JPS58222452A - デイスク製造方法 - Google Patents
デイスク製造方法Info
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- JPS58222452A JPS58222452A JP57104152A JP10415282A JPS58222452A JP S58222452 A JPS58222452 A JP S58222452A JP 57104152 A JP57104152 A JP 57104152A JP 10415282 A JP10415282 A JP 10415282A JP S58222452 A JPS58222452 A JP S58222452A
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- JP
- Japan
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- sensitizer
- nitrocellulose
- organic solvent
- dye sensitizer
- reflective film
- Prior art date
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- Granted
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/245—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing a polymeric component
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
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- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はビデオディスク、ＰＣＭオーディオディスク等
に好適彦ディスクの製造方法に関する。
に好適彦ディスクの製造方法に関する。
従来ディスクを製造するため忙フォトレジストが使用さ
れていた。すなわち表面を研摩したガラス等よシなる原
盤を用意し、この原盤を洗浄し、て冷却する（約１時間
の工程）、この原盤にフォトレジストを薄くコートしプ
リベークした後冷却する（約１時間の工程）、このフォ
トレジストをコートした原盤に記録すべき信号によシ変
調されたレーザビーム等を照射し信号を記録する（約１
時間乃至２時間の工程）、電光したこの原盤を現像し、
水洗いし、水切りをしてさらにアフターベークした後冷
却する（約１時間の工程）、これによシ表面忙記録信号
に対応したビットが形成された原盤・が得られる。そし
てさらにピットが形成された記録表面上に金属の反射膜
をコートする（約４５分の工程）。
れていた。すなわち表面を研摩したガラス等よシなる原
盤を用意し、この原盤を洗浄し、て冷却する（約１時間
の工程）、この原盤にフォトレジストを薄くコートしプ
リベークした後冷却する（約１時間の工程）、このフォ
トレジストをコートした原盤に記録すべき信号によシ変
調されたレーザビーム等を照射し信号を記録する（約１
時間乃至２時間の工程）、電光したこの原盤を現像し、
水洗いし、水切りをしてさらにアフターベークした後冷
却する（約１時間の工程）、これによシ表面忙記録信号
に対応したビットが形成された原盤・が得られる。そし
てさらにピットが形成された記録表面上に金属の反射膜
をコートする（約４５分の工程）。
反射膜がコートされた原盤を検査用再生機にて再生し、
ドロップアウト等の検査をする（約１時間乃至２時間の
工程）。この検査に合格した原盤のみが大量にレプリカ
を製作するためのスタンパを製造する工程へ回されるこ
とになる。。
ドロップアウト等の検査をする（約１時間乃至２時間の
工程）。この検査に合格した原盤のみが大量にレプリカ
を製作するためのスタンパを製造する工程へ回されるこ
とになる。。
しかしながら斯かる従来の方法は、信号の記録を開始し
てから検査を終了する迄約４時間乃至５時間を要し、そ
の時間が経過しなければ良品、不良品の区別ができなか
った。従って約４時間乃至５時間経過して不良品である
ことが判明した場合は、再び最初から同じ時間をかけて
