JPS5823698A - セフアロスポリン化合物 - Google Patents
セフアロスポリン化合物Info
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- JPS5823698A JPS5823698A JP57123074A JP12307482A JPS5823698A JP S5823698 A JPS5823698 A JP S5823698A JP 57123074 A JP57123074 A JP 57123074A JP 12307482 A JP12307482 A JP 12307482A JP S5823698 A JPS5823698 A JP S5823698A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/18—7-Aminocephalosporanic or substituted 7-aminocephalosporanic acids
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
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- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
- C07D501/38—Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof
- C07D501/40—Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof with the 7-amino radical acylated by an aliphatic carboxylic acid, which is substituted by hetero atoms
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なセファロスポリン化合物および薬物学的
活性を有するセファロスポリ/化合物の製造におけ/)
七12らの使用に関する。
活性を有するセファロスポリ/化合物の製造におけ/)
七12らの使用に関する。
本明細書中のセファロスポリン化合物は「J。
Amer、Ohem、Soc、J llt 84”巻第
3400頁8962年)に従って「セファム」k関して
命名さnている。「セフェム」なる表現は1個の二重結
合を有する基本的セファム構造を意味している。
3400頁8962年)に従って「セファム」k関して
命名さnている。「セフェム」なる表現は1個の二重結
合を有する基本的セファム構造を意味している。
セフ讐ロスボリン抗生物質は人および動物の病原細圃に
より生ぜしめらnる疾病の処置に広く使用さnている。
より生ぜしめらnる疾病の処置に広く使用さnている。
価値ある薬物学的性質を示す種々のセファロスポリ/化
合物としてはセファロスポリン核の5位にピリジニウム
メチル置換基を有しそして核の7位に特定の置換基を有
するある棟の化合物があげらnるO すなわち例えば英国特許第2025598A号明細書は
、一般式 ] (式中HeLおよびRbは同一または異なりてそnそj
L 01〜4アルキル基を表わすかまたはBaとRbと
はそnらの結合している炭素原子と一緒になって03〜
7シクロアルキリデ7基を表わしそしてRoは水素また
は5−または4−カルバモイル基e[わす)のセファロ
スポリン抗生物質およびその塩およびエステルを記載し
ている。
合物としてはセファロスポリン核の5位にピリジニウム
メチル置換基を有しそして核の7位に特定の置換基を有
するある棟の化合物があげらnるO すなわち例えば英国特許第2025598A号明細書は
、一般式 ] (式中HeLおよびRbは同一または異なりてそnそj
L 01〜4アルキル基を表わすかまたはBaとRbと
はそnらの結合している炭素原子と一緒になって03〜
7シクロアルキリデ7基を表わしそしてRoは水素また
は5−または4−カルバモイル基e[わす)のセファロ
スポリン抗生物質およびその塩およびエステルを記載し
ている。
前記式の特にM利な化合物は(6R,7R) −7−(
(Z) −2−(2−アきフチアゾール−4−イル)−
2−(2−カルボキシプロブ−2−オキシイば))アセ
トアξド) −1−(1−ピリジニウムメチル)セフ−
3−エム−4−カルボキシレ−トであシこf’LKは「
セフタチジム(ceftazid1M3)1という公認
さnだ名称が与えらnている。
(Z) −2−(2−アきフチアゾール−4−イル)−
2−(2−カルボキシプロブ−2−オキシイば))アセ
トアξド) −1−(1−ピリジニウムメチル)セフ−
3−エム−4−カルボキシレ−トであシこf’LKは「
セフタチジム(ceftazid1M3)1という公認
さnだ名称が与えらnている。
薬物学的重要性を有するその他の3−ピリジニウムメチ
ルセファロスポリ/はCセファロリジンJの名称を有す
る(6B、7R) −7−(2−、(チェノ−2−イル
)アセトアミドツー5−C1−ピリジニウムメチル)セ
フ−3−エム−4−カルボキシレートである。
ルセファロスポリ/はCセファロリジンJの名称を有す
る(6B、7R) −7−(2−、(チェノ−2−イル
)アセトアミドツー5−C1−ピリジニウムメチル)セ
フ−3−エム−4−カルボキシレートである。
その他の3−ピリジニウムメチルセファロスポリンは例
えばヨーロッパ特許出願第27599号、同第4593
7号および同第46964号各明細書中に記載さfてい
る。
えばヨーロッパ特許出願第27599号、同第4593
7号および同第46964号各明細書中に記載さfてい
る。
そのようなセファロスポリン抗生物質の製造に便利な出
発物質は(6R,7R) −7−アばノー5−(1−ピ
リジニウムメチル)セフ−5−エムー4−カルボキシレ
ートま次はその塩である。
発物質は(6R,7R) −7−アばノー5−(1−ピ
リジニウムメチル)セフ−5−エムー4−カルボキシレ
ートま次はその塩である。
本発明者らはそのジ塩酸塩が%に有利な出発物質である
ことを発見した。
ことを発見した。
一般に、薬物学的に有用なセファロスポIJ 7化合物
の製造のための全体的方法における基本的出発物1iは
、セファロスポリンCj fx ワチ(6R,7R)
−7−(D −5−アミノ−5−カルボキシペンタンア
ミド)−5−Cアセトキシメチル)セフ−3−エム−4
−カルボン酸およびその塩例えばそのナトリウム、カリ
ウムまfcu亜鉛の塩、またはデスアセチルセファロス
ポリンCすなわちセファロスポリンCの3−ヒドロキシ
メチル同族体およびその塩である。こ扛ら出発物質はセ
ファロスボリア分子の7位および3位の両方で変形させ
ることができる。全体的工程の間のある段階で最初の7
−111鎖を一般に除去して7−7ξノセフアロスボリ
ンを生成せしめる。
の製造のための全体的方法における基本的出発物1iは
、セファロスポリンCj fx ワチ(6R,7R)
−7−(D −5−アミノ−5−カルボキシペンタンア
ミド)−5−Cアセトキシメチル)セフ−3−エム−4
−カルボン酸およびその塩例えばそのナトリウム、カリ
ウムまfcu亜鉛の塩、またはデスアセチルセファロス
ポリンCすなわちセファロスポリンCの3−ヒドロキシ
メチル同族体およびその塩である。こ扛ら出発物質はセ
ファロスボリア分子の7位および3位の両方で変形させ
ることができる。全体的工程の間のある段階で最初の7
−111鎖を一般に除去して7−7ξノセフアロスボリ
ンを生成せしめる。
セファロスポリンCまfcはその誘導体からの7−アε
ノセフアロスボリンの製造に対しては多数の方法がすで
に当技術分野では記載さnている。
ノセフアロスボリンの製造に対しては多数の方法がすで
に当技術分野では記載さnている。
すなわち例えば英国特許第1391437号明細書は無
水不活性有機溶媒中で7−アシルアミノセファロスポリ
ンを三ハロゲン化燐と反応させ得らn’ft溶液をイミ
ドI・ライド形成性化合物と接触させ、その反応混合物
をイミノエーテル形成性化合物と混合させそして所望の
7−アミツセフアロスボリンヲ1収することによる7−
アミノセフアロスボリンの製造法を記載している。
水不活性有機溶媒中で7−アシルアミノセファロスポリ
ンを三ハロゲン化燐と反応させ得らn’ft溶液をイミ
ドI・ライド形成性化合物と接触させ、その反応混合物
をイミノエーテル形成性化合物と混合させそして所望の
7−アミツセフアロスボリンヲ1収することによる7−
アミノセフアロスボリンの製造法を記載している。
この方法に使用さnる出発物質は、式
C式中R”flカルボキシルアシル基例えば5−アミノ
アジポイル基またはその誘導体でありtYは水素、アセ
トキシまたはヌクレオフィル残基でありそして点線はそ
の化合物がセフ−2−エムまたはセフ−5−エム化合物
でありうることを示している)の化合物またはその塩で
ありうる。
