JPS58204347A - パタ−ンの欠陥検査装置に用いる被検体の自動装填装置 - Google Patents
パタ−ンの欠陥検査装置に用いる被検体の自動装填装置Info
- Publication number
- JPS58204347A JPS58204347A JP57087736A JP8773682A JPS58204347A JP S58204347 A JPS58204347 A JP S58204347A JP 57087736 A JP57087736 A JP 57087736A JP 8773682 A JP8773682 A JP 8773682A JP S58204347 A JPS58204347 A JP S58204347A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- elevator
- carrier
- specimen
- photomask
- defect inspection
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はホトマスク、半導体ウェファ等の被枳体のパタ
ーンの欠陥を検査する装置において、ホトマスクやウェ
ファ等の被検体を自動的に欠陥検査装置に装置し、検査
終了後再び欠陥検査装置から取り出す自動装填装置に閑
するものである。
ーンの欠陥を検査する装置において、ホトマスクやウェ
ファ等の被検体を自動的に欠陥検査装置に装置し、検査
終了後再び欠陥検査装置から取り出す自動装填装置に閑
するものである。
本発明者等は、例えば特公昭５４−８７４７５号公報に
おいて、半導体集梼回絡の製造に用いるホトマスクのチ
ップパターンの欠陥を検出する装置を提案している。こ
の装置は、ホトマスクには多数の同一模様のテップパタ
ーンが形成されており、したがって１ｉｉＩ接するチッ
プパターンの同一位置を比較することにより欠陥の検査
かでさることに基づいている。
おいて、半導体集梼回絡の製造に用いるホトマスクのチ
ップパターンの欠陥を検出する装置を提案している。こ
の装置は、ホトマスクには多数の同一模様のテップパタ
ーンが形成されており、したがって１ｉｉＩ接するチッ
プパターンの同一位置を比較することにより欠陥の検査
かでさることに基づいている。
このような欠陥検査装置において、例えば一枚のホトマ
スクを検査するのには数十分という長い時間が必要であ
るが、従来はホトマスク２一枚づつ手動で装填していた
ためオペレータのホトマスク交換作業は非常に面倒であ
−った。特にホトマスクに傷が付いたり、指紋が付いた
り、ホコリやゴミが付いたりしないように細心の注意が
必要であった。このような交換作業を自動的に行なうに
はオートローダがあるが、従来のものは上述した要求を
必らずしも満足するものではなく、また、構造がｌｌＩ
雑で高価となるなどの欠点かあ−った。
スクを検査するのには数十分という長い時間が必要であ
るが、従来はホトマスク２一枚づつ手動で装填していた
ためオペレータのホトマスク交換作業は非常に面倒であ
−った。特にホトマスクに傷が付いたり、指紋が付いた
り、ホコリやゴミが付いたりしないように細心の注意が
必要であった。このような交換作業を自動的に行なうに
はオートローダがあるが、従来のものは上述した要求を
必らずしも満足するものではなく、また、構造がｌｌＩ
雑で高価となるなどの欠点かあ−った。
本発明の目的は、ホトマスクやウェファ等の被検体を損
傷することなく、またゴミやホコリを付けることなく自
動的に欠陥検査装置に対して装脱することができ、しか
も構成が簡単で安価な自動装填装置を提供しようとする
ものである。
傷することなく、またゴミやホコリを付けることなく自
動的に欠陥検査装置に対して装脱することができ、しか
も構成が簡単で安価な自動装填装置を提供しようとする
ものである。
本発明は、半導体装置の製造に使用するホトマスク、ウ
ェファなどの被検体のパターンの欠陥を検査する装置に
被検体を自動的に装填し、検査終了後被便体を自動的に
欠陥検査装置から取り出す装置において、複数の検査す