原盤を製造する必要があシ、極めて非能率的であった。
てから検査を終了する迄約４時間乃至５時間を要し、そ
の時間が経過しなければ良品、不良品の区別ができなか
った。従って約４時間乃至５時間経過して不良品である
ことが判明した場合は、再び最初から同じ時間をかけて
原盤を製造する必要があシ、極めて非能率的であった。
このことはフォトレジストを記録膜として使用している
ために、信号記録後直ちにあるいは信号記録時において
記：録信号を同時に再１： 生ずる所請モニターができないことに起因している。ま
た信号の記録自体は正確に行がえたとしても、後の現像
工程１で現像時間等を誤、まると、結局は不良品と□な
ってしまうばかシでなく、フォトレジストが自然光によ
っても感光してしまうおそれがあるために明室でのハン
ドリングが困難となシ、歩留シが極めて悪いものになる
欠点があった。従って自然製造コストも高かった。
ために、信号記録後直ちにあるいは信号記録時において
記：録信号を同時に再１： 生ずる所請モニターができないことに起因している。ま
た信号の記録自体は正確に行がえたとしても、後の現像
工程１で現像時間等を誤、まると、結局は不良品と□な
ってしまうばかシでなく、フォトレジストが自然光によ
っても感光してしまうおそれがあるために明室でのハン
ドリングが困難となシ、歩留シが極めて悪いものになる
欠点があった。従って自然製造コストも高かった。
斯かる欠点を考慮してモニターが可能な素材を記録膜と
して使用する方法が例えば米国特許第４０９７８９５号
に提案されている。これはガラス原盤の上にアルミニウ
ムの反射膜を形成し、その上に所定の波長に対して著し
い吸収性を有する染料（フルオレセン）よシなる記録膜
を形成するものである。これにアルゴンレーザを照射す
ると、この染料はアルゴンレーザの波長に対して著しい
吸収性を有するために昇華しピットが形成される。ピッ
トが形成された記録膜に、記録時よシ充分小さく、染料
を昇華させないパワーのアルゴンレーザを照射すると、
ピ１：１．。
して使用する方法が例えば米国特許第４０９７８９５号
に提案されている。これはガラス原盤の上にアルミニウ
ムの反射膜を形成し、その上に所定の波長に対して著し
い吸収性を有する染料（フルオレセン）よシなる記録膜
を形成するものである。これにアルゴンレーザを照射す
ると、この染料はアルゴンレーザの波長に対して著しい
吸収性を有するために昇華しピットが形成される。ピッ
トが形成された記録膜に、記録時よシ充分小さく、染料
を昇華させないパワーのアルゴンレーザを照射すると、
ピ１：１．。
ットが形成され反射膜が露出している部分にお
□いてはレーザビームは反射され、ピットが形成され
ておらず染料が残っている１部分においてはレーザビー
ムは吸収され反射されない（あるいは反射率は充分小さ
い）ので、その光量差よりピットの有無従って信号を再
生することが可能となる。
□いてはレーザビームは反射され、ピットが形成され
ておらず染料が残っている１部分においてはレーザビー
ムは吸収され反射されない（あるいは反射率は充分小さ
い）ので、その光量差よりピットの有無従って信号を再
生することが可能となる。
−この方法による場合は、モニターもでき、湿式の現像
工程も不要であり、所定の波長に対してのみ吸収性を有
するから、明室においてもノごンドリングが可能となる
。しかしながらこの方法は、染料の昇華速度が遅く、ピ
ットの形状がきれいに整わず、充分なＳＮを有する情報
記録板を得ることができない欠点があった。
工程も不要であり、所定の波長に対してのみ吸収性を有
するから、明室においてもノごンドリングが可能となる
。しかしながらこの方法は、染料の昇華速度が遅く、ピ
ットの形状がきれいに整わず、充分なＳＮを有する情報
記録板を得ることができない欠点があった。
これを改良した方法が例えば特開昭５５−８７５９５号
公報や、１９７９年１１月２２日発行の電子通信学会技
術研究報告・（ＣＰＭ７９−５９）「色素蒸発記録材料
を用いた実時間レーザ記録」に開示されている。すなわ
ちポリエステル、ポリエチレン等の透明なフィルムある
いはアクリル等の基盤上に、エチルレッド、メチレンブ
ルー、ブリリアントグリーン等の色素増感剤（染料）と
、ニトロセルロース（重合度約８０）とをケトン系の溶
剤に溶かしたものをコートし、当該色素増感剤が著しい
吸収性を有する波長のレーザビームを照射して信号を記
録するものである。
公報や、１９７９年１１月２２日発行の電子通信学会技
