JPS58195840A - 線状光源装置 - Google Patents
線状光源装置Info
- Publication number
- JPS58195840A JPS58195840A JP57078164A JP7816482A JPS58195840A JP S58195840 A JPS58195840 A JP S58195840A JP 57078164 A JP57078164 A JP 57078164A JP 7816482 A JP7816482 A JP 7816482A JP S58195840 A JPS58195840 A JP S58195840A
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- JP
- Japan
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- elastic member
- gap
- arc
- light source
- arcuate
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/52—Details
- G03B27/54—Lamp housings; Illuminating means
- G03B27/542—Lamp housings; Illuminating means for copying cameras, reflex exposure lighting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光源からの紫外光を孤線状に形成せしめる線状
光源装置に関する。
光源装置に関する。
従来、ミラー反射型グロジエクシーンｆライナによりウ
ェハを露光するためには、露光光学系超高圧水銀灯光源
から発生した紫外線を孤線状とし、マスクに結儂せしめ
ると共に上記ウェハ上に紫外光線結儂させて行っていた
。この場合、ウェハ上に結儂される露光エネルギーが弧
線状光線の全長にわたって均一のものにならずパターン
の解儂度に影響を与えこの解決のため複雑な調整装置を
必要とするような問題点が生じていた。
ェハを露光するためには、露光光学系超高圧水銀灯光源
から発生した紫外線を孤線状とし、マスクに結儂せしめ
ると共に上記ウェハ上に紫外光線結儂させて行っていた
。この場合、ウェハ上に結儂される露光エネルギーが弧
線状光線の全長にわたって均一のものにならずパターン
の解儂度に影響を与えこの解決のため複雑な調整装置を
必要とするような問題点が生じていた。
すなわち、第１図において、超高圧水銀灯光源５から発
生した紫外光はコンデンサレンズ６を纏り、線状光線装
置１１のスリットプレート７に光＃Ｉ儂を投影結儂され
た後、レンズ８によ投影光学装置１０内のマスク４上に
投影結儂される。
生した紫外光はコンデンサレンズ６を纏り、線状光線装
置１１のスリットプレート７に光＃Ｉ儂を投影結儂され
た後、レンズ８によ投影光学装置１０内のマスク４上に
投影結儂される。
投影光学装置１０内では、第２図にも示す如くマスク４
上に結像された半径ｒＬＩの円弧線状光線（点線で示す
）の一点０上の光は、凹面鏡１で反射し、次に凸面鏡２
で反射し、更にもう１度凹面鏡１で反射した後、ウェハ
５上に１対１の倍率で結像する。同様にして、半径ｒｅ
の円弧線状光線（点線で示す）がウェハ３上に結像され
る。そして、ウェハ３の全面露光は、上記円弧−状光線
をウェハ３上に結像させると共に、マスク４およびウニ
・・３を示矢Ｘ、人に示す反対方向にスキャンさせて行
われる。
上に結像された半径ｒＬＩの円弧線状光線（点線で示す
）の一点０上の光は、凹面鏡１で反射し、次に凸面鏡２
で反射し、更にもう１度凹面鏡１で反射した後、ウェハ
５上に１対１の倍率で結像する。同様にして、半径ｒｅ
の円弧線状光線（点線で示す）がウェハ３上に結像され
る。そして、ウェハ３の全面露光は、上記円弧−状光線
をウェハ３上に結像させると共に、マスク４およびウニ
・・３を示矢Ｘ、人に示す反対方向にスキャンさせて行
われる。
第３図に示す如く、線状光線装置１１のスリットプレー
