JPS58200225A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPS58200225A JPS58200225A JP57083047A JP8304782A JPS58200225A JP S58200225 A JPS58200225 A JP S58200225A JP 57083047 A JP57083047 A JP 57083047A JP 8304782 A JP8304782 A JP 8304782A JP S58200225 A JPS58200225 A JP S58200225A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lamp
- temperature
- gas
- controlled
- heater
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/04—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
- G03G15/04036—Details of illuminating systems, e.g. lamps, reflectors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は遠紫外線露光装置のX e −U fランプの
ランプ温度制御に関する。
ランプ温度制御に関する。
従来、放電灯はランプ温度により発光スペクトルが変わ
ることが知られておシ、例えば水冷方式の超高圧水銀灯
などを温調された純水にょ〕温度制御するのは公知あ技
術である。しかじ遠紫外領域に高い発光効率を有するX
・−Hfランプは空冷式であり水冷に19ランプ温度を
制御することはできない。又水冷方式は高価な純水を必
要とし、又、水もれの危険もあった。
ることが知られておシ、例えば水冷方式の超高圧水銀灯
などを温調された純水にょ〕温度制御するのは公知あ技
術である。しかじ遠紫外領域に高い発光効率を有するX
・−Hfランプは空冷式であり水冷に19ランプ温度を
制御することはできない。又水冷方式は高価な純水を必
要とし、又、水もれの危険もあった。
本発明の目的は空冷式のX@−Hfランプを最適温度に
冷却し、希望する波長領域で高い発光効率を得、又ラン
プ照度を一定に保つことができる露光装置を提供するこ
とにある。
冷却し、希望する波長領域で高い発光効率を得、又ラン
プ照度を一定に保つことができる露光装置を提供するこ
とにある。
第1図はX・−Hfランプの温度と光強度(相対照度)
の関係を示す。また、第2図はランプ発光効率の経時変
化を示す。これらの図から希望する波長にはそれぞれ最
適ランプ温度があり、また、第1図においてイは遠紫外
領域の光、口は紫外領域の光の特性である。また、第2
図においてイは相対照度、pはランプ温度の特性である
。
の関係を示す。また、第2図はランプ発光効率の経時変
化を示す。これらの図から希望する波長にはそれぞれ最
適ランプ温度があり、また、第1図においてイは遠紫外
領域の光、口は紫外領域の光の特性である。また、第2
図においてイは相対照度、pはランプ温度の特性である
。
第3図に本発明の実施例を示す。通常X・−Hfランプ
1はだ円鏡2などで光を集光し遠紫外光3を放出してい
る。又ランプ1が過熱するのを防ぐため、不活性ガス例
えばN!ガス1などで冷却している。ランプ1を温度制
御するため、ランプ1會冷却したNmガス7bの温度を
検出器8により検出し、温調器5にフィードバックし、
ヒータ6によpガス配管4¥f−介してN禽ガスTを温
度制御し、温度制御されたNsガス11をランプ1に供
給し、これでランプ温度の制御を行なうものである0 本実施例では、遠紫外領域の発光効率が数十チ向上し、
従って露光作業時間が数十−短縮するという効果が得ら
れ友。
1はだ円鏡2などで光を集光し遠紫外光3を放出してい
る。又ランプ1が過熱するのを防ぐため、不活性ガス例
えばN!ガス1などで冷却している。ランプ1を温度制
御するため、ランプ1會冷却したNmガス7bの温度を
検出器8により検出し、温調器5にフィードバックし、
ヒータ6によpガス配管4¥f−介してN禽ガスTを温
度制御し、温度制御されたNsガス11をランプ1に供
給し、これでランプ温度の制御を行なうものである0 本実施例では、遠紫外領域の発光効率が数十チ向上し、
従って露光作業時間が数十−短縮するという効果が得ら
れ友。
以上のように本発明によれば、空冷式のXe −Hf?
ンプを安価に温度制御できるので、容易に発光効率を向
上させ従って露光時間を短縮し、また、ランプ温度を一
定に保てるので、分光照度を一定に保ち製品の歩留を向
上し、よって安価で高品質な製品を提供できる効果があ
る。
ンプを安価に温度制御できるので、容易に発光効率を向
上させ従って露光時間を短縮し、また、ランプ温度を一
定に保てるので、分光照度を一定に保ち製品の歩留を向
上し、よって安価で高品質な製品を提供できる効果があ
る。
第1図はランプ温度と発光効率を示すグラフ、第2図は
ランプ発光効率の経時変化を示すグラフ−第3図は本発
明の実施例の構成図を示す。 1・・・・X・−Hfランプ、2@・・eだ日焼、3I
・拳・遠紫外光、4・・・・ガス配管、5・−一争[1
器、6争・・・ヒータ、T@拳・・N雪ガス(加熱前)
、7m・・・・N!ガス(加熱後)、7b・・・・Nl
ガス(ランプ冷却後)、8・・・・温度センサ。 第1図 T+ 72 ランフ曙7L ’ 第2図 ↑ ((汀) 蒔F/→
ランプ発光効率の経時変化を示すグラフ−第3図は本発
明の実施例の構成図を示す。 1・・・・X・−Hfランプ、2@・・eだ日焼、3I
・拳・遠紫外光、4・・・・ガス配管、5・−一争[1
器、6争・・・ヒータ、T@拳・・N雪ガス(加熱前)
、7m・・・・N!ガス(加熱後)、7b・・・・Nl
ガス(ランプ冷却後)、8・・・・温度センサ。 第1図 T+ 72 ランフ曙7L ’ 第2図 ↑ ((汀) 蒔F/→
Claims (1)
- X舎−Hfランプを有する遠紫外線露光装置において、
ヒータによシ加熱され次冷却ガスでランプを温度制御す
ることを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57083047A JPS58200225A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57083047A JPS58200225A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58200225A true JPS58200225A (ja) | 1983-11-21 |
Family
ID=13791283
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57083047A Pending JPS58200225A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58200225A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6236819A (ja) * | 1985-08-12 | 1987-02-17 | Canon Inc | 半導体焼付露光装置 |
JPH08181067A (ja) * | 1995-08-07 | 1996-07-12 | Canon Inc | 露光用光源および露光装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53127731A (en) * | 1977-04-14 | 1978-11-08 | Ricoh Co Ltd | Reflux fan in copier |
JPS5547752A (en) * | 1978-10-03 | 1980-04-04 | Mitsubishi Electric Corp | Data collection method |
JPS5595937A (en) * | 1979-01-16 | 1980-07-21 | Canon Inc | Original lighting device |
JPS56123564A (en) * | 1980-03-05 | 1981-09-28 | Fuji Xerox Co Ltd | Original illumination device for electronic copy machine |
-
1982
- 1982-05-19 JP JP57083047A patent/JPS58200225A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53127731A (en) * | 1977-04-14 | 1978-11-08 | Ricoh Co Ltd | Reflux fan in copier |
JPS5547752A (en) * | 1978-10-03 | 1980-04-04 | Mitsubishi Electric Corp | Data collection method |
JPS5595937A (en) * | 1979-01-16 | 1980-07-21 | Canon Inc | Original lighting device |
JPS56123564A (en) * | 1980-03-05 | 1981-09-28 | Fuji Xerox Co Ltd | Original illumination device for electronic copy machine |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6236819A (ja) * | 1985-08-12 | 1987-02-17 | Canon Inc | 半導体焼付露光装置 |
JPH08181067A (ja) * | 1995-08-07 | 1996-07-12 | Canon Inc | 露光用光源および露光装置 |
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