術研究報告・（ＣＰＭ７９−５９）「色素蒸発記録材料
を用いた実時間レーザ記録」に開示されている。すなわ
ちポリエステル、ポリエチレン等の透明なフィルムある
いはアクリル等の基盤上に、エチルレッド、メチレンブ
ルー、ブリリアントグリーン等の色素増感剤（染料）と
、ニトロセルロース（重合度約８０）とをケトン系の溶
剤に溶かしたものをコートし、当該色素増感剤が著しい
吸収性を有する波長のレーザビームを照射して信号を記
録するものである。
この方法は単に染料（色素増感剤）のみでなく、ニトロ
セルロースを混合しであるため、その自己酸化効果によ
シ昇華速度が速く、低温（低いパワー）での記録が可能
であり、ピットの形状が前述した染料のみの場合に較べ
てきオＬいに整うという利点を有する。しかＬ７ながら
この方法は、前述したフォトレジストを使用する場合に
較べれはピットの形状は未だ充分整えられていないはか
りでなく、反応残渣が出て記録１ｌｉｉ上にゴミ状の異
物として残り、充分かＳＮを有する情報記録板を製造す
るととはできなかった。
セルロースを混合しであるため、その自己酸化効果によ
シ昇華速度が速く、低温（低いパワー）での記録が可能
であり、ピットの形状が前述した染料のみの場合に較べ
てきオＬいに整うという利点を有する。しかＬ７ながら
この方法は、前述したフォトレジストを使用する場合に
較べれはピットの形状は未だ充分整えられていないはか
りでなく、反応残渣が出て記録１ｌｉｉ上にゴミ状の異
物として残り、充分かＳＮを有する情報記録板を製造す
るととはできなかった。
従ってこの方法は実験段階の域を出ず、商品としての情
報記録板を大量に製造するためには前述したフォトレジ
ストを使用する方法を採用せざるを得なかった。
報記録板を大量に製造するためには前述したフォトレジ
ストを使用する方法を採用せざるを得なかった。
一方このニトロセルロースと色素増感剤との混合物を利
用して、例えは特開昭５６−６５３４０．特開昭５６−
１２７９３７等に開示されている如く、信号を四部（ピ
ット）としてではなく隆起部の形で記録することが考え
られる。
用して、例えは特開昭５６−６５３４０．特開昭５６−
１２７９３７等に開示されている如く、信号を四部（ピ
ット）としてではなく隆起部の形で記録することが考え
られる。
このようにする場合は、反応残渣は例え出たとしても隆
起部内の空間部に封入されるので問題は少い。
起部内の空間部に封入されるので問題は少い。
しかしながら斯かる方法にてディスクを製造する場合に
おいては、特にニトロセルロースと色素増感剤との混合
物よりなる層の平面度を良好に形成する必要がある。け
だし混合物の層に隆起部があるとＳＮが悪くなるからで
ある。
おいては、特にニトロセルロースと色素増感剤との混合
物よりなる層の平面度を良好に形成する必要がある。け
だし混合物の層に隆起部があるとＳＮが悪くなるからで
ある。
本発明は斯かる状況に鑑みなされたもので、モニタが可
能であるばかシでなく、ＳＮが良く、また安価なディス
ク製造方法を提供することを目的とする。
能であるばかシでなく、ＳＮが良く、また安価なディス
ク製造方法を提供することを目的とする。
以下型光−ｙ」の一実施例を図゛を鰺照して詳述すに１
．１゜ る０本発明においては第１図は示す如く先ず基盤１を用
意する。基盤１はその表面を研摩した例えば略円形のガ
ラスにて構成することができる。勿論その情報記録板を
原盤として、それから大量のレプリカを製造するのでは
なく、１枚の情報記録板を得るだけの場合は、基盤１を
ポリエステル、アクリル等の合成樹脂とすることができ
る。基盤１は洗浄した後冷却し、さらにその表面上に例
えば銀、アルミニウム等よりなる反射膜２を蒸着、スパ
ッタリング等により所定の厚さく例えば２００人乃至５
００人）に形成する。この厚さは薄すきると充分な反射
光％。
．１゜ る０本発明においては第１図は示す如く先ず基盤１を用
意する。基盤１はその表面を研摩した例えば略円形のガ
ラスにて構成することができる。勿論その情報記録板を
原盤として、それから大量のレプリカを製造するのでは
なく、１枚の情報記録板を得るだけの場合は、基盤１を
ポリエステル、アクリル等の合成樹脂とすることができ
る。基盤１は洗浄した後冷却し、さらにその表面上に例
えば銀、アルミニウム等よりなる反射膜２を蒸着、スパ
ッタリング等により所定の厚さく例えば２００人乃至５
００人）に形成する。この厚さは薄すきると充分な反射
光％。