ト７のスリット９は一定幅Ｗの間隙を有する円弧線状に
形成されているため、ウエノ・３上に結像される紫外光
も一定幅Ｗの円弧線状光線が結像される。今、第４図に
示す如く、横軸にウェハ５の上記円弧−状光線長手寸法
をとり、縦軸に露光エネルギーＥをとると、露光エネル
ギーＥ＃ｉ均一とならず、バラツキ幅σを有すると共に
ウェハ３の長手方向の両端側で小さな値を示している。
ト７のスリット９は一定幅Ｗの間隙を有する円弧線状に
形成されているため、ウエノ・３上に結像される紫外光
も一定幅Ｗの円弧線状光線が結像される。今、第４図に
示す如く、横軸にウェハ５の上記円弧−状光線長手寸法
をとり、縦軸に露光エネルギーＥをとると、露光エネル
ギーＥ＃ｉ均一とならず、バラツキ幅σを有すると共に
ウェハ３の長手方向の両端側で小さな値を示している。
ここで、露光エネルギーＥは、ウェハ５上に照射された
紫外光の照度にウェハ３等をスキャンさせる時間を掛け
たものでスキャンする時間が一定とすれば、紫外光の照
度に比例する。
紫外光の照度にウェハ３等をスキャンさせる時間を掛け
たものでスキャンする時間が一定とすれば、紫外光の照
度に比例する。
上記の如く、円弧線状光線の長手方向に露光エネルギー
Ｅのバラツキが生ずると、ウェハ３のパターン解偉度に
影響を与える問題点が生ずることになる。
Ｅのバラツキが生ずると、ウェハ３のパターン解偉度に
影響を与える問題点が生ずることになる。
このように、露光エネルギーＥが均一にならないのは、
従来使用されている超高圧水銀灯光源５のランプが円孤
状をしだロングアーク型から形成され、この両端電極部
付近の照度が不足であることと、上記スリットプレート
７のスリット輪９が一定であること等に起因する。
従来使用されている超高圧水銀灯光源５のランプが円孤
状をしだロングアーク型から形成され、この両端電極部
付近の照度が不足であることと、上記スリットプレート
７のスリット輪９が一定であること等に起因する。
そこで、従来では、超高圧水銀灯光源５を、直線移動お
よび回動自在な位置調整装置に係合せしめ、上記光源５
の位置を調整して照度分布をある範囲内に収めるような
調整手段を採用していた。しかしながら、この方法では
照度調整に時間を要し、作業効率が低下するのみならず
操作に熟練を必要とする等の欠点が有った。
よび回動自在な位置調整装置に係合せしめ、上記光源５
の位置を調整して照度分布をある範囲内に収めるような
調整手段を採用していた。しかしながら、この方法では
照度調整に時間を要し、作業効率が低下するのみならず
操作に熟練を必要とする等の欠点が有った。
本発明は上記の欠点等を解決すべく創案されたものであ
り、その目的は、露光エネルギーのバラツキをなくシ、
良好な解儂度を得るようにすると共に１調整が容易で作
業効率が向上できかつ、製品の歩留夛が向上し得る簡便
な線状光線装置を提供することＫある。
り、その目的は、露光エネルギーのバラツキをなくシ、
良好な解儂度を得るようにすると共に１調整が容易で作
業効率が向上できかつ、製品の歩留夛が向上し得る簡便
な線状光線装置を提供することＫある。
本発明は上記の目的を達成するために、雄型弧状部を形
成する第１の弾性部材と雌型孤状部を形成する第２の弾
性部材とを間隙を距てて相対向して設け、孤線状のスリ
ット空間を形成すると共に、上記弾性部材の弧状部に上
記スリット空間の広がる方向に延出する切込みを多数列
適宜の間隔で上ｄピ孤状部の孤に清って形成せしめ、多
数の舌状部を形成し、かつ、上記弾性部材には、上記切
込み方向に往復動し得る多数個の押圧手段を係合せしめ
、これを往復動じて上記スリット空間の間隙を微細に変
化せしめ、このスリット空間を通過する紫外光線を加減
せしめてウェハ上の露光エネルギーを均一にせしめるよ
うにした線状光線装置を特徴としたものである。
成する第１の弾性部材と雌型孤状部を形成する第２の弾
性部材とを間隙を距てて相対向して設け、孤線状のスリ
ット空間を形成すると共に、上記弾性部材の弧状部に上
記スリット空間の広がる方向に延出する切込みを多数列
適宜の間隔で上ｄピ孤状部の孤に清って形成せしめ、多
数の舌状部を形成し、かつ、上記弾性部材には、上記切
込み方向に往復動し得る多数個の押圧手段を係合せしめ
