JPS58198471A - N−置換イミダゾ−ル類の製造法 - Google Patents
N−置換イミダゾ−ル類の製造法Info
- Publication number
- JPS58198471A JPS58198471A JP8080782A JP8080782A JPS58198471A JP S58198471 A JPS58198471 A JP S58198471A JP 8080782 A JP8080782 A JP 8080782A JP 8080782 A JP8080782 A JP 8080782A JP S58198471 A JPS58198471 A JP S58198471A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- imidazole
- heteropolyacid
- triphenylmethanol
- unsubstituted
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はトリフェニルメタノール類と1−非置換−イミ
ダゾール類とをヘテロポリ酸触媒の存在下に反応させる
ことを特徴とする1−トリフェニルメチルイミダゾール
類の製造法に関する。
ダゾール類とをヘテロポリ酸触媒の存在下に反応させる
ことを特徴とする1−トリフェニルメチルイミダゾール
類の製造法に関する。
トリフェニルメタノール類としては置換または非置換の
フェニル基を有するトリフェニルメタノールである。置
換フェニル基の置換基としては。
フェニル基を有するトリフェニルメタノールである。置
換フェニル基の置換基としては。
1!、臭素等のハロゲン原子、メチル、エチル。
プロピル等の低級アルキル基、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ等のアルコキシ基、アリール基があげられ具体
的置換フェニル基としてm−メチルフェニル、O−クロ
ルフェニル、P−メトキシフェニル、P−ニトロフェニ
ル等があげられる。
ロポキシ等のアルコキシ基、アリール基があげられ具体
的置換フェニル基としてm−メチルフェニル、O−クロ
ルフェニル、P−メトキシフェニル、P−ニトロフェニ
ル等があげられる。
また、l−無置換−イミダゾール類としてはイミダゾー
ル環の1位の窒素原子は無置換であって。
ル環の1位の窒素原子は無置換であって。
他の位置は置換または無置換のイミダゾールである。置
換基としては、たとえばハロゲン原子、二)041級ア
ルキル基、アルコキシル基、アリール基等があげられる
。
換基としては、たとえばハロゲン原子、二)041級ア
ルキル基、アルコキシル基、アリール基等があげられる
。
本発明において得られる1−トリフェニルメチルイミダ
ゾール類は抗菌性を有するものとして知られている(
Chew、 Bar、 93 P、 576 (19
6G) −;特公昭47−18752号公報、特公昭4
7−20015号公報〕号 公報上り、l−トリフェニルメチルイミダゾール類の製
法としては種々の方法が知られている。すなわち、
(A))リフェニルメチルハライド類とイミダゾール化
合物を反応させる方法(たとえば特公昭48−1530
7号;特公昭47−18752号;特開昭54−159
70号;特開昭54−17741号)。
ゾール類は抗菌性を有するものとして知られている(
Chew、 Bar、 93 P、 576 (19
6G) −;特公昭47−18752号公報、特公昭4
7−20015号公報〕号 公報上り、l−トリフェニルメチルイミダゾール類の製
法としては種々の方法が知られている。すなわち、
(A))リフェニルメチルハライド類とイミダゾール化
合物を反応させる方法(たとえば特公昭48−1530
7号;特公昭47−18752号;特開昭54−159
70号;特開昭54−17741号)。
(B)トリフェニルメタノール類とイミダゾールあるい
は活性化したイミダゾール化合物、たとえばトリー(1
−イミダゾリル)ホスフィン、ペンタ−(1−イミダゾ
リル)ホスホランある−いはイミダゾールマグネシウム
ハライドとを反応させる方法(たとえば、特公昭47−
20015号;特公昭47−32982号;特開昭54
−157561号;特開昭55−2644号)。
は活性化したイミダゾール化合物、たとえばトリー(1
−イミダゾリル)ホスフィン、ペンタ−(1−イミダゾ
リル)ホスホランある−いはイミダゾールマグネシウム
ハライドとを反応させる方法(たとえば、特公昭47−
20015号;特公昭47−32982号;特開昭54