アジポイル基またはその誘導体でありtYは水素、アセ
トキシまたはヌクレオフィル残基でありそして点線はそ
の化合物がセフ−2−エムまたはセフ−5−エム化合物
でありうることを示している)の化合物またはその塩で
ありうる。
英国特許第1467355号明細書はそnぞn相当する
6−またFi7−アシルアミノペニシリンまたはセファ
ロスポリンをモル過剰のオキザリルクロリドと反応させ
、その生成物をハロゲン化剤、そして同時Kかまたは引
きつづいてアルキルオルトホルメートまたは第1級また
は第2級アルコールで処理し、そして次いで得らnたイ
ミノエーテルを水とアルカノールとの混合物’tt2用
して加水分解することKよる6−アミノはニジラン酸お
よび7−アミツセフアロスボラン酸の5位における誘導
体の製造法を記載している。この方法Kf用しうる出発
物質としてけ、000M の7−アジルアばノセファロスボリンかアffうnる。
6−またFi7−アシルアミノペニシリンまたはセファ
ロスポリンをモル過剰のオキザリルクロリドと反応させ
、その生成物をハロゲン化剤、そして同時Kかまたは引
きつづいてアルキルオルトホルメートまたは第1級また
は第2級アルコールで処理し、そして次いで得らnたイ
ミノエーテルを水とアルカノールとの混合物’tt2用
して加水分解することKよる6−アミノはニジラン酸お
よび7−アミツセフアロスボラン酸の5位における誘導
体の製造法を記載している。この方法Kf用しうる出発
物質としてけ、000M の7−アジルアばノセファロスボリンかアffうnる。
この式のR’、MおよびXに対してあげらnている多数
の基の中には、Roが式 (式中Mは以下に定義の通シであシ、そしでRfはなか
んずくアミンまたは保繰さnたアミノ基である)の基で
あシ、Mが水素または金aまたはアンモニウムカチオン
であり、そしてXはなかんす〈ピリジニウム基である化
合物が包含さnる。
の基の中には、Roが式 (式中Mは以下に定義の通シであシ、そしでRfはなか
んずくアミンまたは保繰さnたアミノ基である)の基で
あシ、Mが水素または金aまたはアンモニウムカチオン
であり、そしてXはなかんす〈ピリジニウム基である化
合物が包含さnる。
英国特許第1391437号および同第1467355
号各明l@書のどちらも、7−アミノ−6−ピリジニウ
ムメチルセファロスポリ7の製造全具体的には開示して
いない。
号各明l@書のどちらも、7−アミノ−6−ピリジニウ
ムメチルセファロスポリ7の製造全具体的には開示して
いない。
英国特許第2052490A号明細書は、相当する7−
アジルアばノ化合物の脱アシル化による(6R,7R)
−7−アばノー3−(1−ピリジニウムメチル)セフ
−3−エム−4−カルポキシレートジ塩酸塩の製造を記
載しているが、そのアシル基は例えばそのカルボキシル
基とアばノ基の一方または両方がブロックさnたもので
ありうる5−アミノアシボイル基でありうる。セファロ
リジンから出発した7−アミン化合物の製造が例示さn
ている。セファロリジン自体ハセファロスボリンCから
数段階で製造さnる・この全体的工程は非常に長い。
アジルアばノ化合物の脱アシル化による(6R,7R)
−7−アばノー3−(1−ピリジニウムメチル)セフ
−3−エム−4−カルポキシレートジ塩酸塩の製造を記
載しているが、そのアシル基は例えばそのカルボキシル
基とアばノ基の一方または両方がブロックさnたもので
ありうる5−アミノアシボイル基でありうる。セファロ
リジンから出発した7−アミン化合物の製造が例示さn
ている。セファロリジン自体ハセファロスボリンCから
数段階で製造さnる・この全体的工程は非常に長い。
目−ロツバ特許出願第27599号明細書は、(6R,
7R) −7−(D −5−カルボキシ−5−(3−フ
ェニルウレイド)−ペンタンアミド)−6−<1−ピリ
ジニウムメチル)セフ−3−エム−4−カルボキシレー
トからの(6R,7R) −7−アばノー5−(1−ピ
リジニウムメチル)セフ−6−エム−4−カルポキシレ
ートジ塩酸塩2水和物の製造を記載しているが、前者の
化合物はナトリウム(6R,7R) −7−(D −5
−カルボキシ−5−<5−フェニルウレイド)ヘンタン
アミド)−3−アセトキシメチルセフー5−エム−4−
カルボキシレートをピリジンと反応させることによって
製造さnている。しかしなめくら全体的収率は比較的低
い。
7R) −7−(D −5−カルボキシ−5−(3−フ
ェニルウレイド)−ペンタンアミド)−6−<1−ピリ
ジニウムメチル)セフ−3−エム−4−カルボキシレー
トからの(6R,7R) −7−アばノー5−(1−ピ
リジニウムメチル)セフ−6−エム−4−カルポキシレ
ートジ塩酸塩2水和物の製造を記載しているが、前者の
化合物はナトリウム(6R,7R) −7−(D −5
−カルボキシ−5−<5−フェニルウレイド)ヘンタン
アミド)−3−アセトキシメチルセフー5−エム−4−
カルボキシレートをピリジンと反応させることによって
製造さnている。しかしなめくら全体的収率は比較的低
い。
すなわちセファロスポリンCまたはその鋳導体の基本的
出発物質からの(61R,7R) −7−アばノー3−
(1−ヒリジニウムメチル)セフ−5−エム−4−カル
ボキシレートの製造に対する以前の方法は特に効率よい
ものではない。現在の技術水準においてはセファロスポ
リンCまたtl−F’スアセナルセファロスボリ/Cか
ら容易に誘導できそして効率よく7−アiノー3−ビI
Jジニウムメチルセファロスボリノに変撚できる中間体
に関する開示はない。
出発物質からの(61R,7R) −7−アばノー3−
(1−ヒリジニウムメチル)セフ−5−エム−4−カル
ボキシレートの製造に対する以前の方法は特に効率よい
ものではない。現在の技術水準においてはセファロスポ
リンCまたtl−F’スアセナルセファロスボリ/Cか
ら容易に誘導できそして効率よく7−アiノー3−ビI
Jジニウムメチルセファロスボリノに変撚できる中間体
に関する開示はない。
本発明者らはここに、7−アミノ−3−ビ13ジニウム
メチルセファロスポリンの製造の友めの短かく経済的な
そして便利な方法において使用できる新規なセフアロス
ポリン化合物およびその塩を発見した0 本発明の一態様によ′t″Lは、式 (11 の化合物およびその塩が提供さ扛る。塩誘導体としては
、無機塩基塩例えばアルカリ金属塩(例えばナトリウム
またはカリウム塩)およびアルカリ土類金属塩(例えば
カルシウム塩)、−有機塩基の塩(例えばブロカイン、
フェニルエチルベンシルアばン、ジベンジルエチレ7ジ
アミン、エタノールアミン、ジエタノールアばンおよび
N−メチルグルコサミン塩)、および酸付加壌(例えば
鉱酸例えば塩酸、臭化水累酸、硫酸、硝酸まfcは燐酸
または有機酸例えばトリフルオロ酢酸、メタンスルホン
酸まfcはトルエン−p−スルホン酸を使用して形成さ
nるもの)をあけることができる。
メチルセファロスポリンの製造の友めの短かく経済的な
そして便利な方法において使用できる新規なセフアロス
ポリン化合物およびその塩を発見した0 本発明の一態様によ′t″Lは、式 (11 の化合物およびその塩が提供さ扛る。塩誘導体としては
、無機塩基塩例えばアルカリ金属塩(例えばナトリウム
またはカリウム塩)およびアルカリ土類金属塩(例えば
カルシウム塩)、−有機塩基の塩(例えばブロカイン、
フェニルエチルベンシルアばン、ジベンジルエチレ7ジ
アミン、エタノールアミン、ジエタノールアばンおよび
N−メチルグルコサミン塩)、および酸付加壌(例えば
鉱酸例えば塩酸、臭化水累酸、硫酸、硝酸まfcは燐酸
または有機酸例えばトリフルオロ酢酸、メタンスルホン
酸まfcはトルエン−p−スルホン酸を使用して形成さ
nるもの)をあけることができる。
本発明の化合物は、実質的に純粋の形態でそして高い収
率で製造することができる。
率で製造することができる。
本発明の化合物は有利には化合物(6R* 7R) −
7−アばノー6−(1−ピリジニウムメチル)セフ−6
−エム−4−カルボキシレートまたはその塩例えばジ塩
酸塩の製造に使用することができるが、このものは結晶
性で実質的に純粋でありそして高収率で得らnる。前記
のように、この化合物は、7−8%−3−ピリジニウム
メチルセファロスポリン抗生m實例えばセフタチジムお
よびセファロリジンを製造するための特に有利な中間体
である。
7−アばノー6−(1−ピリジニウムメチル)セフ−6
−エム−4−カルボキシレートまたはその塩例えばジ塩
酸塩の製造に使用することができるが、このものは結晶
性で実質的に純粋でありそして高収率で得らnる。前記
のように、この化合物は、7−8%−3−ピリジニウム
メチルセファロスポリン抗生m實例えばセフタチジムお
よびセファロリジンを製造するための特に有利な中間体
である。
更に本発明者らは、式(11の化合物が容易に結晶性で
得らnるということを発見した。こnは本発明の好まし
い性質である。この結晶性物質は高収率で得らnそして
良好な安定性を有している@ 式(1)の結晶性Aヒ合物はそのX線粉末回折パターン