べき被検体を互いに間隔を置いて積層収納したカセット
を保持して上下に移動し得る第１のエレベータと、検査
を終了し、たｗＩ数の被検体を互いに間隔を置いて積層
収納するカセットを保持して上下に移動し得る第２のエ
レベータと、前記第１のエレベータと被検棒受は渡し位
置との間を往復移動して検査すべき被検体をｂ次に第１
のエレベータに保持されたカセットから被検棒受は渡し
位置へ搬送する第１のキャリアと、ｌ！Ｉ］紀被検体受
は渡し位置と帖２のエレベータとの同を往復移動して検
査済みの被検体を一次に第２のエレベータに保持された
カセットへ搬送する第２のキャリアと、前記被検棒受は
渡し位置と欠陥検査装置の被検体装填位置との間を往復
移動し、被検棒受は渡し位置に搬送されて来る検査すべ
き被検体を被検体装填位置へｍ送し、検査を終了した被
検体を被検体装填位置から被検棒受は渡し位置へ搬送す
る第３のキャリアとを具えることを特徴とするむのであ
る。
ェファなどの被検体のパターンの欠陥を検査する装置に
被検体を自動的に装填し、検査終了後被便体を自動的に
欠陥検査装置から取り出す装置において、複数の検査す
べき被検体を互いに間隔を置いて積層収納したカセット
を保持して上下に移動し得る第１のエレベータと、検査
を終了し、たｗＩ数の被検体を互いに間隔を置いて積層
収納するカセットを保持して上下に移動し得る第２のエ
レベータと、前記第１のエレベータと被検棒受は渡し位
置との間を往復移動して検査すべき被検体をｂ次に第１
のエレベータに保持されたカセットから被検棒受は渡し
位置へ搬送する第１のキャリアと、ｌ！Ｉ］紀被検体受
は渡し位置と帖２のエレベータとの同を往復移動して検
査済みの被検体を一次に第２のエレベータに保持された
カセットへ搬送する第２のキャリアと、前記被検棒受は
渡し位置と欠陥検査装置の被検体装填位置との間を往復
移動し、被検棒受は渡し位置に搬送されて来る検査すべ
き被検体を被検体装填位置へｍ送し、検査を終了した被
検体を被検体装填位置から被検棒受は渡し位置へ搬送す
る第３のキャリアとを具えることを特徴とするむのであ
る。
以下、図面を癖照して本発明の詳細な説明する、第１図
は本発明の自動装填装置と、欠陥検査装置とを組合せた
全体の構成を示す正面図である。
は本発明の自動装填装置と、欠陥検査装置とを組合せた
全体の構成を示す正面図である。
欠陥検査装置ｌは、例えば−上述した特公昭５４−３ｔ
４ｑ５号公報に１載されているホトマスクの欠陥検査装
置であり、テーブル上に装填されたホトマスクの位置お
よび姿勢を自動的に調整する機構を有している。欠陥検
査装置ｌの左側にホトマスクの自動装填装置２が配置さ
れており、この自動装填装置２は装填装置本体部８と、
送風部会とえており、本体部８ヘエアを送り、ゴミやホ
コリがホトマスク上に堆積しないようにしている。−万
、本俸部８にはカバーａａ 、ａｂが設けられており、
一方のカバー８ａは後方へ開放できるようになっている
。
４ｑ５号公報に１載されているホトマスクの欠陥検査装
置であり、テーブル上に装填されたホトマスクの位置お
よび姿勢を自動的に調整する機構を有している。欠陥検
査装置ｌの左側にホトマスクの自動装填装置２が配置さ
れており、この自動装填装置２は装填装置本体部８と、
送風部会とえており、本体部８ヘエアを送り、ゴミやホ
コリがホトマスク上に堆積しないようにしている。−万
、本俸部８にはカバーａａ 、ａｂが設けられており、
一方のカバー８ａは後方へ開放できるようになっている
。
自動装填装置２の本体部８には、第２図の平面図および
Ｉｉａ図の斜視図に示すように最大２０枚のホトマスク
を上下に間隔を置いて積層収納するカセット９および１
０を保持して上下に移動し得る第１および第２のエレベ
ータ１１および１２と、第１のエレベータ１１とホトマ
スク受渡し位置１８との間を結ぶほぼＬ形の通路１４に
沿って水平面内を移動する第１のキャリア１５と、ホト
マスク受渡し位置１８と第２のエレベータ１２との間を
結ぶ直線状の通路１６に沿って水平平面内を移動する第
２のキャリア１７と、備かに上下動すると共に軸１８を