、これを往復動じて上記スリット空間の間隙を微細に変
化せしめ、このスリット空間を通過する紫外光線を加減
せしめてウェハ上の露光エネルギーを均一にせしめるよ
うにした線状光線装置を特徴としたものである。
以下、本発明の一実施例を図に基づき説明する。
まず、実施例の線状光線装置１１の概要、を第５図によ
り説明する。基台１８上には第１の弾性部材１７と第２
の弾性部材１３とが設けられている。
り説明する。基台１８上には第１の弾性部材１７と第２
の弾性部材１３とが設けられている。
本実施例では＄１の弾性部材１７は固定型としているの
で必ずしも弾性体で形成されたものでなくともよい。第
１の弾性部材１７と第２の弾性部材１５との間には間隙
Ｗの孤線状のスリット空間２０が形成されている。又、
第２の弾性部材１５には、多数の切込２１が形成され、
多数の舌状部１２が形成されている。又、基台１８には
多数個の抑圧手段２２が取付けられ、各抑圧手段２２は
第２の弾性部材１５に係合している。以上の構成から、
押圧手段２２を往復動すると、その抑圧手段２２が作用
する位置およびその近傍の上記舌状部が往復動するため
、スリット空間２゜の間隙Ｗが部分的かつ円滑に変化す
る。以上により、スリット空間２０の長手方向の全幅に
わ九り、その間ｖｊＷを任意に、かつ微細に変化させる
ことができ、ここを通過する紫外光線を増減することが
できる。
で必ずしも弾性体で形成されたものでなくともよい。第
１の弾性部材１７と第２の弾性部材１５との間には間隙
Ｗの孤線状のスリット空間２０が形成されている。又、
第２の弾性部材１５には、多数の切込２１が形成され、
多数の舌状部１２が形成されている。又、基台１８には
多数個の抑圧手段２２が取付けられ、各抑圧手段２２は
第２の弾性部材１５に係合している。以上の構成から、
押圧手段２２を往復動すると、その抑圧手段２２が作用
する位置およびその近傍の上記舌状部が往復動するため
、スリット空間２゜の間隙Ｗが部分的かつ円滑に変化す
る。以上により、スリット空間２０の長手方向の全幅に
わ九り、その間ｖｊＷを任意に、かつ微細に変化させる
ことができ、ここを通過する紫外光線を増減することが
できる。
以下、更に峰しく、実施例を説明する。
第５図および第６図に示す如く、基台１８Ｆ′！平板状
に形成され、その中央部近傍には紫外光線を通過させる
所定の間隙■゛より大きな幅を形成する長孔１８−が貫
通形成される。基台１８には第１の弾性部材１７が上記
長孔１８−の測長辺側を覆って載置される。第１の弾性
部材１７は本実施例では平板状に形成され、基台１８上
に固定される。
に形成され、その中央部近傍には紫外光線を通過させる
所定の間隙■゛より大きな幅を形成する長孔１８−が貫
通形成される。基台１８には第１の弾性部材１７が上記
長孔１８−の測長辺側を覆って載置される。第１の弾性
部材１７は本実施例では平板状に形成され、基台１８上
に固定される。
又、第１の弾性部材１７の一端一には雄型弧状部１７ｍ
が形成され、上記の如く上記基台１８の長孔１８１１の
測長辺側を覆っている。
が形成され、上記の如く上記基台１８の長孔１８１１の
測長辺側を覆っている。
次に、第２の弾性部材１３はＬ形状の弾性体から形成さ
れ、Ｌ形状の一辺側は、基台１８上に設けられ、基台１
８の長孔１８−の他の長辺側を覆っている。この−辺側
端には上記雄型弧状部１７−とほぼ同一半径の雌型弧状
部１５１１が形成される。
れ、Ｌ形状の一辺側は、基台１８上に設けられ、基台１
８の長孔１８−の他の長辺側を覆っている。この−辺側
端には上記雄型弧状部１７−とほぼ同一半径の雌型弧状
部１５１１が形成される。
この雌型弧状部Ｌ５ｇは雄型弧状部１７−に対して関＠
Ｗを距てて設けられている。従って第１の弾性部材１７
と第２の弾性部材１５との間には、間隙Ｗを有する円弧
線状のスリット空間２ｏが形成されることになる。
Ｗを距てて設けられている。従って第１の弾性部材１７
と第２の弾性部材１５との間には、間隙Ｗを有する円弧
線状のスリット空間２ｏが形成されることになる。
又、第２の弾性部材１５の上記−辺側には上記スリット
空間２０の間隙の広がる方向に延出する切込み２１が多
