JPS5821636Y2 - 物体支持装置 - Google Patents
物体支持装置Info
- Publication number
- JPS5821636Y2 JPS5821636Y2 JP1978068704U JP6870478U JPS5821636Y2 JP S5821636 Y2 JPS5821636 Y2 JP S5821636Y2 JP 1978068704 U JP1978068704 U JP 1978068704U JP 6870478 U JP6870478 U JP 6870478U JP S5821636 Y2 JPS5821636 Y2 JP S5821636Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support device
- suction
- seal
- thin plate
- suction surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
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- Jigs For Machine Tools (AREA)
- Load-Engaging Elements For Cranes (AREA)
- Registering Or Overturning Sheets (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は真空吸着を利用した物体支持装置に関するもの
である。
である。
真空吸着によシ物体を吸着し保持する手段としては従来
から種々のものが提案されている。
から種々のものが提案されている。
第１図釦よび第２図は加工機械等の被加工物を吸着支持
する装置の一例を示すもので、吸着基板１の吸着面１ａ
には縦横に多数のシール溝２を設けている。
する装置の一例を示すもので、吸着基板１の吸着面１ａ
には縦横に多数のシール溝２を設けている。
そして、この溝２の適当な所に外部真空源に通じる孔３
を設ける。
を設ける。
被吸着物４を吸着するときには、被吸着物の大きさに対
応させて弾性材からなるシール部材５を閉路を形成する
ようにシール溝２に嵌め込む。
応させて弾性材からなるシール部材５を閉路を形成する
ようにシール溝２に嵌め込む。
このとき、シール部材５は吸着面から若干突出するよう
にする。
にする。
続いて、吸着すべき物体４をシール部材５上に乗せ、外
部真空源と孔３とを連通させる。
部真空源と孔３とを連通させる。
すると、吸着すべき物体４と吸着面１ａとか形成する空
間が減圧されるので、物体４は吸着基板１に吸着支持さ
れる。
間が減圧されるので、物体４は吸着基板１に吸着支持さ
れる。
しかしながら、上記の吸着支持方法では次のような欠点
があった。
があった。
すなわち、薄板（例えば板厚かｌ〜２關以下）を吸着支
持すると、薄板はシール部材５の上端部を基点として凹
状に変形し、このため薄板の一定の位置に正確な加工を
行なうことかできない欠点かあった。
持すると、薄板はシール部材５の上端部を基点として凹
状に変形し、このため薄板の一定の位置に正確な加工を
行なうことかできない欠点かあった。
このように、薄板か変形する原因は、シール部材５か吸
着基板１の吸着面１ａとほぼ同一になるように圧縮され
ないこと、及び閉路を形成まるシール部材５内のシール
溝２のみか減圧されて吸着作用を生じるからである。
着基板１の吸着面１ａとほぼ同一になるように圧縮され
ないこと、及び閉路を形成まるシール部材５内のシール
溝２のみか減圧されて吸着作用を生じるからである。
本考案の目的は、吸着すべき物体か薄板のものでも吸着
時に変形することなく支持することかできる物体支持装
置を提供することにある。
時に変形することなく支持することかできる物体支持装
置を提供することにある。
以下本考案を実施例に基づいて説明する。
第４図は本考案の一実施例を示すもので、第１図に示す
吸着基板１の吸着面１ａにシール溝２に連通する細溝６
を設けている。
吸着基板１の吸着面１ａにシール溝２に連通する細溝６
を設けている。
これにより、薄板４を吸着したとき、閉路を形成するシ
ール部材５内の細溝６内も減圧されて吸着効果を発揮す
るようになる。
ール部材５内の細溝６内も減圧されて吸着効果を発揮す
るようになる。
このため、薄板４を吸着する力か小部分においても単位
面積当シ均一に分散され吸着面１ａと薄板４とが密着す
るようになるので、薄板４は凹状に変形することなく吸
着支持することかできる。
面積当シ均一に分散され吸着面１ａと薄板４とが密着す
るようになるので、薄板４は凹状に変形することなく吸
着支持することかできる。
以上の通り本考案は板厚か非常に薄いものでも被支持物
体を変形させることなく一様に吸着面に吸着させること
かできる。
体を変形させることなく一様に吸着面に吸着させること
かできる。
これにより本考案は工作機械等において、被加工物の支
持装置に適用して非常に効果かあるものである。
持装置に適用して非常に効果かあるものである。
第１図は従来の物体支持装置を示す図、第２図は第１図
の断面図、第３図は本考案の実施例を示す上面図、第４
図は第３図の断面図である。 １０００００．吸着基板、２・・・・・・シール溝、５
・・・・・・シール部材、６・・・・・・溝。
の断面図、第３図は本考案の実施例を示す上面図、第４
図は第３図の断面図である。 １０００００．吸着基板、２・・・・・・シール溝、５
・・・・・・シール部材、６・・・・・・溝。
Claims (1)
- 外部真空源に連通した吸着基板の吸着面に多数のシール
溝を設けて該吸着面を多数個のブロックに分割し、該シ
ール溝に閉路を形成するようにシール部材を嵌め込むよ
うにした物体支持装置に釦いて、前記各ブロックの吸着
面に前記シール溝と連通ずる細溝を設けたことを特徴と
する物体支持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1978068704U JPS5821636Y2 (ja) | 1978-05-22 | 1978-05-22 | 物体支持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1978068704U JPS5821636Y2 (ja) | 1978-05-22 | 1978-05-22 | 物体支持装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54169987U JPS54169987U (ja) | 1979-11-30 |
| JPS5821636Y2 true JPS5821636Y2 (ja) | 1983-05-09 |
Family
ID=28976826
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1978068704U Expired JPS5821636Y2 (ja) | 1978-05-22 | 1978-05-22 | 物体支持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5821636Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10235482B3 (de) * | 2002-08-02 | 2004-01-22 | Süss Microtec Lithography Gmbh | Vorrichtung zum Fixieren dünner und flexibler Substrate |
| KR101133295B1 (ko) | 2009-09-15 | 2012-04-04 | 임권현 | 진공척용 진공밀착패드 |
-
1978
- 1978-05-22 JP JP1978068704U patent/JPS5821636Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54169987U (ja) | 1979-11-30 |
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