を得ることができず、また厚すぎると機能的には問題が
生じないが、材料を無駄に消費することになる。銀を約
２００人の厚さにして反射膜２を形成した場合、読出し
用のヘリウムネオンレーザに苅する反射率は８０乃至８
５％であった０反射膜２上にはさらに色素増感剤とニト
ロセルロースとを含９中間層３を形成する。ニートロセ
ルロースの数平均重合度は３０乃至８０が適当である０
重合度が小さ過ぎると膜を形成すること自体が困難とな
シ、また大き過ぎると粘度が高くなシ中間層３をむらな
く所定の厚さにコートすることが困難となる。ニトロセ
ルロースの硝化度は１０チ以上であればよい。
生じないが、材料を無駄に消費することになる。銀を約
２００人の厚さにして反射膜２を形成した場合、読出し
用のヘリウムネオンレーザに苅する反射率は８０乃至８
５％であった０反射膜２上にはさらに色素増感剤とニト
ロセルロースとを含９中間層３を形成する。ニートロセ
ルロースの数平均重合度は３０乃至８０が適当である０
重合度が小さ過ぎると膜を形成すること自体が困難とな
シ、また大き過ぎると粘度が高くなシ中間層３をむらな
く所定の厚さにコートすることが困難となる。ニトロセ
ルロースの硝化度は１０チ以上であればよい。
このようなニトロセルロースを５〜３０ｍｇ／ ｃ ｃ
の割合で有機溶剤（例えはキシレン又はキシレンとエチ
ルセロソルプアセテートトの混合液）に溶解させる。
の割合で有機溶剤（例えはキシレン又はキシレンとエチ
ルセロソルプアセテートトの混合液）に溶解させる。
また色素増感剤としては例えばＮ−エチル−Ｎオキシエ
チルアニリンを用い、こね、を前す己した場合と同様に
２〜２０ ｍ ｇ ／ ｃ ｃの割合で有機溶剤に溶解
させる。
チルアニリンを用い、こね、を前す己した場合と同様に
２〜２０ ｍ ｇ ／ ｃ ｃの割合で有機溶剤に溶解
させる。
シカル後、ニトロセルロースを溶解した有機溶剤と、色
素増感剤を溶解した有機溶剤とを、ｘ）ロセルロースと
色素増感剤とが所定の重量分率となるように混合し、さ
らにニトロセルロースと色素増感剤との混合物１ｇに対
して例えば４６ＣＣの割合となるように有機溶剤を加え
、４０Ｃｏに加熱して約４時間振盪する。この液を中間
層３の材料とする。
素増感剤を溶解した有機溶剤とを、ｘ）ロセルロースと
色素増感剤とが所定の重量分率となるように混合し、さ
らにニトロセルロースと色素増感剤との混合物１ｇに対
して例えば４６ＣＣの割合となるように有機溶剤を加え
、４０Ｃｏに加熱して約４時間振盪する。この液を中間
層３の材料とする。
この利料を作るに際し、ニトロセルロースト色素増感創
との重１分率を変化させた場合、光の透過率は鎖２図に
示す如くに変化する０図においてζＡｔｊその重量分率
を９５．０対５．０にした場合であり、Ｂは９０．０対
１０．０、Ｃけ８６゜５対１３．５、Ｄは８０対２０の
場合である。いずれの場合も波長が４４０ ｎｍから５
３０ ｎｍの＠３凹において著しい光吸収性を有するが
、色素増感剤の含有量を増加させる程その程度力！著し
くなる０例えけＣに示す如く重量分率を８６゜５対１３
．５にすると、その動粘度け２５０Ｃにおいて３．６ｃ
ａｔとなり、波長が４５７．９ｎｍであるアルゴンレー
ザに対して約３５％の透過率（従って約６５チの吸収率
）となる。
との重１分率を変化させた場合、光の透過率は鎖２図に
示す如くに変化する０図においてζＡｔｊその重量分率
を９５．０対５．０にした場合であり、Ｂは９０．０対
１０．０、Ｃけ８６゜５対１３．５、Ｄは８０対２０の
場合である。いずれの場合も波長が４４０ ｎｍから５
３０ ｎｍの＠３凹において著しい光吸収性を有するが
、色素増感剤の含有量を増加させる程その程度力！著し
くなる０例えけＣに示す如く重量分率を８６゜５対１３
．５にすると、その動粘度け２５０Ｃにおいて３．６ｃ
ａｔとなり、波長が４５７．９ｎｍであるアルゴンレー
ザに対して約３５％の透過率（従って約６５チの吸収率
）となる。
この材料を反射膜２上にスピンコードして中間Ｎ４３を
１５００〜ａｏｏｏｉの厚さに形成する０例えは１０ｃ
ｃの材料を反射膜２上に滴下させ、２５０ｒｐｍで１１
秒間回転させ、さらに６ＱＱｒｐｍで６１秒間回転させ
ると、その厚さが約２５０ＯＡの中間層３を形成するこ
とができる。スピンコードを行う場合において、最初は
低速で、次にそれよシ高速で反射膜２が形成された基盤
１を回転させると、中間ｒｒ４３を均ムにむらなく形成
することができる。
１５００〜ａｏｏｏｉの厚さに形成する０例えは１０ｃ