数形成される。この切込み２１は雌個孤状部１５−の弧
に沿って、適宜の間隔に形成されるため、Ｉｓ型型状状
部１５ｍは、相互に隣接する多数の舌状部１２が形成さ
れることになる。
空間２０の間隙の広がる方向に延出する切込み２１が多
数形成される。この切込み２１は雌個孤状部１５−の弧
に沿って、適宜の間隔に形成されるため、Ｉｓ型型状状
部１５ｍは、相互に隣接する多数の舌状部１２が形成さ
れることになる。
なお、第７図および第８図に示す如く、実際に上記舌状
部１２を作成するには、まず、第７図の如く、第２の雌
伏部材１５の一辺側に上記の如く切込み２１を入れ、次
に、第８図に示す如く全体を弧状に”λ形することによ
って行う。従って、切込み２１の切込み−によ・ては干
渉し合う場合も生ずるので、相互に重合せしめて、干渉
を防止するようにする。
部１２を作成するには、まず、第７図の如く、第２の雌
伏部材１５の一辺側に上記の如く切込み２１を入れ、次
に、第８図に示す如く全体を弧状に”λ形することによ
って行う。従って、切込み２１の切込み−によ・ては干
渉し合う場合も生ずるので、相互に重合せしめて、干渉
を防止するようにする。
次に１第２の弾性部材１５の他辺側には、その長手方向
に沿って複数個の押圧手段２２が係合している。すなわ
ち、抑圧手段２２ｔｆ、駆動部１６と、駆動部１６に連
結し、駆動部１６によって往復動されるネジ部１５と、
ネジ部１５の先端側に設けられたピン部１４とから構成
され、ピン部１４の先端部は第２の弾性部材１５の一辺
側にそれぞね枢着されている。なお、ネジ部１５は基台
１８上に載Ｊされた支持台２３と螺合し、かつ支持され
ている。
に沿って複数個の押圧手段２２が係合している。すなわ
ち、抑圧手段２２ｔｆ、駆動部１６と、駆動部１６に連
結し、駆動部１６によって往復動されるネジ部１５と、
ネジ部１５の先端側に設けられたピン部１４とから構成
され、ピン部１４の先端部は第２の弾性部材１５の一辺
側にそれぞね枢着されている。なお、ネジ部１５は基台
１８上に載Ｊされた支持台２３と螺合し、かつ支持され
ている。
次に、本実施例の作用を説明する。
上記の如く、紫外光はスリット空間２ｏの間隙Ｗを通過
しマスク４に結像される。この通過後の紫外光の４光エ
ネルギーを弧線状光線長手方向にわたりマスク４面上で
測定する。この測定結果に基づき、この測定値に対応す
る長手方向の位置近傍にちる抑圧手段２２の駆動部１６
を所定方向に駆動する。これにょシ、ネジ部１５か新装
方向に移動し、ピン部１４により第２の弾性部材１３を
移動せしめる。第２の弾性部材１５Ｆｉ弾性体で形成さ
れ、かつ、舌状部１２を形成しているので、抑圧手段２
２によって押圧された箇所近傍のみが主に変化する。こ
れにょクスリット空間２０、）関１！ＪＷは変化する。
しマスク４に結像される。この通過後の紫外光の４光エ
ネルギーを弧線状光線長手方向にわたりマスク４面上で
測定する。この測定結果に基づき、この測定値に対応す
る長手方向の位置近傍にちる抑圧手段２２の駆動部１６
を所定方向に駆動する。これにょシ、ネジ部１５か新装
方向に移動し、ピン部１４により第２の弾性部材１３を
移動せしめる。第２の弾性部材１５Ｆｉ弾性体で形成さ
れ、かつ、舌状部１２を形成しているので、抑圧手段２
２によって押圧された箇所近傍のみが主に変化する。こ
れにょクスリット空間２０、）関１！ＪＷは変化する。
以上により、複数個所のスリット空間２０の間隙Ｗを任
意に変化させることができ、露光エネルギーを均一に保
持することが可能となる。又、第２の弾性部材１３は上
記の如く、多数個の舌状部を形成しているが、全体とし
て一体状に連続しているものであり、かつ、上記のごと
く弾性体で形成するため、間隙Ｗは長手方向の全域にわ
た多連続的かつ円滑に調整することができる。上記の如
くして、スリット空間２０の両端側の間隙Ｗ１を中央の
間隙Ｗｔに較べて、広くとることができ、これにより上
記した超高圧水銀灯光源５の両端側の照度不足は解消さ
れ、上記した如く、複雑な位置調整装置等が不要となる
。
意に変化させることができ、露光エネルギーを均一に保
持することが可能となる。又、第２の弾性部材１３は上
記の如く、多数個の舌状部を形成しているが、全体とし
