JPS58180262A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
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- JPS58180262A JPS58180262A JP57063604A JP6360482A JPS58180262A JP S58180262 A JPS58180262 A JP S58180262A JP 57063604 A JP57063604 A JP 57063604A JP 6360482 A JP6360482 A JP 6360482A JP S58180262 A JPS58180262 A JP S58180262A
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- B05D3/04—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases
- B05D3/0406—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases the gas being air
- B05D3/042—Directing or stopping the fluid to be coated with air
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- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
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- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
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- B05D1/28—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by transfer from the surfaces of elements carrying the liquid or other fluent material, e.g. brushes, pads, rollers
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/50—Multilayers
- B05D7/52—Two layers
-
- G—PHYSICS
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- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
- G03C2001/7411—Beads or bead coating
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は移送されている長尺可撓性支持体（以下「ウェ
ブ」という）に液状塗布組成物を塗布するための方法に
関する。
ブ」という）に液状塗布組成物を塗布するための方法に
関する。
液状塗布組成物（以下「塗布液」という）をウェブに塗
布するための方法として広く利用されて層スライドビー
ド自重装置を用いる方法がある。
布するための方法として広く利用されて層スライドビー
ド自重装置を用いる方法がある。
この方法は複数の傾斜面（スライド面）を流れ下る塗布
液を、それが移送されているウェブと出会う点にビード
を形成させるようにし、このビードを介して塗布を行な
うものである。従ってこの種の装置においてはビードな
安定に維持することが、塗布を成功させるために必要で
ある。しかし、塗布適度が大となるに質って、安定など
−ドの維持は１難になる傾向がある。
液を、それが移送されているウェブと出会う点にビード
を形成させるようにし、このビードを介して塗布を行な
うものである。従ってこの種の装置においてはビードな
安定に維持することが、塗布を成功させるために必要で
ある。しかし、塗布適度が大となるに質って、安定など
−ドの維持は１難になる傾向がある。
塗布液、とくに低ｉ塗布液を高速、かつ薄層に塗布する
ことができ、しかも膜質の良好な塗膜を得ることができ