中心としてホトマスク受渡し位ｌｌ１ｌｂと欠陥検査装
置１のホトマスク装填位置１９との間を回動し得る２本
のアーム２０．２１を有する第８のキャリア２２とを具
えている。この第８キヤリア２２の２本のアーム２０．
２１はさらにそれぞれの縦軸線を中心として互いに同期
して反対方向に回動するように構成されていると共にこ
れらのアームにはホトマスクを把持するための２個のロ
ーラ状の突起２ａａ、２３ｂおよび２４ａ、２４ｂが取
付けられている。また、アームｇｏ、ｘｉは、そのほぼ
中央で８個の部分に分割されており、その先端部分はホ
トマスクの形状、寸法に応じて別のものと交換可能に構
成されている。また、本体部８の前面には操作パネル２
５が設けられており、ここにスタート釦、ストップ釦、
モード選択釦等の６櫨の操作釦が設けられている。
Ｉｉａ図の斜視図に示すように最大２０枚のホトマスク
を上下に間隔を置いて積層収納するカセット９および１
０を保持して上下に移動し得る第１および第２のエレベ
ータ１１および１２と、第１のエレベータ１１とホトマ
スク受渡し位置１８との間を結ぶほぼＬ形の通路１４に
沿って水平面内を移動する第１のキャリア１５と、ホト
マスク受渡し位置１８と第２のエレベータ１２との間を
結ぶ直線状の通路１６に沿って水平平面内を移動する第
２のキャリア１７と、備かに上下動すると共に軸１８を
中心としてホトマスク受渡し位ｌｌ１ｌｂと欠陥検査装
置１のホトマスク装填位置１９との間を回動し得る２本
のアーム２０．２１を有する第８のキャリア２２とを具
えている。この第８キヤリア２２の２本のアーム２０．
２１はさらにそれぞれの縦軸線を中心として互いに同期
して反対方向に回動するように構成されていると共にこ
れらのアームにはホトマスクを把持するための２個のロ
ーラ状の突起２ａａ、２３ｂおよび２４ａ、２４ｂが取
付けられている。また、アームｇｏ、ｘｉは、そのほぼ
中央で８個の部分に分割されており、その先端部分はホ
トマスクの形状、寸法に応じて別のものと交換可能に構
成されている。また、本体部８の前面には操作パネル２
５が設けられており、ここにスタート釦、ストップ釦、
モード選択釦等の６櫨の操作釦が設けられている。
次に本例の自動装填装置の各部の動作を説明する。先ず
、準備段階として第１のエレベータ１１に２０枚の検査
すべきホトマスクを収納したカセット９を装着する。ホ
トマスクはカセットの対向する側壁に形成した溝に一枚
づつ間隔をあけて挿入されている。カセット９．１０は
エレベータ１１．１２に対して着脱自在となっているの
で、検査すべきホトマスクを予じめ装着したカセット９
をエレベータ１１に装填すればよい。一方、第２のエレ
ベータ１２のカセットには前回の検査により検査済みと
なった２０枚のホトマスクが格納されているから、この
カセットを取り外し、空のカセットｌＯを第２のエレベ
ータ１２に装填すればよい。このようにして第１および
第２のカセット９および１０をセットした後、カバー８
ａを閉じ、操作パネル２５のスタート釦を押す。第１の
エレベータ１１に収納した峡も下体のホトマスクから検
査を開始するが、このために第１のエレベータ１１の下
方にはホトディテクタ２６が設けられている。また、第
２のエレベータ１゛２の下方にも第８のホトディテクタ
２７が配置されている。先ず第１のエレベータ１１が下
降し、最下層のホトマスクが第１のホトディテクタによ
り検知されるとエレベータの下降は停止する。また、初
期状態では第１キヤリア１５は第１のエレベータ１１の
下側にあり、上述したようにホトマスクが検出されると
き、丁度ホトマスクが第１キヤリア１５により捕捉され
るようになっている。第１図に示すように第１のキャリ
ア１５は全体としてほぼ矩形をしており、その四隅にホ
トマスクを支持する突起１５ａ〜１ａｄが設けられてい
ると共にホトディテクタ２６を避けてエレベータ１１内
に侵入し得るように切込み１５θが形成されている。ま
た、突起１６ａＮ１５ｄはホトマスクが滑り落ちないよ
うに段部が形成されている。第２キヤリア１７も全く同
じ構成となっている。次に第１キヤリア１５は通路１４