−157561号;特開昭55−2644号)。
(C)トリフェニルメタノール類とイミダゾールとを反
応促進剤の存在下に反応させる方法で、促進剤としては
、たとえばリンオキシ酸エステル。
応促進剤の存在下に反応させる方法で、促進剤としては
、たとえばリンオキシ酸エステル。
塩化チタン、塩化アルミニウム(たとえば特開昭55−
62067号;特開昭55−62068号)、が知られ
ている。
62067号;特開昭55−62068号)、が知られ
ている。
しかし、上記(A)の方法は原料がハライドであり、取
扱い上手安定である。かつ、衛生管理上特別の配慮を払
わなければならない1等の欠点を有している。(B)、
(C)法ではトリフェニルメチルハライドを原料と
しない有利性はある。しかし、ハライドに比して不活性
なトリフェニルメタノール類を原料とすることから、一
般に高温を要している。一方、イミダゾールを活性な誘
導体に導くためには複雑な操作が加わってくる。さらに
反応促進剤を添加する場合でも反応温度が高い。
扱い上手安定である。かつ、衛生管理上特別の配慮を払
わなければならない1等の欠点を有している。(B)、
(C)法ではトリフェニルメチルハライドを原料と
しない有利性はある。しかし、ハライドに比して不活性
なトリフェニルメタノール類を原料とすることから、一
般に高温を要している。一方、イミダゾールを活性な誘
導体に導くためには複雑な操作が加わってくる。さらに
反応促進剤を添加する場合でも反応温度が高い。
しかも目的生成物の1−トリフェニルメチルイミダゾー
ル類のほかに副生物が生じ精製収率が悪い等の欠点を有
している。
ル類のほかに副生物が生じ精製収率が悪い等の欠点を有
している。
これらのことから、工業的には化学的に安定な原料を使
用し、かつ比較□的低温下で容易な方法で。
用し、かつ比較□的低温下で容易な方法で。
しかも収率よ〈実施しつる方法の開発が望まれていた。
本発明者らは上記の従来法のもつ欠点を克服し。
工業的に収率よく、容易に実施しうる1−トリフェニル
メチルイミダゾール類の製法を開発すぺ(。
メチルイミダゾール類の製法を開発すぺ(。
種々研究した。
その結果、有機溶媒中で9通常の条件下では不活性なト
リフェニルメタノール類が1−非置換−イミダゾール頬
をヘテロポリ酸触媒の存在下で反応させることによって
、容易に高収率で11リフエニルメチルイミダゾール類
を製造しうろこ−とを見い出した0本発明はこの知見に
基づいて完成したものである。
リフェニルメタノール類が1−非置換−イミダゾール頬
をヘテロポリ酸触媒の存在下で反応させることによって
、容易に高収率で11リフエニルメチルイミダゾール類
を製造しうろこ−とを見い出した0本発明はこの知見に
基づいて完成したものである。
本発明について以下さらに詳細に説明する。
本発明において、トリフェニルメタノール類と1−非置
換−イミダゾール類を有機溶媒に溶解し。
換−イミダゾール類を有機溶媒に溶解し。
ヘテロポリ酸触媒を加え1反応させることによって1−
)リフェニルメチルイミダゾール韻を簡単に高収率で得
られる。
)リフェニルメチルイミダゾール韻を簡単に高収率で得
られる。
本発明において使用されるヘテロポリ酸触媒はほとんど
の@頬のへテロポリ酸が使用できるが。
の@頬のへテロポリ酸が使用できるが。
工業的に入手しやすい代表的なヘテロポリ酸である12
−タングストリン酸(H3PW12040)。
−タングストリン酸(H3PW12040)。
12−モリブドリン酸(83PMo120荀)、12−
モルブト珪酸(l(4SiMo12040)、12−タ
ングスト珪酸(H4SIWt204o)などが有利に使
用される。
モルブト珪酸(l(4SiMo12040)、12−タ
ングスト珪酸(H4SIWt204o)などが有利に使
用される。
ヘテロポリ酸の使用量としては溶媒の@頬あるいは反応
温度により任意に選択できるが、好ましくは原料トリフ
ェニルメタノール類に対して0.2〜5倍重量が好適で
ある。
温度により任意に選択できるが、好ましくは原料トリフ
ェニルメタノール類に対して0.2〜5倍重量が好適で
ある。
反応溶媒に用いられる有機溶媒としては、ジクロルエタ
ン、トリクロルエタン、アセトニトリル。
ン、トリクロルエタン、アセトニトリル。
酢酸、ジメチルスルホキシド等が工業的に有利に使用さ
れる。
れる。
反応温度は反応溶媒の種類あるいはへテロポリ酸触媒の
使用量により異なるが、0〜140℃の範囲で選ぶこと
ができる。好ましくは20〜120℃である。
使用量により異なるが、0〜140℃の範囲で選ぶこと