る塗布装置として、本発明の発明口 者らは、「一種以上の塗１６液を、各塗布液吐出液より
グイ表面に吐出し、該表面に沿って流出させた後、塗布
液の流れに対して実質的１：喬直な方向に移送される支
持体の表面に塗布する装置１；おいて、少なくとも前記
支持体表面Ｃ：第１の塗膜層を形成するべき第１鎗布諌
のグイ表面上の流出面の全域を、前記支持体表面に向っ
て水平に延びた平面で形成したことを特徴とする塗布装
置」を提案し、本発明は既に特開′＠３４−／１１０４
７号公報として開示されている。
ことができ、しかも膜質の良好な塗膜を得ることができ
る塗布装置として、本発明の発明口 者らは、「一種以上の塗１６液を、各塗布液吐出液より
グイ表面に吐出し、該表面に沿って流出させた後、塗布
液の流れに対して実質的１：喬直な方向に移送される支
持体の表面に塗布する装置１；おいて、少なくとも前記
支持体表面Ｃ：第１の塗膜層を形成するべき第１鎗布諌
のグイ表面上の流出面の全域を、前記支持体表面に向っ
て水平に延びた平面で形成したことを特徴とする塗布装
置」を提案し、本発明は既に特開′＠３４−／１１０４
７号公報として開示されている。
一方米国特許第コ、６１’ｒコデ蓼号（＝４ま、ビード
の下面側を減圧状１ｉｔ＝する手段を設けて、ビードの
上下表面に圧力差な生じさせること１二よ１〕、ビード
を安定化するという技術が開示されてし為る。
の下面側を減圧状１ｉｔ＝する手段を設けて、ビードの
上下表面に圧力差な生じさせること１二よ１〕、ビード
を安定化するという技術が開示されてし為る。
又、特Ｉ＠昭ｊλ−４ｃ７０Ｊり号公報では［対向ロー
ルに巻き送りされて下向きに走行する被塗布材料と注液
器との間隙に一定量の塗布液を供給してくさび形の塗布
液溜りを形成させ、かつ前記被塗布材料の全巾ｄ：皿っ
て、前記注液器の下側（＝隣接して設けた空気加圧室よ
り送られる空気圧な前記液溜りの下側４＝加えながら塗
布することを特徴とする塗布方法。」が開示されて（す
る。
ルに巻き送りされて下向きに走行する被塗布材料と注液
器との間隙に一定量の塗布液を供給してくさび形の塗布
液溜りを形成させ、かつ前記被塗布材料の全巾ｄ：皿っ
て、前記注液器の下側（＝隣接して設けた空気加圧室よ
り送られる空気圧な前記液溜りの下側４＝加えながら塗
布することを特徴とする塗布方法。」が開示されて（す
る。
しカルながらこれらいずれの従来の方法また６！装置を
用いても特に有機溶剤系の塗布液の如き、低粘度で濡れ
の良い塗布液を塗布する場合１″−は、ビード液が塗布
装置先端から落ちる現象が生じ不都合であった。本明細
書におし１て、一般的に「低粘度」と云う表喝を用いる
ときは、１０ｃｐ９下の粘度を云い、特に本発明の適用
対象となる［低粘度で濶れの良い」と云う表現を用いる
ときは粘度λｃｐ以下・表面張力λｊｄｙｎｅ／ｃｍ以
下の物性を云うものとする。又、有機溶剤とはアセトン
、メタノール、エタノール、塩化メチル、ブタノール、
メチルクリコール、メチルエテルケトン、エチルセロソ
ルブ及びこれらと水との組合せ又はこれらの７部の組み
合わせ等写真材料、記録材料に用いる溶剤塗布液を云う
。
用いても特に有機溶剤系の塗布液の如き、低粘度で濡れ
の良い塗布液を塗布する場合１″−は、ビード液が塗布
装置先端から落ちる現象が生じ不都合であった。本明細
書におし１て、一般的に「低粘度」と云う表喝を用いる
ときは、１０ｃｐ９下の粘度を云い、特に本発明の適用
対象となる［低粘度で濶れの良い」と云う表現を用いる
ときは粘度λｃｐ以下・表面張力λｊｄｙｎｅ／ｃｍ以
下の物性を云うものとする。又、有機溶剤とはアセトン
、メタノール、エタノール、塩化メチル、ブタノール、
メチルクリコール、メチルエテルケトン、エチルセロソ
ルブ及びこれらと水との組合せ又はこれらの７部の組み
合わせ等写真材料、記録材料に用いる溶剤塗布液を云う
。
本発明の目的は例えば有機溶剤の如き、低粘度で濡れの
良い塗布液をウェブに塗布する際に発生するビードの落
下現象を防止することである。
良い塗布液をウェブに塗布する際に発生するビードの落
下現象を防止することである。
本発明の他の目的は、例えば有機溶剤の如き、低粘度で
濡れの良い塗布液をウェブに塗布する際、高速で薄層の
塗布を可能にすることである。
濡れの良い塗布液をウェブに塗布する際、高速で薄層の
塗布を可能にすることである。
本発明のかかる目的は、スライドビード塗布方法におい
て、ビードの下面側から上面側に向けてウェブを走行せ