によって特性づけらfている。本化合物に関するX線結
晶字的データは以下の表に与えらnている。
得らnるということを発見した。こnは本発明の好まし
い性質である。この結晶性物質は高収率で得らnそして
良好な安定性を有している@ 式(1)の結晶性Aヒ合物はそのX線粉末回折パターン
によって特性づけらfている。本化合物に関するX線結
晶字的データは以下の表に与えらnている。
すべてのf’aJ &はム単位で与えらnておりそして
こntiよシ大なる「d」間隔に対してはOoKα露出
から、そしてより低い「d」全間隔(〈3ム)K対して
灯0uKa農出からとらnた。−d(AI 強度
(1(A) 強度15.09 m
3.70 VWass wa
3.52 vw7.87 w
3t24 W6.55m
′5.09 W(15,56v−
w 2.qB wa5.14
vw Q、f37 vwd5.0
3 vw 2.72 W4
.80 g 2.63 W
4.65 g 2.49
VW4.49 w 2.4
2 VW(14,26m 2.S
o 2vv4.17 m 2
.15 2vw4.07 vs
2,11 2vw199 vs
2.07 2VWA82 VW
2.05 2vw8−強 m=中 W−弱 v
−=非常に d=拡散本発明の化合物は次の方法のどn
かによって製造することができるが、こnらはそn自体
本発明の別の態様を形成する。
こntiよシ大なる「d」間隔に対してはOoKα露出
から、そしてより低い「d」全間隔(〈3ム)K対して
灯0uKa農出からとらnた。−d(AI 強度
(1(A) 強度15.09 m
3.70 VWass wa
3.52 vw7.87 w
3t24 W6.55m
′5.09 W(15,56v−
w 2.qB wa5.14
vw Q、f37 vwd5.0
3 vw 2.72 W4
.80 g 2.63 W
4.65 g 2.49
VW4.49 w 2.4
2 VW(14,26m 2.S
o 2vv4.17 m 2
.15 2vw4.07 vs
2,11 2vw199 vs
2.07 2VWA82 VW
2.05 2vw8−強 m=中 W−弱 v
−=非常に d=拡散本発明の化合物は次の方法のどn
かによって製造することができるが、こnらはそn自体
本発明の別の態様を形成する。
A)式
(式中2はヌクレオフィルの置換可能な残基例えば沃素
原子またはアシルオキシ基例えばアセトキシまたはジク
ロロアセトキシ基である)の化合物またはその塩例えば
シナ) IJウム塩またはその保繰さnた誘導体をピリ
ジンと反応させ、次いで必要な場合にはいず牡かの保護
基VW去すること、および B)式 の化合物またはその塩をN−ベンゾイル化すること。
原子またはアシルオキシ基例えばアセトキシまたはジク
ロロアセトキシ基である)の化合物またはその塩例えば
シナ) IJウム塩またはその保繰さnた誘導体をピリ
ジンと反応させ、次いで必要な場合にはいず牡かの保護
基VW去すること、および B)式 の化合物またはその塩をN−ベンゾイル化すること。
本発明者らは、式+11の化合物の塩の水性溶液のpH
を例えば燐酸を使用することKよって2.0〜5.0の
間に調整しそして所望の生成物を単離することによ′り
て、式(1)の化合物を結晶状に得ることができること
を発見し友。その塩は例えばアルカリ金租塩でありうる
。式(1)の化合物またはその塩は、便利には粗製の化
合物を含有する溶媒媒体をイオン交換樹脂、好ましくは
液体イオン交換樹脂例えはアンバーライトLA−2(弱
塩基性高分子第2級アiy)で処理した後に結晶性に得
ることができる。その他の適当なイオン交換樹脂として
は弱塩基性液体または固体ポリアミン樹脂および強塩基
性液体または固体第4級アンモニウム樹脂例えばアンバ
ーライトLA−1.アンバーライトエRム96、アリフ
ォト(Aliquat) 336およびム101Dがあ
げらnる。
を例えば燐酸を使用することKよって2.0〜5.0の
間に調整しそして所望の生成物を単離することによ′り
て、式(1)の化合物を結晶状に得ることができること
を発見し友。その塩は例えばアルカリ金租塩でありうる
。式(1)の化合物またはその塩は、便利には粗製の化
合物を含有する溶媒媒体をイオン交換樹脂、好ましくは
液体イオン交換樹脂例えはアンバーライトLA−2(弱
塩基性高分子第2級アiy)で処理した後に結晶性に得
ることができる。その他の適当なイオン交換樹脂として
は弱塩基性液体または固体ポリアミン樹脂および強塩基
性液体または固体第4級アンモニウム樹脂例えばアンバ
ーライトLA−1.アンバーライトエRム96、アリフ
ォト(Aliquat) 336およびム101Dがあ
げらnる。
7ノバーライト榴脂はローム・アンド・ハース社にヨF
)、A 101 Dはドウオライド・インターナショナ
ル・リミテッド(英国iドルセックス州)によシ、そし
てアリフォト336はゼネラル・iルズ・ケばカルズ社
(米国ミネソタ州ミネアポリス)により発売さnている
。
)、A 101 Dはドウオライド・インターナショナ
ル・リミテッド(英国iドルセックス州)によシ、そし
てアリフォト336はゼネラル・iルズ・ケばカルズ社
(米国ミネソタ州ミネアポリス)により発売さnている
。
式+1111の化合物は、ピリジンを例えば式α)(式
中2は前記定義のとおりである)の化合物また祉その塩
または保mts導体と反応させ次いで必要な場合に扛す
べての保羨基を除去することKよって製造することがで
きる。
中2は前記定義のとおりである)の化合物また祉その塩
または保mts導体と反応させ次いで必要な場合に扛す
べての保羨基を除去することKよって製造することがで
きる。
式(1)またFi(ト)の化合物中の2が沃素の場合に
0QH C式中RIU水素まfcはベンゾイルである)の化合物
またにその塩、双性イオンまたは保躾誘導体トドリアル
キルヨードシランとの反応およびそnK続いて必要によ
り保赦基の除去によって製造することができる。トリア
ルキルヨードシラン中のアルキル基は例えばトリメチル
ヨードシランにおけるように好ましくは1〜6個の炭素
原子を含有している。ヨード化反応は便利には米国特許
第4266049号明細書記載のようにして実施するこ
とができる。
0QH C式中RIU水素まfcはベンゾイルである)の化合物
またにその塩、双性イオンまたは保躾誘導体トドリアル
キルヨードシランとの反応およびそnK続いて必要によ
り保赦基の除去によって製造することができる。トリア
ルキルヨードシラン中のアルキル基は例えばトリメチル
ヨードシランにおけるように好ましくは1〜6個の炭素
原子を含有している。ヨード化反応は便利には米国特許
第4266049号明細書記載のようにして実施するこ
とができる。
2がアシルオキシ基を表わしている式(厘)ま九は([
V)の化合物は、式 (式中R1は前記定義のとお9である)の化合物または
その塩、双性イオンまたは保II#導体tアシル化させ
、次いで必要な場合には保島基を除去することによって
製造できる。このアシル化反応は例えば英国特許第1,
141,293号明細書に記載のようにして実施するこ
とができる。R1が水Xt表わしている式(資)の化合
物は例えば英国特許第1.43へ528号ま友は同第2
060610A号各明細書記載のようにして醗酵により
得ることができる。
V)の化合物は、式 (式中R1は前記定義のとお9である)の化合物または
その塩、双性イオンまたは保II#導体tアシル化させ
、次いで必要な場合には保島基を除去することによって
製造できる。このアシル化反応は例えば英国特許第1,
141,293号明細書に記載のようにして実施するこ
とができる。R1が水Xt表わしている式(資)の化合
物は例えば英国特許第1.43へ528号ま友は同第2
060610A号各明細書記載のようにして醗酵により
得ることができる。
前記のように本発明の化合物は7−アばノー3−ピリジ
ニウムメチルセファロスポリンの製造過程において有利
に使用することかできる。
ニウムメチルセファロスポリンの製造過程において有利
に使用することかできる。
すなわち、その他の態様において、本発明はの化合物ま
たはその塩例えば酸付加塩(fIlえば前述の鉱酸iた
は有機酸のいずnか一つを使轡して製造さnる)の製造
法を提供するものであり、而してこの方法は式([1の
化合物の7−q鎖の除去段階を包含する◎ 式(11の化合物からの武器の化合物の製造は一般に、
便利にはセファロスポリンC1そのデスアセチル同族体
またはその誘導体から出発して全体的工程の一部を形成
する。
たはその塩例えば酸付加塩(fIlえば前述の鉱酸iた
は有機酸のいずnか一つを使轡して製造さnる)の製造
法を提供するものであり、而してこの方法は式([1の
化合物の7−q鎖の除去段階を包含する◎ 式(11の化合物からの武器の化合物の製造は一般に、
便利にはセファロスポリンC1そのデスアセチル同族体
またはその誘導体から出発して全体的工程の一部を形成
する。
すなわち更にその他の態様において、本発明は式中の化