に沿ってホトマスク受は渡し位置１８へ移動する。この
ときに鴬は第２のキャリア１７は第２のエレベータ１ｚ
の下側に位置していると共に第８のキ゛ヤリア２２のア
ーム２０．２１は位置１８の上方にある。次に第８のキ
ャリア２２は僅かに降下した後、アーム２０．２１が回
動し、突起ｇ８ａ、２８ｂ、２４ａ、２４ｂによりホト
マスクを把持する。次に第３キヤリア２２は備かに上昇
する。
、準備段階として第１のエレベータ１１に２０枚の検査
すべきホトマスクを収納したカセット９を装着する。ホ
トマスクはカセットの対向する側壁に形成した溝に一枚
づつ間隔をあけて挿入されている。カセット９．１０は
エレベータ１１．１２に対して着脱自在となっているの
で、検査すべきホトマスクを予じめ装着したカセット９
をエレベータ１１に装填すればよい。一方、第２のエレ
ベータ１２のカセットには前回の検査により検査済みと
なった２０枚のホトマスクが格納されているから、この
カセットを取り外し、空のカセットｌＯを第２のエレベ
ータ１２に装填すればよい。このようにして第１および
第２のカセット９および１０をセットした後、カバー８
ａを閉じ、操作パネル２５のスタート釦を押す。第１の
エレベータ１１に収納した峡も下体のホトマスクから検
査を開始するが、このために第１のエレベータ１１の下
方にはホトディテクタ２６が設けられている。また、第
２のエレベータ１゛２の下方にも第８のホトディテクタ
２７が配置されている。先ず第１のエレベータ１１が下
降し、最下層のホトマスクが第１のホトディテクタによ
り検知されるとエレベータの下降は停止する。また、初
期状態では第１キヤリア１５は第１のエレベータ１１の
下側にあり、上述したようにホトマスクが検出されると
き、丁度ホトマスクが第１キヤリア１５により捕捉され
るようになっている。第１図に示すように第１のキャリ
ア１５は全体としてほぼ矩形をしており、その四隅にホ
トマスクを支持する突起１５ａ〜１ａｄが設けられてい
ると共にホトディテクタ２６を避けてエレベータ１１内
に侵入し得るように切込み１５θが形成されている。ま
た、突起１６ａＮ１５ｄはホトマスクが滑り落ちないよ
うに段部が形成されている。第２キヤリア１７も全く同
じ構成となっている。次に第１キヤリア１５は通路１４
に沿ってホトマスク受は渡し位置１８へ移動する。この
ときに鴬は第２のキャリア１７は第２のエレベータ１ｚ
の下側に位置していると共に第８のキ゛ヤリア２２のア
ーム２０．２１は位置１８の上方にある。次に第８のキ
ャリア２２は僅かに降下した後、アーム２０．２１が回
動し、突起ｇ８ａ、２８ｂ、２４ａ、２４ｂによりホト
マスクを把持する。次に第３キヤリア２２は備かに上昇
する。
このようにしてホトマスクを把持した第８キヤリア２２
は次に回動し、ホトマスクを欠陥検査表ｗ１１のホトマ
スク装填位置１９へ搬送した後、像かに降下し、ホトマ
スクを欠陥検査装置の１のテーブル上に載せる。このテ
ーブルにはエア吸引孔が設けられており、エアを吸引し
てホトマスクをテーブル上に保持する。次にアーム２０
．２１が上述のところとは反対の方向に回動し、ホトマ
スクを離した後、第８キヤリア２２は回動し、ホトマス
ク受は渡し位置１８の上方に待機する。このようにして
岐初のホトマスクを欠陥検査装置へ装填することができ
る。また、このときまでには第１キヤリア１５は第１エ
レベータ１１の位置へ戻っている。
は次に回動し、ホトマスクを欠陥検査表ｗ１１のホトマ
スク装填位置１９へ搬送した後、像かに降下し、ホトマ
スクを欠陥検査装置の１のテーブル上に載せる。このテ
ーブルにはエア吸引孔が設けられており、エアを吸引し
てホトマスクをテーブル上に保持する。次にアーム２０
．２１が上述のところとは反対の方向に回動し、ホトマ
スクを離した後、第８キヤリア２２は回動し、ホトマス
ク受は渡し位置１８の上方に待機する。このようにして
岐初のホトマスクを欠陥検査装置へ装填することができ
る。また、このときまでには第１キヤリア１５は第１エ
レベータ１１の位置へ戻っている。
次に検査が終了すると第８キヤリア２２は再び回動して