しめ、ビードの下面側を加圧状態にする手段を設けて、
ビードの上下表面（二圧力差を生じさせることにより、
ビードを安定化させることにより達成される。
て、ビードの下面側から上面側に向けてウェブを走行せ
しめ、ビードの下面側を加圧状態にする手段を設けて、
ビードの上下表面（二圧力差を生じさせることにより、
ビードを安定化させることにより達成される。
以下に、添付図に従って従来技術と比較対照しつつ本発
明の内容な艷（＝詳しく説明する。
明の内容な艷（＝詳しく説明する。
本発明の発明者らによる先願の発明に係る波布装置を示
す第１図において、ｌはウェブ、コは矢印Ａの方向に回
転するパツキングロールで、支持体／はこれにより、矢
印Ａ′の方向に進行する。
す第１図において、ｌはウェブ、コは矢印Ａの方向に回
転するパツキングロールで、支持体／はこれにより、矢
印Ａ′の方向に進行する。
３・参は水平面を有するダイブロック、ｊは最終グイブ
ロック、６はウェブｌの表向礪＝第１の塗膜層デを形成
する第１ｔ１！！布液、７は第コ＊＊＠１０を形成する
第一塗布液である。第１ｔ！布液４と第１塗布液７とは
ダイブロック３の水平面上で、積層流となり表向ら力の
作用によりダイブロックの先端に至り、ウェブｌとの間
にビードｔを形成する。ウェブｌの移動に伴ない、積層
された塗布液は数十倍以上の引き伸ばし本をもってウェ
ブｌの表面に塗布され、塗膜−・１０を形成する。
ロック、６はウェブｌの表向礪＝第１の塗膜層デを形成
する第１ｔ１！！布液、７は第コ＊＊＠１０を形成する
第一塗布液である。第１ｔ！布液４と第１塗布液７とは
ダイブロック３の水平面上で、積層流となり表向ら力の
作用によりダイブロックの先端に至り、ウェブｌとの間
にビードｔを形成する。ウェブｌの移動に伴ない、積層
された塗布液は数十倍以上の引き伸ばし本をもってウェ
ブｌの表面に塗布され、塗膜−・１０を形成する。
第１図に示す従来の塗布装置（＝よれば、塗布液が水平
面上を表面侭力の作用にのみ依存して自由１−流れるよ
う１ニなっているので、ビード形成前ミ；液鎖厚が増大
し、またビード部に螺慝な力がかからず、例えば／ ０
（ｐ以下の低粘度液を高速かつ薄■に塗布すること４
ｂ−可能であったが、特１：有機溶剤系の塗布液の如き
粘度がコｃｐ以下で表面侭力がコｊｄｙｆｉｅ／ｃｍ以
下の低粘度で濡れの良い濠を塗布する場合には、前述の
如く、ビード液が自重装置先端から落ちる現象が生じ不
都合であった。
面上を表面侭力の作用にのみ依存して自由１−流れるよ
う１ニなっているので、ビード形成前ミ；液鎖厚が増大
し、またビード部に螺慝な力がかからず、例えば／ ０
（ｐ以下の低粘度液を高速かつ薄■に塗布すること４
ｂ−可能であったが、特１：有機溶剤系の塗布液の如き
粘度がコｃｐ以下で表面侭力がコｊｄｙｆｉｅ／ｃｍ以
下の低粘度で濡れの良い濠を塗布する場合には、前述の
如く、ビード液が自重装置先端から落ちる現象が生じ不
都合であった。
一方米一特許第１，４１／ 、２り参考Ｉ：は、第１図
において、塗布ホッパー／／により、スロツ。
において、塗布ホッパー／／により、スロツ。
トｌ−２を通じて塗布液を供給し、ウェブｌの表面上゛
に塗膜りな形成するに―し、ビードｌの下面側に減圧ｌ
［ｌＪを設はバルブｌ参、液トラップ／ｊ。
に塗膜りな形成するに―し、ビードｌの下面側に減圧ｌ
［ｌＪを設はバルブｌ参、液トラップ／ｊ。
マノメータ１４を使って図示していない真空ポンプによ
り、ビードｔの下面側を減圧状鯵となし、ビードｌの上
下表面に圧力差を生じさせることにより、ビードを安定
化させると云う技術が開示されている。然しながらかか
る方法を適用しても、特に有機溶剤系の塗布液の如き、
低粘度で−れの良い塗布液を塗布する場合のビード落下
現象は改善されず、むしろビードｌが破壊される。又、
特開昭ｊ−−ｌｌ７０Ｊｆ号公報では第３図において、
パッキングロールコを矢印Ｂの向きｔ’：ｔｉｉ転させ
、ウェブｌを矢印Ｂ′の向きに走行させて、注液器／４
の塗布液Ｎ１７に、ポンプ／ｒにより希望膜厚を形成す
るに必要な塗布液を供給し、スロットｌりを介して傾斜
面２０を流下せしめ、前記注液器１６とウェブｌとの間
−にくさび形の塗布液溜りｔを形成１７、次いで注液’
Ｈｔｔの下側に、これに隣接して設けた空気加圧室コｌ
のノズルココより、塗布液溜りの下端に約ｊＯ〜ｊ ０
０ ｇｎｒｎ水柱の空気圧を加えてメニスカスを形成さ
せ１０−１００ｍ＠分で均一な薄層塗布を行なっている