ｃの材料を反射膜２上に滴下させ、２５０ｒｐｍで１１
秒間回転させ、さらに６ＱＱｒｐｍで６１秒間回転させ
ると、その厚さが約２５０ＯＡの中間層３を形成するこ
とができる。スピンコードを行う場合において、最初は
低速で、次にそれよシ高速で反射膜２が形成された基盤
１を回転させると、中間ｒｒ４３を均ムにむらなく形成
することができる。
中間層３を形成した後約８０℃で１５分乃至２０分ベー
キングし、有機溶剤を蒸発させた後冷却させる。有機溶
剤が残っていると信号記録時において、それを蒸発させ
る分だけ余分なパワーを必要とすることになシ、記録時
のパワーが不足している場合は隆起部の成形が充分に行
なえない、また色素増感剤によっては有機溶剤を蒸発、
乾燥させるとその時点において均一でなくなり、むらが
出てくるものがあるが、Ｎ −エチル−Ｎオキシエチル
アニリンにおいてはそのようなことはない。ただし色素
増感剤を有機溶剤に溶解させる割合を、常温における飽
和量の１／２以下、好ましくは１／３以下にすることが
望ましい、さもないと有、、Ｐ溶剤を蒸発させた段階で
、色素増感剤の結晶粒が現われ、表面が凸凹になる場合
がある。このような観点から色素増感剤の割合を上述し
た如く２〜２０ｍｇ／ｃｃとしたのであるが、ニトロセ
ルロースの割合を上述の如く５〜３０ ｍ ｇ ／ ｃ
ｃとするとニトロセルロースと色素増感剤との重量分
率は、へ９３．７５：６．２５〜２０ ； ８０となる
が、卯、２図に示す如く所定の透過率（ｅｌ、収率）を
も確保しなりれ１ならないところから、両者の重量分率
は８５：１５〜７５ ： ２５とするのがより好ましい
。
キングし、有機溶剤を蒸発させた後冷却させる。有機溶
剤が残っていると信号記録時において、それを蒸発させ
る分だけ余分なパワーを必要とすることになシ、記録時
のパワーが不足している場合は隆起部の成形が充分に行
なえない、また色素増感剤によっては有機溶剤を蒸発、
乾燥させるとその時点において均一でなくなり、むらが
出てくるものがあるが、Ｎ −エチル−Ｎオキシエチル
アニリンにおいてはそのようなことはない。ただし色素
増感剤を有機溶剤に溶解させる割合を、常温における飽
和量の１／２以下、好ましくは１／３以下にすることが
望ましい、さもないと有、、Ｐ溶剤を蒸発させた段階で
、色素増感剤の結晶粒が現われ、表面が凸凹になる場合
がある。このような観点から色素増感剤の割合を上述し
た如く２〜２０ｍｇ／ｃｃとしたのであるが、ニトロセ
ルロースの割合を上述の如く５〜３０ ｍ ｇ ／ ｃ
ｃとするとニトロセルロースと色素増感剤との重量分
率は、へ９３．７５：６．２５〜２０ ； ８０となる
が、卯、２図に示す如く所定の透過率（ｅｌ、収率）を
も確保しなりれ１ならないところから、両者の重量分率
は８５：１５〜７５ ： ２５とするのがより好ましい
。
このよつにして中間層すを形成した後、さらにその上に
金、銀、錐、アルミニウム等の伸延性をもつ金属よシな
る反射膜４を、蒸着、スノくツタリング等によシ５０〜
２００λのｊ９さに形成する。その厚さは金属の伸延性
の程度及びビームの入射方向によシ決定される。
金、銀、錐、アルミニウム等の伸延性をもつ金属よシな
る反射膜４を、蒸着、スノくツタリング等によシ５０〜
２００λのｊ９さに形成する。その厚さは金属の伸延性
の程度及びビームの入射方向によシ決定される。
そして反射膜４の上には反射膜４と所定の距離離間して
保護膜５を必要に応じて設ける。保謡膜５はその端部が
基盤１と着脱自在に係合す。
保護膜５を必要に応じて設ける。保謡膜５はその端部が
基盤１と着脱自在に係合す。
′１：１・
るように透明な合成″′・樹脂、ガラス等によ多形成す
ることができる。保護膜５は反射膜４が軟らかいため、
手を触れる等して撰集されるのを防止すると共に、反射
膜４上にゴミ等が付着するのを防止する。基盤１側から
レーザビームを照射して記録又は再生を行う場合は（こ
の場合は反射膜２の厚さを５０〜２００Ｘ程度に薄く形
成する）反射層４上のゴミは光路外と力るため然程問題
にならないが反射膜４側から照射する場合は光路内とな
るためＳＮ劣化の原因となる。
ることができる。保護膜５は反射膜４が軟らかいため、
手を触れる等して撰集されるのを防止すると共に、反射
膜４上にゴミ等が付着するのを防止する。基盤１側から
レーザビームを照射して記録又は再生を行う場合は（こ
の場合は反射膜２の厚さを５０〜２００Ｘ程度に薄く形