て一体状に連続しているものであり、かつ、上記のごと
く弾性体で形成するため、間隙Ｗは長手方向の全域にわ
た多連続的かつ円滑に調整することができる。上記の如
くして、スリット空間２０の両端側の間隙Ｗ１を中央の
間隙Ｗｔに較べて、広くとることができ、これにより上
記した超高圧水銀灯光源５の両端側の照度不足は解消さ
れ、上記した如く、複雑な位置調整装置等が不要となる
。
なお、関＠Ｗを広げることＫより、非点収差が生じ、解
傷度が低下する恐れが生ずる。
傷度が低下する恐れが生ずる。
しかし、露光エネルギーの変動率は±１０％程度であり
、これを均一にするための間ＦｊＷｘに対する間隙ＷＩ
のｔ化率は数饅以下のため、上記の非点収差の問題につ
いては無視することができる。
、これを均一にするための間ＦｊＷｘに対する間隙ＷＩ
のｔ化率は数饅以下のため、上記の非点収差の問題につ
いては無視することができる。
本実施例によると、露光エネルギーの変化率は±２ない
し３チ以下となシ、従来に較ぺて大幅に改善されたこと
が実証された。
し３チ以下となシ、従来に較ぺて大幅に改善されたこと
が実証された。
上記の実施例において、第１の弾性部材１７を固定型と
しだが、これを第２の弾性部材１３の如きものとし、第
１および第２の弾性部材１７１５によって間隙Ｗを微調
整するものであってもよい。又、第２の弾性部材１３を
一体型のＩＪ状とし九が、舌状部１２を形成した板状部
材とこれにＬ形状に係合したバネ部材とを組合せたもの
アありてもよい。又、第１および第２の弾性部材をすべ
て平板状のバネ部材とし、これに舌状部を形成せし９て
、曲率方向に変化させるようにしたものであっても購わ
ない。
しだが、これを第２の弾性部材１３の如きものとし、第
１および第２の弾性部材１７１５によって間隙Ｗを微調
整するものであってもよい。又、第２の弾性部材１３を
一体型のＩＪ状とし九が、舌状部１２を形成した板状部
材とこれにＬ形状に係合したバネ部材とを組合せたもの
アありてもよい。又、第１および第２の弾性部材をすべ
て平板状のバネ部材とし、これに舌状部を形成せし９て
、曲率方向に変化させるようにしたものであっても購わ
ない。
又、抑圧手段２２についても、上記に勿論限定しない。
以上の説明によって明らかの如く、本発明によれば、露
光エネルギーを均一圧することができると共に、作業効
率の向上と、製品歩留の向上ができる効果が上げられる
。
光エネルギーを均一圧することができると共に、作業効
率の向上と、製品歩留の向上ができる効果が上げられる
。
第１図は従来のンラー反射型グロジェクションアライナ
の露光光学系を説明する説明図、第２図はその投影光学
系を説明する斜視図、第３図はスリット形状を示す平面
図、第４図はスリ、 ット長手方向における露光エネ
ルギーの分布を示す線図、第５図は本発明一実施例の構
成を示す斜視図、第６図は第５図のＶ＋−Ｖｔ線矢視の
断面図、８７図および第６図は実施例の主要部の弾性部
材を説明する斜視図である。 ３川ウエハ ４・・マスク ５・・超高圧水銀灯光線 １１・・・線状光練製−１２
・・・舌状部 １５・・・第２の弾性部材１
４・・・ビン、１ｆｌ１１５中ネジ部１６・・・駆動部
１７・・・第１の弾性部材１８・・Ａ 台
２０・・・スリット空間２１・・・切込み
２２・・・抑圧手段２３・・・支持台 第３巴 ９ 第４口
の露光光学系を説明する説明図、第２図はその投影光学
系を説明する斜視図、第３図はスリット形状を示す平面
図、第４図はスリ、 ット長手方向における露光エネ
ルギーの分布を示す線図、第５図は本発明一実施例の構
成を示す斜視図、第６図は第５図のＶ＋−Ｖｔ線矢視の
断面図、８７図および第６図は実施例の主要部の弾性部
材を説明する斜視図である。 ３川ウエハ ４・・マスク ５・・超高圧水銀灯光線 １１・・・線状光練製−１２
・・・舌状部 １５・・・第２の弾性部材１
４・・・ビン、１ｆｌ１１５中ネジ部１６・・・駆動部
１７・・・第１の弾性部材１８・・Ａ 台
２０・・・スリット空間２１・・・切込み
２２・・・抑圧手段２３・・・支持台 第３巴 ９ 第４口
Claims (1)
- ウェハを露光するためにマスク上に光源からの紫外光を