合物またはその塩から7−IQIIIIAを除去するこ
とを包含する、前記定義の式(資)の化合物ま次はその
塩の、IR造法を提供するものであり、その際、前記化
合物は次の方法のいすnか賜すなわち a)セファロスポリンCまたはその塩をN−ベンゾイル
化して式(1) (式中2はアセトキシである)の化合
物tXはそのtxt−生成させ、そしてそf′Lf:ピ
リジンと反応させて式(11の化合物マ几はその塩を生
成させること、 b)セファロスポリ/Cまたはその塩f N −ベンゾ
イル化させそのようにして生成さnた生成物また(儂そ
の保護誘導体をトリアルキルヨードシランと反応させて
式(R1(式中2は沃素原子である)の化合物まtはそ
の塩または保護誘導体を生成させ次いでそnをピリジン
と反応させそして必要な場合には保護基を除去して式(
1)の化合物またはその塩を生成させること、 c) −F’スアセチルセファロスボリ/Cまたはそ
の塩をN−ベンゾイル化させて式<VD C式中R1は
ベンゾイルである)の化合物またはそのFJAt生成さ
す、そしてこの化合物またはその保−誘導体をアシル化
剤と反応させて化合物(1)(式中2はアシルオキシ基
である)またはその@または保−誘導体を生成させ、次
いでビリジ/と反応させ、そして必’IK応じて保躾基
を除去して式(11の化合物またはその塩を生成させる
こと、d)セファロスポリンCまたはその塩をピリジノ
と反応させて前記定義の式(2)の化合物ま几はそのt
he生成させ、次いでそnをベンゾイル化させて式(I
Iの化合物ま友はその塩を生成させること、 e)セファロスポリンCま友はその塩tたは保−誘導体
をトリアルキルヨードシランと反応させて式([V)
C式中2は沃素原子である)の化合物またはその塩また
は保謙誘導体金生成させ、次いでピリジンと反応させ、
そして必要な場合には保護基を除去して式@)の化合物
またはその塩を生成させこ−rLをM ++ kンゾイ
ル化させて式(1)の化合物またはその基管生成させる
こと、f)デスアセチルセファロスポリン0またはその
塩または株数誘導体をアシル化剤と反応させ、次いで必
要な場合には保躾基を除去して式(2)(式中2はアシ
ルオキシ基である)の化合物まfc、はその塩を主成さ
せ、その化合物を下記のいずCかすなわち I)ビリジ/と反応させて前記定義の式(川;の化合物
またはその@全生成させ次いでN−ベンゾイル化させて
式(1)の化合物またはその塩を生成させること、まf
c11′1 11)N−にンゾイル化させて前記定義の式(璽)の化
合物ま文はその頃を生成させ次いでピリジンと反応させ
て式Iの化合物またはその堪を生成させること にかけること Kよって製造さnた口 所望により前記の方法によシ製造さ扛た式(資)の化合
物祉その酸付加塩に変換さ牡る。
合物またはその塩から7−IQIIIIAを除去するこ
とを包含する、前記定義の式(資)の化合物ま次はその
塩の、IR造法を提供するものであり、その際、前記化
合物は次の方法のいすnか賜すなわち a)セファロスポリンCまたはその塩をN−ベンゾイル
化して式(1) (式中2はアセトキシである)の化合
物tXはそのtxt−生成させ、そしてそf′Lf:ピ
リジンと反応させて式(11の化合物マ几はその塩を生
成させること、 b)セファロスポリ/Cまたはその塩f N −ベンゾ
イル化させそのようにして生成さnた生成物また(儂そ
の保護誘導体をトリアルキルヨードシランと反応させて
式(R1(式中2は沃素原子である)の化合物まtはそ
の塩または保護誘導体を生成させ次いでそnをピリジン
と反応させそして必要な場合には保護基を除去して式(
1)の化合物またはその塩を生成させること、 c) −F’スアセチルセファロスボリ/Cまたはそ
の塩をN−ベンゾイル化させて式<VD C式中R1は
ベンゾイルである)の化合物またはそのFJAt生成さ
す、そしてこの化合物またはその保−誘導体をアシル化
剤と反応させて化合物(1)(式中2はアシルオキシ基
である)またはその@または保−誘導体を生成させ、次
いでビリジ/と反応させ、そして必’IK応じて保躾基
を除去して式(11の化合物またはその塩を生成させる
こと、d)セファロスポリンCまたはその塩をピリジノ
と反応させて前記定義の式(2)の化合物ま几はそのt
he生成させ、次いでそnをベンゾイル化させて式(I
Iの化合物ま友はその塩を生成させること、 e)セファロスポリンCま友はその塩tたは保−誘導体
をトリアルキルヨードシランと反応させて式([V)
C式中2は沃素原子である)の化合物またはその塩また
は保謙誘導体金生成させ、次いでピリジンと反応させ、
そして必要な場合には保護基を除去して式@)の化合物
またはその塩を生成させこ−rLをM ++ kンゾイ
ル化させて式(1)の化合物またはその基管生成させる
こと、f)デスアセチルセファロスポリン0またはその
塩または株数誘導体をアシル化剤と反応させ、次いで必
要な場合には保躾基を除去して式(2)(式中2はアシ
ルオキシ基である)の化合物まfc、はその塩を主成さ
せ、その化合物を下記のいずCかすなわち I)ビリジ/と反応させて前記定義の式(川;の化合物
またはその@全生成させ次いでN−ベンゾイル化させて
式(1)の化合物またはその塩を生成させること、まf
c11′1 11)N−にンゾイル化させて前記定義の式(璽)の化
合物ま文はその頃を生成させ次いでピリジンと反応させ
て式Iの化合物またはその堪を生成させること にかけること Kよって製造さnた口 所望により前記の方法によシ製造さ扛た式(資)の化合
物祉その酸付加塩に変換さ牡る。
前記方法により製造さrtた式(ロ)の化合物の好まし
い塩はジ塩酸塩、特に2水和物の形のジ塩酸塩である。
い塩はジ塩酸塩、特に2水和物の形のジ塩酸塩である。
前記方法によるベンゾイル化反応は好ましくはベンゾイ
ルクロリドef用して実施さnる。
ルクロリドef用して実施さnる。
反兄、媒体は便利には水性有根浴媒例えは水性ケトン例
えば水性アセトンまたは水性アルカノール例えは低級ア
ルコールまたはアルコール混合物例えば水性工業用メチ
ル加酒精である。反遣媒体のpHは便利には7〜10、
好ましくは8〜9の範囲である。
えば水性アセトンまたは水性アルカノール例えは低級ア
ルコールまたはアルコール混合物例えば水性工業用メチ
ル加酒精である。反遣媒体のpHは便利には7〜10、
好ましくは8〜9の範囲である。
前記の方法によるピリジンによる2の置換は便利には1
〜10モルのピリジンを有利には使用して反応成分を浴
液ま几は懸濁液に保つことKより実施することができる
。
〜10モルのピリジンを有利には使用して反応成分を浴
液ま几は懸濁液に保つことKより実施することができる
。
ヌクレオフィル置換反応は、3−メチル置換基がアシル
オキシ基ま九は沃素原子である例えば以下に論じらnて
いるような化合物に関して実施することができる。
オキシ基ま九は沃素原子である例えば以下に論じらnて
いるような化合物に関して実施することができる。
6−メチル1大換基かアシルオキシ基特にアセトキシ基
である化合物の置侠反応は反応媒体中のヨーダイト1f
tはチオシアネートイオンの存在によって容易化さn6
゜このタイプの反応は英国特許第1132621号およ
び同第1171603号各明細書にl9詳細に記載さ扛
ている。この反応は有利には好ましくは5〜8、特に5
.5〜7のpHおよび306〜110℃好ましくは50
″〜80℃の温度の水性媒体中で実施さnる。
である化合物の置侠反応は反応媒体中のヨーダイト1f
tはチオシアネートイオンの存在によって容易化さn6
゜このタイプの反応は英国特許第1132621号およ
び同第1171603号各明細書にl9詳細に記載さ扛
ている。この反応は有利には好ましくは5〜8、特に5
.5〜7のpHおよび306〜110℃好ましくは50
″〜80℃の温度の水性媒体中で実施さnる。
2が徴候酢酸残基である化合物を使用した前記の方法は
英国特許第1241657号明細書に記載のようにして
実施する仁とができる。
英国特許第1241657号明細書に記載のようにして
実施する仁とができる。
2がアシルオキシ基である化合物に関してヌクレオフィ
ル置換反応が実施さ扛る場合4Cは一セファロスポリン
のカルボキシル基は好ましくは保−されていない。
ル置換反応が実施さ扛る場合4Cは一セファロスポリン
のカルボキシル基は好ましくは保−されていない。
ピリジンと3−メチル置amが沃素原子である化合物と
の反応は、便利には好ましくは1個またはそn以上の由
利には極性の性質を有する有機溶媒例えはエーテル例え
ばジオキサンま几はテトラヒドロフラン、エステル91
ノエば酢酸エチル、アばド例えはホルムアミドおよびN
、N −ジメチルホルムアεドおよび/マタはケトン例
えばアセトンを包含する非水性媒体中で実施さnる・あ
る場合にはピリジ/自体t−浴媒として使用することが
できる。反応媒体線極度に酸性またFi極度に塩基性の
どちらでもないものであるべきである。ピリジンによる
ヌクレオフィル置換反応は便泡には一10°〜+50℃