アームｇｏ＋！ｉをホトマスク装填位置１９へ移動した
後、備かに降下し、さらにアーム２０．２１を回動させ
てホトマスクを把持する。
アームｇｏ＋！ｉをホトマスク装填位置１９へ移動した
後、備かに降下し、さらにアーム２０．２１を回動させ
てホトマスクを把持する。
上述したテーブルのエア吸引を解除した後、第８キヤリ
ア２２は上昇し、再び回動してホトマスク受は渡し位置
１８へ戻る。このときまでに第２キヤリア１７は位置１
８へ移動している。第３のキャリア２２は備かに降下し
、ホトマスクを第２キヤリアｌフ上に載せた後、アーム
２０．２１を回動させてホトマスクを離す。 第８キヤ
リア２２が上昇した後第２キヤリア１７が移動し、ホト
マスクを力士ブト１０内に格納する。次に第２エレベー
タ１２はホトディテクタ２７の制御の下で１よび第１キ
ヤリア１５は上述した動作を繰り返し、次のホトマスク
を受は渡し位置１８へ搬送し、これを第８キヤリアで把
持して欠陥検査装置１のテーブル上へ搬送する。
ア２２は上昇し、再び回動してホトマスク受は渡し位置
１８へ戻る。このときまでに第２キヤリア１７は位置１
８へ移動している。第３のキャリア２２は備かに降下し
、ホトマスクを第２キヤリアｌフ上に載せた後、アーム
２０．２１を回動させてホトマスクを離す。 第８キヤ
リア２２が上昇した後第２キヤリア１７が移動し、ホト
マスクを力士ブト１０内に格納する。次に第２エレベー
タ１２はホトディテクタ２７の制御の下で１よび第１キ
ヤリア１５は上述した動作を繰り返し、次のホトマスク
を受は渡し位置１８へ搬送し、これを第８キヤリアで把
持して欠陥検査装置１のテーブル上へ搬送する。
本発明によれば以上の動作を順次繰り返すことニヨリカ
セット９に収納した順次のホトマスクを欠陥検査装置１
へ順次自動的に装填し、検査済みのホトマスクをカセッ
ト１０へ順次格納することができる。総てのホトマスク
の検査が終了するとブザーにより警報を発すると共に装
置は自動的に停止する。したがって、検査期間中、オペ
レータが装置についている必要はなく、作業能率は著し
く向上する。また、送風部４により絶えず送風している
のでホトマスク上にゴミやホコリが堆積する惧れはない
。
セット９に収納した順次のホトマスクを欠陥検査装置１
へ順次自動的に装填し、検査済みのホトマスクをカセッ
ト１０へ順次格納することができる。総てのホトマスク
の検査が終了するとブザーにより警報を発すると共に装
置は自動的に停止する。したがって、検査期間中、オペ
レータが装置についている必要はなく、作業能率は著し
く向上する。また、送風部４により絶えず送風している
のでホトマスク上にゴミやホコリが堆積する惧れはない
。
第１図は本発明の自動装填装置と欠陥検査装置とを組合
せ、た全体の構成を示す正面図、第２図は本発明の自動
装填装置の一例の構成を示す平面図、 第８図は同じくその斜視図、 第４図は同じくその第１のキャリアの構成を示す平面図
である。 ｌ・・・パターン欠陥検査装置 ２・・・自動装填装置 ８・・・本体部４・・・送
風部 ９．ｌＯ・・・カセット１１．１２・
・・第１．第２エレベータ１８・・・ホトマスク受は渡
し位置 １４．１６・・・通路 １５．１フ・・・第１．第２キヤリア ２２・・・第８キヤリア １９・・・ホトマスク装填位置 ２０．２１・・・アーム
せ、た全体の構成を示す正面図、第２図は本発明の自動
装填装置の一例の構成を示す平面図、 第８図は同じくその斜視図、 第４図は同じくその第１のキャリアの構成を示す平面図
である。 ｌ・・・パターン欠陥検査装置 ２・・・自動装填装置 ８・・・本体部４・・・送
風部 ９．ｌＯ・・・カセット１１．１２・
・・第１．第２エレベータ１８・・・ホトマスク受は渡
し位置 １４．１６・・・通路 １５．１フ・・・第１．第２キヤリア ２２・・・第８キヤリア １９・・・ホトマスク装填位置 ２０．２１・・・アーム
Claims (1)
- Ｌ 半導体装置の製造に使用するホトマスク、ウェファ
などの被検体のパターンの欠陥を検査する装置に被検体
を自動的に装填し、検査終了後被検体を自動的に欠陥検
査装置から取り出す装置において、複数の検査すべき被
