JPS5818971A - 光起電力装置 - Google Patents

光起電力装置

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Publication number
JPS5818971A
JPS5818971A JP56117164A JP11716481A JPS5818971A JP S5818971 A JPS5818971 A JP S5818971A JP 56117164 A JP56117164 A JP 56117164A JP 11716481 A JP11716481 A JP 11716481A JP S5818971 A JPS5818971 A JP S5818971A
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JP
Japan
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layer
elements
photovoltaic device
substrate
insulating
Prior art date
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Pending
Application number
JP56117164A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Uda
宇田 宏
Hitoshi Matsumoto
仁 松本
Nobuo Nakayama
中山 信男
Akihiko Nakano
明彦 中野
Seiji Ikegami
池上 清治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
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Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Priority to JP56117164A priority Critical patent/JPS5818971A/ja
Publication of JPS5818971A publication Critical patent/JPS5818971A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
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  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光起電力装置に関し、製造工程で生じる不良の
減少とこれら装置の外観の向上を目的とするものである
半導体材料を用いた光起電力素子の光電圧、光電流は小
さいので、民生用電子機器を駆動させるためには、これ
らの素子を複数個直列、並列に接続した光起電力装置が
必要となる。これまで、この目的のために用いられてき
た光起電力装置の断面構造を第1図に示す。図において
、In2o3やS n 02膜のような透明電極1を所
望のパターンに形成したガラスなどの透明基板2上に、
蒸着法や気相成長法々どの薄膜形成技術でn形半導体3
を素子相互を分離したパターンで形成し、その上に同じ
く素子相互を分離したパターンでp形半導体4を作成し
、複数個の独立したpn接合素子を作成する。この複数
個の素子を直列に接続するためp形半導体とオーミック
接触をする金属材料6をp形半導体4とも触λてはなら
ない。これはpn接合が短絡するのを防ぐために必要な
条件であシ、第1図の構造のごとく透明電極に近い素子
構成物質をその上部に形成する物質で素子構成上必要な
部分を覆うような構造で順次形成してゆく必要がある。
まだ、透明電極の代りに電極兼窓材料として働く半導体
材料を用いた場合にも同様である。
この様な構造の光起電力装置では、各素子を構成iT6
薄膜層の数が多くなればなるほど、上部に形覚′Vる薄
膜層のガラス基板までの距離が長くなシ、幽、細の端面
や側面が上部の面に比べて薄く形成されたり、ピンホー
ルが生じゃすくなる場合が多く、素子の短絡がよく起る
欠点があった。一方、この積層部のガラス面と接してい
るところを光入射側であるガラス面側よりみると、各素
子間に3種類の異なった物質層のあることが□各層の色
が異なることよりよくわかる場合が多い。また積層であ
るため外側の薄膜層になるにしたがってその端面のダレ
とかニジミの現象が現われやすくなシ、外観上の美観が
失なわれることもある。上述の各層の色が異なるため、
色彩上問題となることもあるが、どれは素子構成材料と
その層の厚みで決まるため改善することは難しいという
欠点もあった。
また、この様な欠点は各層の膜厚が厚くなる場合に顕著
となる。したがって、スクリーン印刷法のような厚膜形
成法により製造する場合に特に問題となっていた。
本発明は、この様な欠点を改善することができる光起電
力装置を提供するものであり、本発明は各pn接合素子