、好ましくは+10@〜+60℃の温度で実施さnる。
の反応は、便利には好ましくは1個またはそn以上の由
利には極性の性質を有する有機溶媒例えはエーテル例え
ばジオキサンま几はテトラヒドロフラン、エステル91
ノエば酢酸エチル、アばド例えはホルムアミドおよびN
、N −ジメチルホルムアεドおよび/マタはケトン例
えばアセトンを包含する非水性媒体中で実施さnる・あ
る場合にはピリジ/自体t−浴媒として使用することが
できる。反応媒体線極度に酸性またFi極度に塩基性の
どちらでもないものであるべきである。ピリジンによる
ヌクレオフィル置換反応は便泡には一10°〜+50℃
、好ましくは+10@〜+60℃の温度で実施さnる。
2が沃X鳳子である化合物は好ましくは保護さnた形で
製造さnそして以後の反応FC使用さnる。それ、らは
便利にはピリルジンとの反応の前に単離さ扛゛ない。
製造さnそして以後の反応FC使用さnる。それ、らは
便利にはピリルジンとの反応の前に単離さ扛゛ない。
保護基は例えば英国特許第1399086号明細書記載
の当技術分野に既知の通常の保護基のいずnでもよいo
しかしながらトリアルキルシリル基例えはトリメチルシ
リル基が好ましい。こnらは例えばトリアルキルクロロ
シラン9Qえばトリメチルクロロシランを使用して生成
させることができる。
の当技術分野に既知の通常の保護基のいずnでもよいo
しかしながらトリアルキルシリル基例えはトリメチルシ
リル基が好ましい。こnらは例えばトリアルキルクロロ
シラン9Qえばトリメチルクロロシランを使用して生成
させることができる。
前記方法による式(11の化合物またはその塩からの7
−@鎖の除去は便利に線化合物を五塩化燐と接触させ、
そのようにして生成さnたイミドクロリドをイミノエー
テルに変換させ、そしてそのイばノエーテルを加水分解
ま几は加アルコール分解させて所望の化合物を生成させ
ることによって実施できる。一般に所望ま次は必要な場
合に容易に切断できる基で4−カルボキシル基を保幽し
ておくことがそのような反応においては必要である。こ
rtは便利には4−カルボキシルlのシリル化により実
施しうる。そのような柩・アシル化法は例えは英国特許
第1241655号および同第2052490A号各明
細書中に記載さfている。
−@鎖の除去は便利に線化合物を五塩化燐と接触させ、
そのようにして生成さnたイミドクロリドをイミノエー
テルに変換させ、そしてそのイばノエーテルを加水分解
ま几は加アルコール分解させて所望の化合物を生成させ
ることによって実施できる。一般に所望ま次は必要な場
合に容易に切断できる基で4−カルボキシル基を保幽し
ておくことがそのような反応においては必要である。こ
rtは便利には4−カルボキシルlのシリル化により実
施しうる。そのような柩・アシル化法は例えは英国特許
第1241655号および同第2052490A号各明
細書中に記載さfている。
式(11の化合物の塩基の塩は相轟する酸を適当な塩■
と反応させることによって製造することができる。すな
わち例1えばナトリウムまたはカリウム塩はそtぞnの
2−エチルヘキサノエートまたは顎酸水素塩を便用して
製造することができる・ 酸付加塩は式(11または(2)の化食物を適当な敵と
反応、させることによって製造しうる。
と反応させることによって製造することができる。すな
わち例1えばナトリウムまたはカリウム塩はそtぞnの
2−エチルヘキサノエートまたは顎酸水素塩を便用して
製造することができる・ 酸付加塩は式(11または(2)の化食物を適当な敵と
反応、させることによって製造しうる。
前述したように、式(社)の化合物の好ましい酸付加塩
は2水和物として生成しうるジ塩酸塩である。こr′L
は反応混合物を水または水性媒体とかまたは塩化水素の
水性溶液と接触させることKより、lたは水性塩化水素
酸中にジ塩酸塩を溶解させその後で適当な試薬例えば低
級アルカノール例えばイソプロビルアルコールヲ加える
ことによってジ塩酸塩2水和物をそnがら沈殿させると
とKよって実施できる。
は2水和物として生成しうるジ塩酸塩である。こr′L
は反応混合物を水または水性媒体とかまたは塩化水素の
水性溶液と接触させることKより、lたは水性塩化水素
酸中にジ塩酸塩を溶解させその後で適当な試薬例えば低
級アルカノール例えばイソプロビルアルコールヲ加える
ことによってジ塩酸塩2水和物をそnがら沈殿させると
とKよって実施できる。
以下の例により本発明を説明する。すべての温度は摂氏
による。プロトン磁気共@ (p、m、r)スはクトル
は100 MH2で測定さfた。積分値/ri帰属と一
致する。結合定数JはH2であり、サインは沖]定さn
なかった。s =1重線、a−2重線、dd=ダブル2
重線、t=3重線、m−多重線、そしてABq=AB4
重線である。h、p、1.c。
による。プロトン磁気共@ (p、m、r)スはクトル
は100 MH2で測定さfた。積分値/ri帰属と一
致する。結合定数JはH2であり、サインは沖]定さn
なかった。s =1重線、a−2重線、dd=ダブル2
重線、t=3重線、m−多重線、そしてABq=AB4
重線である。h、p、1.c。
は高性能液体クロマトグラフィーである。
物、 1
(6R,7R) −7−(’ D −5−ベンズアミド
−5−カルホ゛キシペンタンアミド)−5−アセトキシ
□ メチルセフ−5−エム−4−カルボン酸ジナトリウム塩 カリウム(61’j、7R) −7−(D −5−アば
ノー5−カルボキシペンタンアミド)−3−アセトキシ
メチルセフ−5−エム−4−カルボキシレート(9o、
af)を水(600m)中に周囲温度で攪拌下に加えた
。水性混合物のpHを50%燐酸トリカリウム水溶液(
6d)の添加によりa5に上昇させ友。アセトン(40
0d)中のベンゾイルクロライド(25,4m)の溶液
を70分間にわたって加えそして反応混合物のpQ−5
0%燐酸トリカリウム水浴液(170d)の添加により
a3〜a5に保持した。生ずる溶Qt−45分間攪拌し
、水(500d)および酢酸エチル(500J1g)で
希釈しそしてpHを燐酸を用いて低下させて5とした。
−5−カルホ゛キシペンタンアミド)−5−アセトキシ
□ メチルセフ−5−エム−4−カルボン酸ジナトリウム塩 カリウム(61’j、7R) −7−(D −5−アば
ノー5−カルボキシペンタンアミド)−3−アセトキシ
メチルセフ−5−エム−4−カルボキシレート(9o、
af)を水(600m)中に周囲温度で攪拌下に加えた
。水性混合物のpHを50%燐酸トリカリウム水溶液(
6d)の添加によりa5に上昇させ友。アセトン(40
0d)中のベンゾイルクロライド(25,4m)の溶液
を70分間にわたって加えそして反応混合物のpQ−5
0%燐酸トリカリウム水浴液(170d)の添加により
a3〜a5に保持した。生ずる溶Qt−45分間攪拌し
、水(500d)および酢酸エチル(500J1g)で
希釈しそしてpHを燐酸を用いて低下させて5とした。
2相を分離し、酢酸エチル(1t)を水層に加えそして
燐酸を用いてpH2に低下させた◎相を分離させそして
水層を酢酸エチル(500d)を用いて再抽出した。合
した酢酸エチル抽出液を硫酸ナト11ウドと60分W]
攪拌し。
燐酸を用いてpH2に低下させた◎相を分離させそして
水層を酢酸エチル(500d)を用いて再抽出した。合
した酢酸エチル抽出液を硫酸ナト11ウドと60分W]
攪拌し。
濾過しそしてケーキを少量の酢酸エチルで洗った。P液
および洗液を回転蒸発器で40℃で蒸発させて油状物を
得、そし、てこの残留物をアセトン(400m/)中に
淫−・解させた。2−エチルヘキサン酸ナトリウム(6
6,5f)eアセトン(500It/)中に溶解させそ
して清澄化させたのち、標記酬のアセトン溶液に攪拌下
に周囲温度で2−エチルヘキサン酸ナトリウムの溶液を
60分間かけて加えた。生ずる懸濁液を15分間攪拌し
そして生成物を真空濾過により巣め、アセトン(500
m)で洗いそして室温で真空下に一夜乾燥して標記化合
物(9a4F)を得た。UV(pH6の緩衝液):λI
r、&z 2!12 nm 、 B’%257、λi
nf 2631 nm 、l!’%148゜ cIrL 例 2 (6R,7R) −7−(D −5−べ/ズアばドー5
7カルボキシにンタンアばド〕−5−(1−ピリジニウ
ムメチル)セフ−6−エム−4−カルボキシレート 沃化ナトリウム(102,5f)およびピリジン(a5
st/)’を水(20tRt) 中111合り、ソLテ
コの浴液1t60℃に加熱した。(6R,7R) −7
−CD−5−ペンズアごドー5−カルボキシペンタンア
ばド)−6−アセドキシメチルセフー5−エム−4−カ
ルボン酸ジナトリウム塩(2a15F)を加えそして水
(5−)と共に流し込んだ。この溶液を60℃において
525時間攪拌し、冷却しそしてアセトン(50aIt
)で希釈した@攪拌しているアセトン(1,75t)中
にこの反応混合物を30分間にわたって添加し、0℃に
冷却しそして粗生成物を真空濾過により集め、アセトン