成する）反射層４上のゴミは光路外と力るため然程問題
にならないが反射膜４側から照射する場合は光路内とな
るためＳＮ劣化の原因となる。
従って後者の場合においては、反射膜４上におけるビー
ムスポットの径よシ保護膜５上におけるビームスポット
の径が充分大となるように保霞膜５の反射＃４からの距
離を定める事によシ、保護膜５上の光路内のゴミ等を所
謂アウトフォーカス状態とさせ充分なＳＮを得る事がで
きる。
ムスポットの径よシ保護膜５上におけるビームスポット
の径が充分大となるように保霞膜５の反射＃４からの距
離を定める事によシ、保護膜５上の光路内のゴミ等を所
謂アウトフォーカス状態とさせ充分なＳＮを得る事がで
きる。
このようにして少くとも反射膜４を形成した後、信号を
記録する所謂マスクリングの工程に移る。反射膜４を形
成した原盤を例えば線速度１、２５ ｍ ／ ｓで回転
させ、波長が４５７．９ｎｍのアルゴンレ・−ザを、例
えにオーディオ信号をＥＦＭ（Ｅｉｇｈｔ−Ｔｏ−Ｆｏ
ｕｒｔｅｅｎ Ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ） した信号で
変調して基盤１側又は反射層４側（保静膜５を′介して
もよい）から照射する。するとレーザビームが照射され
た部分は色素増感剤がアルゴンレーザの波長に対して著
１７い吸収性を有するため、その熱によシ昇華すること
になる。
記録する所謂マスクリングの工程に移る。反射膜４を形
成した原盤を例えば線速度１、２５ ｍ ／ ｓで回転
させ、波長が４５７．９ｎｍのアルゴンレ・−ザを、例
えにオーディオ信号をＥＦＭ（Ｅｉｇｈｔ−Ｔｏ−Ｆｏ
ｕｒｔｅｅｎ Ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ） した信号で
変調して基盤１側又は反射層４側（保静膜５を′介して
もよい）から照射する。するとレーザビームが照射され
た部分は色素増感剤がアルゴンレーザの波長に対して著
１７い吸収性を有するため、その熱によシ昇華すること
になる。
この時反射膜２は反射膜４側から入射されたビームを中
間層３側に反射させ、エネルギーをよシ有効に利用させ
る。またニトロセルワースが混合されているため、その
自己酸化効果により二）ｓセルロースも昇華する一方、
色素増感剤の昇華も助長され、枦、３図に示す如くピッ
ト６が形成される。そして昇華の圧力によりピット６に
対応して隆起部７が反射膜４に形成される。
間層３側に反射させ、エネルギーをよシ有効に利用させ
る。またニトロセルワースが混合されているため、その
自己酸化効果により二）ｓセルロースも昇華する一方、
色素増感剤の昇華も助長され、枦、３図に示す如くピッ
ト６が形成される。そして昇華の圧力によりピット６に
対応して隆起部７が反射膜４に形成される。
アルゴンレーザが照射されない部分はそのま１残ること
になる。色素増感剤が著しい吸収性を呈する波長帯の光
が所定闇値以上のレベルで照射されない限りこの昇華現
象は生じないから、マスクリング工程のみならず原盤の
保存、取扱いは明室で可能である。また反応残渣が出た
としてもそわはピット６内に封入され、ＳＮＩ／ま劣化
しない。
になる。色素増感剤が著しい吸収性を呈する波長帯の光
が所定闇値以上のレベルで照射されない限りこの昇華現
象は生じないから、マスクリング工程のみならず原盤の
保存、取扱いは明室で可能である。また反応残渣が出た
としてもそわはピット６内に封入され、ＳＮＩ／ま劣化
しない。
このようにして信号が記録された原盤に、中間層３を昇
華させない波長又はエネルギーレベルのレーザビームを
照射すると、隆起部７ψ；ある場所では散乱して受光光
量が減シ、隆起部７がない場所では散乱しないので受光
光量が減らないところから、そのレベル差より信号を再
生することが可能である。
華させない波長又はエネルギーレベルのレーザビームを
照射すると、隆起部７ψ；ある場所では散乱して受光光
量が減シ、隆起部７がない場所では散乱しないので受光
光量が減らないところから、そのレベル差より信号を再
生することが可能である。
またさらに反射膜４上に剥離剤を被覆した後、電鋳等に
よシェラケル等の金属を被覆し、原盤よりニッケル等の
金属を剥離してそれをスタンバとすることができる。（
勿論この金属盤をマスター盤とし、マザー盤を得て、さ
らにサブマスター盤を作ってこれをスタンバとしてもよ
い、）スタンバをもとにして量産するレプリカは、その
材料を適宜選定することによシ、光学式、靜電容創式、