ができる。好ましくは20〜120℃である。
このようにして得られた反応液から目的物質のl−トリ
フェニルメチルイミダゾール類を取得する場合、たとえ
ばつぎの方法により得ることができる。
フェニルメチルイミダゾール類を取得する場合、たとえ
ばつぎの方法により得ることができる。
反応液を濾過して、触媒の大部分を回収する。
濾液を減圧下に留去して、残留物に水を加え、ついでク
ロロホlレムあるいはメチレンクロライドを加えて生成
物を抽出する。抽出液を濃縮することによって、粗1−
トリフェニルメチルイミダゾール類を得ることができる
。つぎにこのものを、たとえばアセトニトリルによる再
結晶、またはカラムクロマトグラフィーなどによって精
製すれば高純度の目的物質が得られる。
ロロホlレムあるいはメチレンクロライドを加えて生成
物を抽出する。抽出液を濃縮することによって、粗1−
トリフェニルメチルイミダゾール類を得ることができる
。つぎにこのものを、たとえばアセトニトリルによる再
結晶、またはカラムクロマトグラフィーなどによって精
製すれば高純度の目的物質が得られる。
以下に実施例を示す。
実施例1゜
トリクロルエタン40m1にO−クロロフェニルジフェ
ニルメタノール5.9g (0,02モル)、酢酸10
m1,12−モリブドリン酸10gを加える。
ニルメタノール5.9g (0,02モル)、酢酸10
m1,12−モリブドリン酸10gを加える。
ついで室温にてイミダゾール6.8g(0,1モル)を
加えたのち110℃で12時間反応させる。−反応終了
uk溶媒を減圧留去し、二塩化エタン50−1を伽え濾
過して触媒を回収する。有機層を水洗後。
加えたのち110℃で12時間反応させる。−反応終了
uk溶媒を減圧留去し、二塩化エタン50−1を伽え濾
過して触媒を回収する。有機層を水洗後。
高速液体クロマトグラフィーで1−〔0−クロロフェニ
ルジフェニルメチルコイミダゾールを確認した。このと
き1−(0−クロロフェニルジフェニルメチルコイミダ
ゾールの生成率は72.5%。
ルジフェニルメチルコイミダゾールを確認した。このと
き1−(0−クロロフェニルジフェニルメチルコイミダ
ゾールの生成率は72.5%。
生成収率は94%であった。
溶媒を減圧留去後、残査にエタノールを加えて晶析し3
.6g(収率52.2%)の1−〔0−クロロフェニル
ジフェニルメチル〕イミタソールが得られる。このもの
をエタノールで再結して融点142〜143℃(文献値
142〜145℃)の1−(0−クロロフェニルジフェ
ニルメチルコイミダゾールが得られる。
.6g(収率52.2%)の1−〔0−クロロフェニル
ジフェニルメチル〕イミタソールが得られる。このもの
をエタノールで再結して融点142〜143℃(文献値
142〜145℃)の1−(0−クロロフェニルジフェ
ニルメチルコイミダゾールが得られる。
元素分析値
CHN
計算値 76.63% 4.97% 8.12%
実測値 76.77% 5.08% 8.14%
高速液体クロマトグラフィーの測定条件カラム;ゾルパ
ックスCN−4,6鶴×25値移動相;酢酸バッファー
(pH4,8)500蒙1+メタノール4501+アセ
トニトリル2501移動相の流速11m1/分 検出方法;UV254nm 実施例2゜ トリクロルエタン100m1にトリフェニルメタノール
0.26 g (0,001モル)、ギ酸6m1.12
−タングストリン酸0.5gを加える。つぎにイミダゾ
ール0.21 g (0,003そル)を加えたのち1
10℃で10時間反応させる。
実測値 76.77% 5.08% 8.14%
高速液体クロマトグラフィーの測定条件カラム;ゾルパ
ックスCN−4,6鶴×25値移動相;酢酸バッファー
(pH4,8)500蒙1+メタノール4501+アセ
トニトリル2501移動相の流速11m1/分 検出方法;UV254nm 実施例2゜ トリクロルエタン100m1にトリフェニルメタノール
0.26 g (0,001モル)、ギ酸6m1.12
−タングストリン酸0.5gを加える。つぎにイミダゾ
ール0.21 g (0,003そル)を加えたのち1
10℃で10時間反応させる。
反応終了後溶媒を減狂留去し、二塩化エタン151を加
え濾過して触媒を除く、有機層を水洗し高速液体クロマ
トグラフィーにて1−トリフェニルメチルイミダゾール
を確認した。その生成収率を1−トリフェニルメチルイ
ミダゾールの標準品を用いた検量線より求めた。その結
果1−トリフェニルメチルイミダゾールの生成収率は9
5%であった。
え濾過して触媒を除く、有機層を水洗し高速液体クロマ