(250m)およびエーテル(150++d)で洗いそ
して真空下に周囲温度で一夜乾燥して粗製の標記化合物
(35,3F)を得た。
および洗液を回転蒸発器で40℃で蒸発させて油状物を
得、そし、てこの残留物をアセトン(400m/)中に
淫−・解させた。2−エチルヘキサン酸ナトリウム(6
6,5f)eアセトン(500It/)中に溶解させそ
して清澄化させたのち、標記酬のアセトン溶液に攪拌下
に周囲温度で2−エチルヘキサン酸ナトリウムの溶液を
60分間かけて加えた。生ずる懸濁液を15分間攪拌し
そして生成物を真空濾過により巣め、アセトン(500
m)で洗いそして室温で真空下に一夜乾燥して標記化合
物(9a4F)を得た。UV(pH6の緩衝液):λI
r、&z 2!12 nm 、 B’%257、λi
nf 2631 nm 、l!’%148゜ cIrL 例 2 (6R,7R) −7−(D −5−べ/ズアばドー5
7カルボキシにンタンアばド〕−5−(1−ピリジニウ
ムメチル)セフ−6−エム−4−カルボキシレート 沃化ナトリウム(102,5f)およびピリジン(a5
st/)’を水(20tRt) 中111合り、ソLテ
コの浴液1t60℃に加熱した。(6R,7R) −7
−CD−5−ペンズアごドー5−カルボキシペンタンア
ばド)−6−アセドキシメチルセフー5−エム−4−カ
ルボン酸ジナトリウム塩(2a15F)を加えそして水
(5−)と共に流し込んだ。この溶液を60℃において
525時間攪拌し、冷却しそしてアセトン(50aIt
)で希釈した@攪拌しているアセトン(1,75t)中
にこの反応混合物を30分間にわたって添加し、0℃に
冷却しそして粗生成物を真空濾過により集め、アセトン
(250m)およびエーテル(150++d)で洗いそ
して真空下に周囲温度で一夜乾燥して粗製の標記化合物
(35,3F)を得た。
同様にして調製さtた粗製の標記化合物〕5.52)を
水(195m)中に溶解させそして蟻酸(21,3d)
i含有するエーテル(570wd)中のアンバーライト
(Amberlite) LA −2(509td )
と20分間攪拌した。層を分離しそして有機相を水(3
011t)を用いて逆抽出した。合した水性抽出液をエ
ーテルで洗いそして回転蒸発器上で40℃において濃縮
して約124fを得た〇濃縮物の1部分を室温で攪拌し
そしてpHt燐酸の添加によシ4.1に低下させた。こ
の懸濁液を0℃で2時間熟成させそして生成物を真空濾
過により集め、冷水およびアセトンで洗いそして真9下
に40℃で乾燥して結晶状の標記化合物(s、3f)を
得た・ 元素分析値(026H26N4SO7・邸1313 H
2Oとして)0% H% N% 日
%計算値: 56.86 4.99 1α2 5.8
4実II+ flk:5 ごL66 4.95
1Q、05 5.7h、p、1.c、 純度9
7.1%、(ロ)” + 29.2°(C謬1,0、p
H4緩衝液)、λInaz 236 nm % III
’%310、λ1nf1儂 −252nm%B’%−297(pH6緩衝液)、カー
ル1鋼 フィッシャー法による水分含量1.9%。標記化合物に
ついてのX線データは前出の表に示さnる。
水(195m)中に溶解させそして蟻酸(21,3d)
i含有するエーテル(570wd)中のアンバーライト
(Amberlite) LA −2(509td )
と20分間攪拌した。層を分離しそして有機相を水(3
011t)を用いて逆抽出した。合した水性抽出液をエ
ーテルで洗いそして回転蒸発器上で40℃において濃縮
して約124fを得た〇濃縮物の1部分を室温で攪拌し
そしてpHt燐酸の添加によシ4.1に低下させた。こ
の懸濁液を0℃で2時間熟成させそして生成物を真空濾
過により集め、冷水およびアセトンで洗いそして真9下
に40℃で乾燥して結晶状の標記化合物(s、3f)を
得た・ 元素分析値(026H26N4SO7・邸1313 H
2Oとして)0% H% N% 日
%計算値: 56.86 4.99 1α2 5.8
4実II+ flk:5 ごL66 4.95
1Q、05 5.7h、p、1.c、 純度9
7.1%、(ロ)” + 29.2°(C謬1,0、p
H4緩衝液)、λInaz 236 nm % III
’%310、λ1nf1儂 −252nm%B’%−297(pH6緩衝液)、カー
ル1鋼 フィッシャー法による水分含量1.9%。標記化合物に
ついてのX線データは前出の表に示さnる。
例 5
(6R,7R) −7−CD −5−ペンスアイドー5
−カルボキシペンタンアミド)−3−(1−ピリジニウ
ムメチル)セフ−3−エム−4−カルボキシレート チオシアン敵カリウム(22,52)およびピリジン(
A4mg)金水(511It)中で攪拌しそして80℃
に加熱した。(6R,7R) −7−CD −5−ベン
ズアミド−5−カルホキシベンタンアξF)−5−アセ
トキシメチルセフー3−エム−4−カルボン酸ジナトリ
ウム塩(11,27f)’に加えそしてこの混合物を8
0℃で40分間攪拌した〇透明な溶液を冷却し−アセト
ン(50m)で希釈しそしてはげしく攪拌しているアセ
トン(500d)中に注入し友。生ずる懸濁液を周囲温
度で1時間攪拌しそして相生酸物を真空濾過により集め
た。床をアセトン(50d)および少量のジエチルエー
テルで洗いそして生成物を真空下に室温で一夜乾燥して
標記化合物(1五6f)を粉末として得た。
−カルボキシペンタンアミド)−3−(1−ピリジニウ
ムメチル)セフ−3−エム−4−カルボキシレート チオシアン敵カリウム(22,52)およびピリジン(
A4mg)金水(511It)中で攪拌しそして80℃
に加熱した。(6R,7R) −7−CD −5−ベン
ズアミド−5−カルホキシベンタンアξF)−5−アセ
トキシメチルセフー3−エム−4−カルボン酸ジナトリ
ウム塩(11,27f)’に加えそしてこの混合物を8
0℃で40分間攪拌した〇透明な溶液を冷却し−アセト
ン(50m)で希釈しそしてはげしく攪拌しているアセ
トン(500d)中に注入し友。生ずる懸濁液を周囲温
度で1時間攪拌しそして相生酸物を真空濾過により集め
た。床をアセトン(50d)および少量のジエチルエー
テルで洗いそして生成物を真空下に室温で一夜乾燥して
標記化合物(1五6f)を粉末として得た。
こrtt水(65ad)中に溶解させそして蟻酸(7,
111t)を含有するジエチルエーテル(19〇−)中
でアンバーライトLA −2樹脂(103m)と共に2
0分間周囲温度で攪拌した。相を分離しそして有機相を
水(10111t)で再抽出した。。
111t)を含有するジエチルエーテル(19〇−)中
でアンバーライトLA −2樹脂(103m)と共に2
0分間周囲温度で攪拌した。相を分離しそして有機相を
水(10111t)で再抽出した。。
合し次水性抽出液をジエチルエーテル(30m)で洗い
そして回転蒸発器上50℃で濃縮した(41t)。燐酸
の添加によシ水溶液のpHを2.9に低下させそしてこ
の懸濁液管15分間攪拌し次[5℃で3時間熟成させた
。生成物を真空濾過により集め、氷冷した水(8m)お
よびアセトン(20+d)で洗いそして真空下1c40
℃で一夜乾燥して標記化合物(a81F)を得た。UV
1% λ!flax234 nm % Ili、cIL293
(pH6緩衝液) % h−p−1−c−純度97%。
そして回転蒸発器上50℃で濃縮した(41t)。燐酸
の添加によシ水溶液のpHを2.9に低下させそしてこ
の懸濁液管15分間攪拌し次[5℃で3時間熟成させた
。生成物を真空濾過により集め、氷冷した水(8m)お
よびアセトン(20+d)で洗いそして真空下1c40
℃で一夜乾燥して標記化合物(a81F)を得た。UV
1% λ!flax234 nm % Ili、cIL293
(pH6緩衝液) % h−p−1−c−純度97%。
例 4
a) (6R,7R) −7= 、、CD −5−ベ
ンズアばビー5−カルポキシベンクンアiド)−3−ア
セトキシメチルセフ−5−エム−4−カルボン酸ジナト
リウム塩 カリウム(6R,7R) −7−CD −5−アイノー
5−カルボキシベンタンアくド)−6−アセドキシメチ
ルセフー3−エム−4−カルポキシレ−)(30,Of
)を水中に攪拌下に加えそして5℃に冷却した。この水
性混合物のpHを10%W/V水酸化ナトリウム水溶液
の添加によ#)a5〜a5に上昇させた。ベンジルクロ
ライド(a69−)を4分間にわたって添加しそして1
0%w/v水酸化ナトリウム水溶液の添加により反応混
合物のpHをa5〜a5に保持した。この反応混合物を
10%w/v水酸化ナトリウム水浴液を添加してpia
5〜a5に保持しながらさらに1時間攪拌した。生ずる
溶液に#Hエチル(100ゴ)を加えそして15%v/
v硫酸を用いてpHt5に低下させた。2相を分離し、
水相に酢酸エチル(265d)およびアセトン(53+
d)をカロえそして15%V/V硫酸を用いてpHt−
2,2に低下させ友。相を分離しそして水層を酢酸エチ
ル(80m)で再抽出した。合し次酢酸エチル抽出液を
水(80m)で洗った。2相を分離した。