圧電式等のピックアップにて読出し可能な情報記録板と
することができる。
よシェラケル等の金属を被覆し、原盤よりニッケル等の
金属を剥離してそれをスタンバとすることができる。（
勿論この金属盤をマスター盤とし、マザー盤を得て、さ
らにサブマスター盤を作ってこれをスタンバとしてもよ
い、）スタンバをもとにして量産するレプリカは、その
材料を適宜選定することによシ、光学式、靜電容創式、
圧電式等のピックアップにて読出し可能な情報記録板と
することができる。
尚、以上の実施例においては、情報記録層を中間層３と
反射膜４とによシ構成したが、中間層３を、充分精製し
、ｌＪ５遇する等して反応残渣の少い相料によ多形成し
た場合においては、中間層３のみにて情報記録層を構成
することができる。
反射膜４とによシ構成したが、中間層３を、充分精製し
、ｌＪ５遇する等して反応残渣の少い相料によ多形成し
た場合においては、中間層３のみにて情報記録層を構成
することができる。
また記録する信号はオーディオ信号にＷ５らずビデオ信
号であってもよい。
号であってもよい。
以上の如く本発明によれば、少くともニトロセルロース
と色素増感剤との混合材料を情報記録層とするディスク
製造方法において、色素増感剤を有機溶剤に溶解させる
割合を、常温における餘和量の１／２以下としたので、
ＳＮの良好なディスクを得ることができる０寸だ情報記
録層として混合材料の上にさらに反＃ＩＰを形成した場
合においては、反応残渣が封入されるので混合材料を精
製する程度が低くてもよく、コストを低減させることが
できる。
と色素増感剤との混合材料を情報記録層とするディスク
製造方法において、色素増感剤を有機溶剤に溶解させる
割合を、常温における餘和量の１／２以下としたので、
ＳＮの良好なディスクを得ることができる０寸だ情報記
録層として混合材料の上にさらに反＃ＩＰを形成した場
合においては、反応残渣が封入されるので混合材料を精
製する程度が低くてもよく、コストを低減させることが
できる。
図はいずれも本発明に係シ、第１図及び第３図はディス
クの断面図、第２図は特性図を各々衣わす。 １・・・・・・基盤 ２２．・・４・・・・・・・反射
膜 ３・・・・・・中間層 ５・・・・・・保欽月９６
・・・・・・ピット ７・・・・・・隆起部 特許出願人 パイオニア株式会社 第１図
クの断面図、第２図は特性図を各々衣わす。 １・・・・・・基盤 ２２．・・４・・・・・・・反射
膜 ３・・・・・・中間層 ５・・・・・・保欽月９６
・・・・・・ピット ７・・・・・・隆起部 特許出願人 パイオニア株式会社 第１図
Claims (2)
- （１）所定の数平均重合度を有するニトロセルロースと
色素増感剤とを所定の重量分率となるように、かつ該色
素増感剤が常温における飽和量の１／２以下となるよう
に有機溶剤に溶解させ、該、ニトロセルロースと色素増
感剤とを溶解した有機溶剤を、基盤上に形成した第１の
反射膜上にコートして情報記録層を形成し、所定温度で
ベーキングして該有機溶剤を蒸発させ、オーディオ又は
ビデオ信号のうち少くとも一方を含む信号によシ、該色
素増感剤が著しい暖収性を呈する波長のレーザビームを
変調し、変調された該レーザビームにより該情報記録層
のニトロセルロースと色素増感剤とを昇華させ、信号を
記録するととを特徴とするディスク製造方法。 - （２）該情報記録層として、該有機溶剤を蒸発させた後
年２の反射膜を形成し、該昇華時の圧力によシ該第２の
反射膜に隆起部を形成することを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載のディスク製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57104152A JPS58222452A (ja) | 1982-06-17 | 1982-06-17 | デイスク製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57104152A JPS58222452A (ja) | 1982-06-17 | 1982-06-17 | デイスク製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58222452A true JPS58222452A (ja) | 1983-12-24 |
| JPH0345459B2 JPH0345459B2 (ja) | 1991-07-11 |