検体を〃いに間隔を置いて積層収納したカセットを保持
して上下に移動し得る第１のエレベータと、検査を終了
したＷ＊の被検体を互いに間隔を置いて積層収納するカ
セツＹを保持して上下に移動し得る第２のエレベータと
、前記第１のエレベータと被検棒受は渡し位置との量分
往復移動して検査すべき被検体を順次に第１のエレベー
タに保持されたカセットから被検棒受は渡し位置へ搬送
する第１のキャリアと、前記被検棒受は渡し位置と第２
のエレベータとの間を往復移動して検査済みの被検体を
順次に第２のエレベータに保持されたカセットへ搬送す
る第２のキャリアと、前記被検棒受は渡し位置と欠陥検
査装置の被検体装填位置との間を往復移動し、被検棒受
は渡し位置に搬送されて来る検査すべき被検体を被検体
装填位置へ搬送し、検査を終了した被検体を被検体装填
位置力）ら被検棒受は渡し位置へ搬送する第８のキャリ
アとを具えることを特許とするパターンの欠陥検査装置
に用いる被検体の自動装填装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57087736A JPS58204347A (ja) | 1982-05-24 | 1982-05-24 | パタ−ンの欠陥検査装置に用いる被検体の自動装填装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57087736A JPS58204347A (ja) | 1982-05-24 | 1982-05-24 | パタ−ンの欠陥検査装置に用いる被検体の自動装填装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58204347A true JPS58204347A (ja) | 1983-11-29 |
Family
ID=13923203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57087736A Pending JPS58204347A (ja) | 1982-05-24 | 1982-05-24 | パタ−ンの欠陥検査装置に用いる被検体の自動装填装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58204347A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0640517A (ja) * | 1985-10-24 | 1994-02-15 | Texas Instr Inc <Ti> | ウェーハ移送方法及び集積回路ステーション |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5651325A (en) * | 1979-10-02 | 1981-05-08 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Formation of fiber-reinforced plastic |
-
1982
- 1982-05-24 JP JP57087736A patent/JPS58204347A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5651325A (en) * | 1979-10-02 | 1981-05-08 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Formation of fiber-reinforced plastic |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0640517A (ja) * | 1985-10-24 | 1994-02-15 | Texas Instr Inc <Ti> | ウェーハ移送方法及び集積回路ステーション |
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