ンズアばビー5−カルポキシベンクンアiド)−3−ア
セトキシメチルセフ−5−エム−4−カルボン酸ジナト
リウム塩 カリウム(6R,7R) −7−CD −5−アイノー
5−カルボキシベンタンアくド)−6−アセドキシメチ
ルセフー3−エム−4−カルポキシレ−)(30,Of
)を水中に攪拌下に加えそして5℃に冷却した。この水
性混合物のpHを10%W/V水酸化ナトリウム水溶液
の添加によ#)a5〜a5に上昇させた。ベンジルクロ
ライド(a69−)を4分間にわたって添加しそして1
0%w/v水酸化ナトリウム水溶液の添加により反応混
合物のpHをa5〜a5に保持した。この反応混合物を
10%w/v水酸化ナトリウム水浴液を添加してpia
5〜a5に保持しながらさらに1時間攪拌した。生ずる
溶液に#Hエチル(100ゴ)を加えそして15%v/
v硫酸を用いてpHt5に低下させた。2相を分離し、
水相に酢酸エチル(265d)およびアセトン(53+
d)をカロえそして15%V/V硫酸を用いてpHt−
2,2に低下させ友。相を分離しそして水層を酢酸エチ
ル(80m)で再抽出した。合し次酢酸エチル抽出液を
水(80m)で洗った。2相を分離した。
酢酸エチル相を硫酸ナトリウム(2(1)と10分間攪
拌し、P遇しそしてケーキを少量の酢酸エチルで洗つ次
。P液および洗液を(ロ)転蒸発器で蒸発させて泡状物
を得、そしてこめ々質物を工業用変性アルコール(工M
e)(15(ld)中に溶解させた。この攪拌している
浴液に工MS(100IIIt)中に溶解させ7’C2
−エチルヘキサン酸ナトリウム(22,Of)’t12
℃で30分間にわ几って加えた。生ずる懸濁液t−12
℃で15分間攪拌しそして生成物を真空−過して集め、
5℃に冷却した工Me(165sd)で洗いそして真空
下に40℃で一夜乾燥して標記化合物(29,81F)
を得た@Uvスペクトルは例1の生成物のものと同様で
あった・ b) (6R,7R) −7−CD −5−ベンズア
ばドー5−カルボキシA7タンアミド) −5−(1−
ヒリシニウムメチル)セフ−3−エム−4−カルボキシ
レート チオシアン酸カリウム(38,1f)ffi攪拌下に7
0℃に加熱することにより水(、a25m/)中に溶解
させた。完全な溶液が形成さAたら、ピリジン(5,7
5m/ )を加え、続いて段1sk (alの生g物(
19,05f)t−加え友。この混合物を70℃で2時
間攪拌し次。生ずる溶液を60℃に冷却し、アセトン(
90d)で希釈しそして攪拌しているアセトン(840
m)中に40分m]にわ友って添加した。生ずる懸濁液
を周囲温度で30分間攪拌しそして粗生成物を真空−過
によシ回収し友。床をアセトン(135m)で洗つ九。
拌し、P遇しそしてケーキを少量の酢酸エチルで洗つ次
。P液および洗液を(ロ)転蒸発器で蒸発させて泡状物
を得、そしてこめ々質物を工業用変性アルコール(工M
e)(15(ld)中に溶解させた。この攪拌している
浴液に工MS(100IIIt)中に溶解させ7’C2
−エチルヘキサン酸ナトリウム(22,Of)’t12
℃で30分間にわ几って加えた。生ずる懸濁液t−12
℃で15分間攪拌しそして生成物を真空−過して集め、
5℃に冷却した工Me(165sd)で洗いそして真空
下に40℃で一夜乾燥して標記化合物(29,81F)
を得た@Uvスペクトルは例1の生成物のものと同様で
あった・ b) (6R,7R) −7−CD −5−ベンズア
ばドー5−カルボキシA7タンアミド) −5−(1−
ヒリシニウムメチル)セフ−3−エム−4−カルボキシ
レート チオシアン酸カリウム(38,1f)ffi攪拌下に7
0℃に加熱することにより水(、a25m/)中に溶解
させた。完全な溶液が形成さAたら、ピリジン(5,7
5m/ )を加え、続いて段1sk (alの生g物(
19,05f)t−加え友。この混合物を70℃で2時
間攪拌し次。生ずる溶液を60℃に冷却し、アセトン(
90d)で希釈しそして攪拌しているアセトン(840
m)中に40分m]にわ友って添加した。生ずる懸濁液
を周囲温度で30分間攪拌しそして粗生成物を真空−過
によシ回収し友。床をアセトン(135m)で洗つ九。
湿ったケーキを水(75d)中に溶解させそして回転蒸
発器に入nて存在するアセトンを除去した・生ずる溶液
を蟻識(2,6m)を含有するジクロルメタン(75m
)中のアンバーライ軒LA−2樹脂(37,5m)と2
0分間攪拌した。相管分離し、そして水相を蟻酸(2,
6m)を含有するジクロルメタン(75mg)中のアン
バーライトLA −2m脂(37,5m)を用いて再抽
出した・この混合物を20分間攪拌しそして分離した。
発器に入nて存在するアセトンを除去した・生ずる溶液
を蟻識(2,6m)を含有するジクロルメタン(75m
)中のアンバーライ軒LA−2樹脂(37,5m)と2
0分間攪拌した。相管分離し、そして水相を蟻酸(2,
6m)を含有するジクロルメタン(75mg)中のアン
バーライトLA −2m脂(37,5m)を用いて再抽
出した・この混合物を20分間攪拌しそして分離した。
水相をジクロルメタン(37,5m)で洗った。2相を
分離した。水溶液のpHを50%VΔオルト燐酸の添加
忙より30分間にわたって2.8に低下させた。生ずる
懸濁液を0℃に冷却しそして90分間攪拌した。生成物
を真空Pi4によυ集め、氷冷した水(2X30m)で
洗いそして真空下[40℃で一夜乾燥して標記化合物(
9,84f)を得た。UVスペクトルは例3の生成物と
同様であった。
分離した。水溶液のpHを50%VΔオルト燐酸の添加
忙より30分間にわたって2.8に低下させた。生ずる
懸濁液を0℃に冷却しそして90分間攪拌した。生成物
を真空Pi4によυ集め、氷冷した水(2X30m)で
洗いそして真空下[40℃で一夜乾燥して標記化合物(
9,84f)を得た。UVスペクトルは例3の生成物と
同様であった。
例 5
(6R,7R) −7−(D −5−ベンズアずビー5
−カルボキシペンタンアミド−5−(1−ピリジニウム
メチル)セフ−5−エム−4−カルボキシレート (6R,7R) −5−アセトキシメチル−7−(D−
5−ベンズアイビー5−カルボキシペンタンアミド)セ
フ−3−エム−4−カルボンWI/、(α5t)、ジク
ロルメタン(25m)、ピリジン(0,24m)および
トリメチルクロルシラン(0,64一)からなる混合物
を1時間還流加熱し、次に周囲温度に冷却した。攪拌し
ている透明な溶液にトリメチルヨードシラン(0,85
m)をカロえそシテフラスコをアルばニウム粕で囲った
。1時間後黄褐色懸濁液および白色沈殿があった。
−カルボキシペンタンアミド−5−(1−ピリジニウム
メチル)セフ−5−エム−4−カルボキシレート (6R,7R) −5−アセトキシメチル−7−(D−
5−ベンズアイビー5−カルボキシペンタンアミド)セ
フ−3−エム−4−カルボンWI/、(α5t)、ジク
ロルメタン(25m)、ピリジン(0,24m)および
トリメチルクロルシラン(0,64一)からなる混合物
を1時間還流加熱し、次に周囲温度に冷却した。攪拌し
ている透明な溶液にトリメチルヨードシラン(0,85
m)をカロえそシテフラスコをアルばニウム粕で囲った
。1時間後黄褐色懸濁液および白色沈殿があった。
N、N−ジメチルホルムアきド(5d ) sプロピレ
ンオキサイド(1m)およびピリジン(0,48d)を
順次加えそしてこの混合物を周囲温度で50分間攪拌し
た。その11Itだけをとって霊累気流下でジクロルメ
タンt−蒸発させた。残留物を10%V/Vアセトニト
リル水溶液中の0.05M燐酸二水累アンモニウムを用
いて10−まで希釈した@この溶液の1部分をり、p、
1.c、カラムに適用しそして溶離t−260nmで1
l14光的に監視した・数成分が浴離さ扛た・その1個
は標記化合物の真正標本のそnK相当する保持時間を肩
し良。薄層クロマトグラフィー検査(シリカゲル、アセ
トニトリル/水/酢酸(60:20:α4容量比)1用
いて展開)Fi酸成分混合物を示し、その1fffi類
は標記化合物の真正標本のそnと同じR1値(約0.2
)t!t、そして沃化白金酸カリウム溶液に露出した後
に同じ番紫青色をみせた。
ンオキサイド(1m)およびピリジン(0,48d)を
順次加えそしてこの混合物を周囲温度で50分間攪拌し
た。その11Itだけをとって霊累気流下でジクロルメ
タンt−蒸発させた。残留物を10%V/Vアセトニト
リル水溶液中の0.05M燐酸二水累アンモニウムを用
いて10−まで希釈した@この溶液の1部分をり、p、
1.c、カラムに適用しそして溶離t−260nmで1
l14光的に監視した・数成分が浴離さ扛た・その1個
は標記化合物の真正標本のそnK相当する保持時間を肩
し良。薄層クロマトグラフィー検査(シリカゲル、アセ
トニトリル/水/酢酸(60:20:α4容量比)1用
いて展開)Fi酸成分混合物を示し、その1fffi類
は標記化合物の真正標本のそnと同じR1値(約0.2
)t!t、そして沃化白金酸カリウム溶液に露出した後
に同じ番紫青色をみせた。
例 6