Family
ID=14373091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57104152A Granted JPS58222452A (ja) | 1982-06-17 | 1982-06-17 | デイスク製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58222452A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5221412B2 (ja) | 2009-02-23 | 2013-06-26 | 三菱重工マシナリーテクノロジー株式会社 | カーカスプライの接合装置 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5587595A (en) * | 1978-12-27 | 1980-07-02 | Nec Corp | Laser recording film |
| JPS5616948A (en) * | 1979-07-23 | 1981-02-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Optical memory medium |
| JPS5665340A (en) * | 1979-10-17 | 1981-06-03 | Rca Corp | Recordinggmedium for optical recording and regeneration |
| JPS56127937A (en) * | 1980-01-23 | 1981-10-07 | Thomson Csf | Method of writing thermo-optical data and data medium for executing same |
| JPS5796899A (en) * | 1980-10-31 | 1982-06-16 | Deisukopijiyon Asoshieitsu | Manufacture of solution |
| JPS5862844A (ja) * | 1981-10-09 | 1983-04-14 | Pioneer Electronic Corp | デイスクの製造方法 |
-
1982
- 1982-06-17 JP JP57104152A patent/JPS58222452A/ja active Granted
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5587595A (en) * | 1978-12-27 | 1980-07-02 | Nec Corp | Laser recording film |
| JPS5616948A (en) * | 1979-07-23 | 1981-02-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Optical memory medium |
| JPS5665340A (en) * | 1979-10-17 | 1981-06-03 | Rca Corp | Recordinggmedium for optical recording and regeneration |
| JPS56127937A (en) * | 1980-01-23 | 1981-10-07 | Thomson Csf | Method of writing thermo-optical data and data medium for executing same |
| JPS5796899A (en) * | 1980-10-31 | 1982-06-16 | Deisukopijiyon Asoshieitsu | Manufacture of solution |
| JPS5862844A (ja) * | 1981-10-09 | 1983-04-14 | Pioneer Electronic Corp | デイスクの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0345459B2 (ja) | 1991-07-11 |
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