弧線状にして結儂させるための線状□光源装置において
、雄型弧状部を形成する第１の弾性部材と、該第１の弾
性部材の上記雄型弧状部を覆う雌型弧状部を形成する第
２の弾性部材とを設け、上記第１および第２の弾性部材
の上記雄型弧状部と雌型弧状部とを間隙を距てて相対向
せしめ、孤線状スリット空間を形成し、上記弾性部材の
上記弧状部を形成する側には、上記間隙の広がる方向に
延出する切込みを上記弧状部の弧に沿って多数列形成せ
しめ、上記弾性部材の弧状部に各個の舌状部を形成する
と共に、上記弾性部材の他側には、上記切込み方向に往
復動じ得る抑圧手段を多数個係合せしめ、該押圧手段を
往復動せしめて、上記孤線状のスリット空間の間隙を変
化せしめるように構成したことを特徴とする線状光源装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57078164A JPS58195840A (ja) | 1982-05-12 | 1982-05-12 | 線状光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57078164A JPS58195840A (ja) | 1982-05-12 | 1982-05-12 | 線状光源装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58195840A true JPS58195840A (ja) | 1983-11-15 |
| JPH058413B2 JPH058413B2 (ja) | 1993-02-02 |
Family
ID=13654284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57078164A Granted JPS58195840A (ja) | 1982-05-12 | 1982-05-12 | 線状光源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58195840A (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50114227U (ja) * | 1974-02-28 | 1975-09-18 | ||
| JPS5268411A (en) * | 1975-12-04 | 1977-06-07 | Jiyuntarou Suzuki | Method of improving uniform exposure and image quality in scan copying machine |
| JPS54123877A (en) * | 1978-03-18 | 1979-09-26 | Canon Inc | Baking unit |
| JPS5581337A (en) * | 1978-12-15 | 1980-06-19 | Ricoh Co Ltd | Lighting device for exposure in slit exposure type copying machine |
| JPS57182728A (en) * | 1981-05-01 | 1982-11-10 | Perkin Elmer Corp | Apparatus for controlling transmission of light to image duplicating member from light source |
-
1982
- 1982-05-12 JP JP57078164A patent/JPS58195840A/ja active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS50114227U (ja) * | 1974-02-28 | 1975-09-18 | ||
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH058413B2 (ja) | 1993-02-02 |
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