トグラフィーにて1−トリフェニルメチルイミダゾール
を確認した。その生成収率を1−トリフェニルメチルイ
ミダゾールの標準品を用いた検量線より求めた。その結
果1−トリフェニルメチルイミダゾールの生成収率は9
5%であった。
実施例3゜
トリクロルエタン100m1にトリフェニルメタノール
0.26g、 イミダゾール0.21g、12−タング
スト珪1i10.5gを加えたのち110℃で12時間
反応させる0反応後実施例2と同様に処理した結果1−
)リフェニルメチルイミダゾールの生成状−は93%で
あった。
0.26g、 イミダゾール0.21g、12−タング
スト珪1i10.5gを加えたのち110℃で12時間
反応させる0反応後実施例2と同様に処理した結果1−
)リフェニルメチルイミダゾールの生成状−は93%で
あった。
特許出願人(102)協和醗酵工業株式会社手続補正書
昭和57年12月73日
特許庁長官 殿
1、事件の表示
昭和57年特許願第80807号
2、発明の名称
N−置換イミダゾール類の製造法
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
郵便番号 100
住 所 東京都千代田区大手町−丁目6番1号名 称
(102)協和醗酵工業株式会社(置 : 03−
201−7211内綿2751)明細書の特許請求の範
囲および発明の詳細な説明の欄 (2) 明細書の下記の個所の 「1−非置換−イミダゾール類」を[1−無置換−イミ
ダゾール類」に訂正する。
(102)協和醗酵工業株式会社(置 : 03−
201−7211内綿2751)明細書の特許請求の範
囲および発明の詳細な説明の欄 (2) 明細書の下記の個所の 「1−非置換−イミダゾール類」を[1−無置換−イミ
ダゾール類」に訂正する。
第1頁 10〜11行目
第4頁 5〜6行目、13行目
(3)明細書第4頁下から3行目
「−モルブト珪酸」を「−モリブド珪酸」に訂正する。
(4) 明細書第7頁12行目、第8頁2行目[トリ
クロルエタン100 +mlJを[トリクロルエタン1
0m1Jに訂正する。
クロルエタン100 +mlJを[トリクロルエタン1
0m1Jに訂正する。
(5) 明細書第4頁13行目
「ギ酸6 mlJを「ギ酸11」に訂正する。
(6)明細書第4頁3行目
[ノール0.26g、イミダゾール0.21gJを[ノ
ール0.26g、酢酸]1.イミダゾール0.21gJ
に訂正する。
ール0.26g、酢酸]1.イミダゾール0.21gJ
に訂正する。
特許請求の範囲
トリフェニルメタノール類と1−無置換−イミダゾール
類をヘテロポリ酸触媒の存在下に反応させることを特徴
とする1−トリフェニルメチルイミダゾール類の製造法
。
類をヘテロポリ酸触媒の存在下に反応させることを特徴
とする1−トリフェニルメチルイミダゾール類の製造法
。
Claims (1)
- トリフェニルメタノール類と1−非置換−イミダゾール
類をヘテロポリ酸触媒の存在下に反応させることを特徴
とする1−トリフェニルメチルイミダゾール類の製造法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8080782A JPS58198471A (ja) | 1982-05-13 | 1982-05-13 | N−置換イミダゾ−ル類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8080782A JPS58198471A (ja) | 1982-05-13 | 1982-05-13 | N−置換イミダゾ−ル類の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58198471A true JPS58198471A (ja) | 1983-11-18 |
Family
ID=13728733
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8080782A Pending JPS58198471A (ja) | 1982-05-13 | 1982-05-13 | N−置換イミダゾ−ル類の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58198471A (ja) |
-
1982
- 1982-05-13 JP JP8080782A patent/JPS58198471A/ja active Pending
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