | 1977-07-18 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5826525Y2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50156874A (ja) * | 1974-06-06 | 1975-12-18 | ||
JPS5150661A (ja) * | 1974-10-30 | 1976-05-04 | Hitachi Ltd |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5316278Y2 (ja) * | 1972-08-25 | 1978-04-28 |
-
1977
- 1977-07-18 JP JP1977096121U patent/JPS5826525Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50156874A (ja) * | 1974-06-06 | 1975-12-18 | ||
JPS5150661A (ja) * | 1974-10-30 | 1976-05-04 | Hitachi Ltd |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5423563U (ja) | 1979-02-16 |
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