間に、この素子の基板面側の第1の層と略等しい゛膜厚
を有する絶縁層を設け、この絶縁層上に前記素子の他の
層および電極層を設けることを特徴とするものである。
以下に本発明を図面を用いて具体的に説明する。
第2図は本発明による光起電力装置の構造を示す断面図
である。図において、ガラス基板6上に透明電極層ある
いは電極兼窓材として働く半導体層7が帯状のパターン
で形成されている。この帯状のパターンの間に絶縁材料
を用、いパターン間を埋めるように絶縁層8を形成する
。絶縁層8の厚み郷l極層7とほぼ同じぐらいがよい。
この上に前駅トた従来例と同様の方法でn形半導体層9
.p噴峯導体層1oを形成してpn接合をつくる。素子
相互を直列に接続するため金属電極層11を形成し光起
電力装置を製造する。以上のように光起電力装置製造時
に絶縁体層8を形成すると七により、素子構成物質の積
層部分の端面や側面が1層分減少したことになる。この
ことにより、例えばn形半導体層9の端面を覆うように
形成するp形半導体層1oは、これまでのn形半導体層
の側面部分を覆う面積が絶縁層の厚みの部分だけ減少す
るため端面や側面部分でこれまで膜形成時に生じていた
ピンホーンや膜が薄くなる現象が減り、素子の短絡現象
が生じにくくなった。また、光入射側であるガラス面側
からこの光起電力装置を見ると電極層7と絶縁層8が見
える!とけである。また” 3:i’ilできる。なお
、絶縁層は絶縁体であればどんな材料でもよく色々な色
彩のものを選ぶことができ、色彩上の欠点も改善するこ
とができる。
以下に本発明の一実施例を説明する。
コーニング社製7o69ガラス基板上にスクリーン印刷
法でCdS粉末に10wtチのCdCt2粉末を添加し
たCdSペーストを用いて、帯状のパターンにてCdS
層を形成する。これをアルミナ製の焼成容器に入れベル
ト式焼成炉にて焼成温度690℃で約1時間焼成する。
このCdS膜の膜厚は20〜30μm5面抵抗が60〜
200Ω/口でn形の半導体である。次に、この帯状の
CdS膜の間を埋める様なパターンあるいはCdS膜で
被覆されていな2(基板全面を絶縁体用印刷ペーストを
用いて印1JiiQJl布する。このペーストの主成分
は、硼珪酸鉛:11スであり、120℃で約20分間乾
燥した後、葺2ν0℃の焼成温度にて6分間焼成する。
この様にして得られた絶縁体層の膜厚は20〜26μm
であり黒色を呈していた。、しかし1、色に関しては乳
白色、赤、青、緑、黒と調節することができる。
また、膜厚も印刷ペーストの粘度調整により容易にコン
トロールすることができる。この様にして得られたCd
S層上および絶縁層上にスクリーン印刷法で帯状のCd
Te層をCdS 層から電極を取り出せるように一部を
残して絶縁層の一部を覆うように印刷する。このCdT
e印刷ペーストにはCaCl2が゛0.5wtチ添加さ
れておシ、上述のCdS層の焼成1と同様の方法を用い
て焼成する。この場合、焼成温度680℃で6〜20分
間焼成す層上にカーボンペーストを所定の帯状パターン
にて印刷し、焼付は温度260℃で約20分間熱処理を
“行い、カーボン電極層を形成する。このカーボン電極
とCdS層を接続するために、20 wt%のIn粉末
を添加したAqペーストを用いて素子相互を直列接続す
る。このIn添加Aq電極はCdS層とのオーミック電
極を形成するため、印刷。
乾燥後200℃で約20分間熱処理をした。
この様な方法で、受光面積1 、2611(7) Cd
S/CdT e光起電力素子を8個直列に接続した光起
電力装置を製造した。この装置の出力特性は、400ル
ツクスの白色螢光打丁で開放端電圧3.6〜4.OV。
短絡電流26〜36μA、最大出力50〜7oμWであ
った。
以上説明したように、本発明では絶縁体層を形来法で製
造した場合に生じていた素子の短絡現象が無くなシ製造
歩留が向上した。
また、スクリーン印刷時に生じていた印刷端面のダレや
ニジミもこの絶縁層で覆われガラス面側からは見えなく
なり商品としての外観も改善することができた。
【図面の簡単な説明】
第1図は、従来の光起電力装置の構造を示す断面図、第
2図は、本発明の光起電力装置の一例の構造を示す断面
図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 少くとも2種類の半導体層を有する複数の層を積層して
    なるpn接合素子を基板上に複数個設け、の層および電
    極層を設けてなることを特徴とする光起電力装置。
JP56117164A 1981-07-28 1981-07-28 光起電力装置 Pending JPS5818971A (ja)

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JP56117164A JPS5818971A (ja) 1981-07-28 1981-07-28 光起電力装置

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ID=14705030

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