(6R,7R) −7−アミノ−3−(1−ピリジニウ
ムメチル)セフ−6−エム−4−カルボン酸ジ(6R,
7R) −7−CD −5−ペンズアiドー5−カルポ
キシペンタンアiド)−3−(1−ピリジニウムメチル
)セフ−5−エム−4−カルボキシレート(5,38F
)およびメチレンクロライド(50m)中にN、N−ジ
メチルアニリ7(7,6m)を攪拌しながら加えた。5
分波トリメチルクロルシラン(7,6m )を加えそし
てこの混合物を30〜52℃で45分間攪拌した@生ず
る浴液t−35℃に冷却しそして五塩化燐(6,24F
)を1度に加えた。反応混合物を−28〜−62℃で1
時間攪拌し友。
ムメチル)セフ−6−エム−4−カルボン酸ジ(6R,
7R) −7−CD −5−ペンズアiドー5−カルポ
キシペンタンアiド)−3−(1−ピリジニウムメチル
)セフ−5−エム−4−カルボキシレート(5,38F
)およびメチレンクロライド(50m)中にN、N−ジ
メチルアニリ7(7,6m)を攪拌しながら加えた。5
分波トリメチルクロルシラン(7,6m )を加えそし
てこの混合物を30〜52℃で45分間攪拌した@生ず
る浴液t−35℃に冷却しそして五塩化燐(6,24F
)を1度に加えた。反応混合物を−28〜−62℃で1
時間攪拌し友。
イミノクロライド浴液t−−35℃に冷却しそしてブタ
ン−1,3−ジオール(8i)およびメチレンクロライ
ド(2C1d)の予冷(−20℃)さ−1′L几攪拌溶
液に1分生にわたって加えた。イミノクルライドを含有
するフラスコをメチレンクロライド(5+d)ですすぎ
そして反応混合物に加えた。温度が一5℃に上昇しそし
て懸濁液が生成しこnを0℃で30分間攪拌した。
ン−1,3−ジオール(8i)およびメチレンクロライ
ド(2C1d)の予冷(−20℃)さ−1′L几攪拌溶
液に1分生にわたって加えた。イミノクルライドを含有
するフラスコをメチレンクロライド(5+d)ですすぎ
そして反応混合物に加えた。温度が一5℃に上昇しそし
て懸濁液が生成しこnを0℃で30分間攪拌した。
水(7−)を加えそして攪拌後下方の有機層を分離しセ
して水相を集めた。有機層を再び水(6d)で抽出した
。水性抽出液を曾しそして水浴中30分間冷却すると、
厚い結晶性塊が形成さnた。こnf攪拌しそしてインプ
ロパツール(50d)lz用いて60分間にわたって希
釈した。得らfたスラリーを1時間冷蔵した。
して水相を集めた。有機層を再び水(6d)で抽出した
。水性抽出液を曾しそして水浴中30分間冷却すると、
厚い結晶性塊が形成さnた。こnf攪拌しそしてインプ
ロパツール(50d)lz用いて60分間にわたって希
釈した。得らfたスラリーを1時間冷蔵した。
生成物を濾過して集めfc、床を吸引乾燥させそしてイ
ンプロパツール(2X20 d ) t−用いて0℃で
洗った。
ンプロパツール(2X20 d ) t−用いて0℃で
洗った。
生成物を真空下に室温で18時間乾燥させそし七人に室
温で数時間平衡化させて結晶状の標記化合物(3,6F
)’e得7!j。@120 57@(約1%、a 2
M (D pH6114酸塩elk衝K )、UV]I
i’%3161 (λmax 259−nmlcおいて)、212(λi
nf 271.5 nmにおいて〉、水分宮量(カール
フィッシャー法)97%m1m % ’h、p、lc、
純度992%、塩素含量17.4%。
温で数時間平衡化させて結晶状の標記化合物(3,6F
)’e得7!j。@120 57@(約1%、a 2
M (D pH6114酸塩elk衝K )、UV]I
i’%3161 (λmax 259−nmlcおいて)、212(λi
nf 271.5 nmにおいて〉、水分宮量(カール
フィッシャー法)97%m1m % ’h、p、lc、
純度992%、塩素含量17.4%。
特許出願人 グラクツ・グループ・リミテッド化 理
人 弁理士 山 下 1.P、ジ
人 弁理士 山 下 1.P、ジ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)式 の化合物およびその塩。 2)実質的に純粋な形態の式<4rの化合物およびその
塩。 3) ooKaおよび(uKa照射を使用してX@粉
末回折に付した場合に欠配の性質すなわち1a09
m a03 vwa55 W(
14,80m 7.87 w 4.65 g6.
35 m 4.49 w5.3
6 vw 4.26 ma;I4
vw 4.17 md(11強度 a+
XJ 強度 4.07 ve 272 w3
99 ve 2.63 w18
2 Vw 2.49 vw−−
170vw 2.42 vwd!L5
2 vv 2.30 2vw12
4 w 2.15 2vw五〇
9 wa 2.11 2vw2.
98 m 2.07 2vw2.
87 vwd 2.0!1 2vw
(ただし表中8は「強」%mは「中等度」。 Wはr弱」、vは「非常に」、セしてdは「拡散」をそ
nぞn意味する)t−示す結晶性化合物(6,R,7R
) −7−(D −5−ベンズアばビー5−カルボキシ
ベンタンアiド)−3−(1−ピリジニウムメチル)セ
フ−3−エム−4−カルボキシレート。 4)前記特許請求の範囲第1項記載の犬山の化−金物ま
たはその塩を製造するにあたり、A)式 (式中2はヌクレオフィルの置換可能な残基を表わす)
の化合物またはその塩、またはその保護誘導体をピリジ
ンと反応させ、次いで必要な場合には保―基を除去する
こと、またけ B)式 の化合物またはその塩t−N−ベンゾイル化すること を包含する方法。 5)一般式 の化合物またはその塩を製造するにあ友り、前記特許請
求の範囲第1項記載の化合物の7−側鎖を除去すること
を包含する方法。 6)前記特許請求の範囲第1項記載の化合物が次の方法
のいずれか、すなわち a)セファロスポリンCまたはその塩をN−ベンゾイル
化させて前記特許請求の範囲第4項記載の式(■)(式
中2はアセトキシである)の化合物ま友flその塩を生
成させ、そしてそnをピリジンと反応させて前記特許請
求の範囲第1項記載の化合物を生成させること1b)セ
ファロスポリンCま交はその塩をN−ベンゾイル化させ
、・そのようにして生成さnた生成物またはその保護誘
導体をトリアルキルヨードシランと反応させて前記特許
請求の範囲第4項記載の式(損(式中2は沃素原子であ
る)の化合物またはその塩、または保護誘導体な生成さ
せ、次いでそnfピリジンと反応させそして必要な場合
には保睦基を除去して前記竹P請求の範囲第1項記載の
化合物を生成させること、 C)デスアセチルセファロスポリンCまたはその塩をN
−ベンゾイル化させて式 (式中R1はベンゾイルである)の化合物ま友はその塩
を生成させ、そしてこの化合物またはその保護誘導体を
アシル化剤と反応させて前記特許請求の範囲第4項記載
の弐■の化合物(式中z扛アシルオキシ基である)また
はその塩、i之は保毅誘導体を生成させ、次−でピリジ
ンを反応させ、そして必要に応じて保膿基を除去して前
記特許請求の範囲第1項記載の化合物を生成させること
。 d)セファロスポリンCt友はその塩をピリジンと反応
させて前記特許請求の範囲第4項記載の式(至)の化合
物またはその塩を生成させ、次いでそrLtベンゾイル
化させて前記特許請求の範囲第1項記載の化合物を生成
させること、 e)セファロスポリ/Cまたはその塩、または保−誘導
棒金トリアルキルヨードシラ/と反応させて式a) (式中2は沃素原子である)の化合物またはその塩、ま
九は保護誘導体を生成させ、次いでビリジ7と反応させ
、そして必要な場合には保護基を除去して前記特許請求
の範囲第4項記載の式(2)の化合vfitたれその塩
を生成させs こnfN−ベノゾイル化させて前記特許
請求の範囲第1項記載の化合物を生成させること、 f)デスアセチルセファロスポリンCまたはその塩、ま
次は保−誘導体をアシル化剤と反応させ、次いで必要な
場合には保顧基を除去して式([Vl C式中2はアシ
ルオキシ基である)の化合物またはその塩を生成させ、
その化合物を下記のいず牡かすなわち 1)ピリジンと反応させて前記特許請求の範囲第4項記
載の式(II)の化合物またはその塩を生成させ、次い
でN−ベンゾイル化させて前記特許請求の範囲第1項記
載の化合物を生成させること、または i+)N−ベンゾイル化させて前記特許請求の範囲第4
項記載の式(II)の化合物またはその塩を生成させ、
次いでピリジンと反応させて前記%詐請求の範囲第1項
記載の化合物を生成させること にかけること によって製造さnる、前記特許請求の範囲第5項記載の
方法。 7)#記特許請求の範囲第4項記載の方法によって製造
さn、;e場合の式(IIの化合物およびその鳴。 8)前記特許請求の範囲第5または6項記載の方法によ
って製造さnた場合の前記式(資)の化合物およびその
塩。 9)式tl)の化合物またはその塩を経て進行させる方
法により製造さ−n71c−場合の6−ビリジニウムメ
チルセフアロスボリン・
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