。１７かしながら、かかる塗布方法も、そのビード安定
化の原理は前述の米国特許第コ、４１１．コを参考に開
示された技術と同じものであるため、特に査機溶剤系の
塗布液の如き低粘度で濡れの良い塗布液を塗布する場合
には、ビードの一部が破壊されて液切れ現象を起こし、
加圧室コｌの存在はむしろ逆効果となる。
り、ビードｔの下面側を減圧状鯵となし、ビードｌの上
下表面に圧力差を生じさせることにより、ビードを安定
化させると云う技術が開示されている。然しながらかか
る方法を適用しても、特に有機溶剤系の塗布液の如き、
低粘度で−れの良い塗布液を塗布する場合のビード落下
現象は改善されず、むしろビードｌが破壊される。又、
特開昭ｊ−−ｌｌ７０Ｊｆ号公報では第３図において、
パッキングロールコを矢印Ｂの向きｔ’：ｔｉｉ転させ
、ウェブｌを矢印Ｂ′の向きに走行させて、注液器／４
の塗布液Ｎ１７に、ポンプ／ｒにより希望膜厚を形成す
るに必要な塗布液を供給し、スロットｌりを介して傾斜
面２０を流下せしめ、前記注液器１６とウェブｌとの間
−にくさび形の塗布液溜りｔを形成１７、次いで注液’
Ｈｔｔの下側に、これに隣接して設けた空気加圧室コｌ
のノズルココより、塗布液溜りの下端に約ｊＯ〜ｊ ０
０ ｇｎｒｎ水柱の空気圧を加えてメニスカスを形成さ
せ１０−１００ｍ＠分で均一な薄層塗布を行なっている
。１７かしながら、かかる塗布方法も、そのビード安定
化の原理は前述の米国特許第コ、４１１．コを参考に開
示された技術と同じものであるため、特に査機溶剤系の
塗布液の如き低粘度で濡れの良い塗布液を塗布する場合
には、ビードの一部が破壊されて液切れ現象を起こし、
加圧室コｌの存在はむしろ逆効果となる。
本発明に係る塗布方法を実施するための塗布装置の一例
を示す第−Ｉｌｌ二おいて、塗布波４はポンプ／ｆによ
って３１！箪され、グイブロックＪの水平面上な表面俵
力の働きによって進み、グイブロックの先端（；盈リウ
ェブｌとの間にビードｌを形成するが、パッキングロー
ラーコな矢印ムの向きに（ロ）転し、ウェブｌを矢印ム
′の向きすなわちビードｌの下面側から上面側に向けて
走行せしめ、ビードｌの下面鉤に加圧寵コｌを設けてブ
ロアーコ３１：より加圧空気を送入し、ビードｔの上下
表面に圧力差を生じさせることにより、ビードを安定化
する。加圧璽コｌを１圧することなしに特に有機＃１ｉ
ｉＪ系の塗布液の如き低粘度で濶れの良い塗布液を自重
する場合、グイブロックＪの素材と、塗布液４とが互に
濶れ墨いために一般にリップと称されるダイゾロツタ先
端部Ｊ＃に塗布ｗ１４が濡れ拡がり、ビードｒの形成が
ｍ１ｌｌｓ＝なるが、菖圧璽コｌを加圧状部にするとビ
ードｔの下側から上側に向けて圧力が加わりビードｌが
持ち上げられるので、ビードｔが安定化する。
を示す第−Ｉｌｌ二おいて、塗布波４はポンプ／ｆによ
って３１！箪され、グイブロックＪの水平面上な表面俵
力の働きによって進み、グイブロックの先端（；盈リウ
ェブｌとの間にビードｌを形成するが、パッキングロー
ラーコな矢印ムの向きに（ロ）転し、ウェブｌを矢印ム
′の向きすなわちビードｌの下面側から上面側に向けて
走行せしめ、ビードｌの下面鉤に加圧寵コｌを設けてブ
ロアーコ３１：より加圧空気を送入し、ビードｔの上下
表面に圧力差を生じさせることにより、ビードを安定化
する。加圧璽コｌを１圧することなしに特に有機＃１ｉ
ｉＪ系の塗布液の如き低粘度で濶れの良い塗布液を自重
する場合、グイブロックＪの素材と、塗布液４とが互に
濶れ墨いために一般にリップと称されるダイゾロツタ先
端部Ｊ＃に塗布ｗ１４が濡れ拡がり、ビードｒの形成が
ｍ１ｌｌｓ＝なるが、菖圧璽コｌを加圧状部にするとビ
ードｔの下側から上側に向けて圧力が加わりビードｌが
持ち上げられるので、ビードｔが安定化する。
本発明に係る塗布方法を多層のスライドビード塗布に応
用した場合の実總例塗布装置を示す第１図１−おいて、
第ｉ＊＊＊を及び第Ｊ鍮布箪７は、それぞれポンプ／ｌ
−／ＩＩによって送波され、傾斜面を有するグイブロッ
ク３・参の表面を一場流となって重力の作用により流下
し、グイブロックの先端に至りウェブｌとの間にビード
ｌを形成するが、パッキングローラーコを矢印ムの向き
に回転し、ウェブｌを矢印Ａ′の向きすなわちビードｔ
の下面側から上面側に向けて走行せしめ、ビードｌの下
面儒嘔；加圧富コＩを設けてプロアーコＪにより加圧空
気を送入し、ビードｌの上下表面に圧力差を生じさせる
こと（−より、ビードな安定化する。グイブロック先噛
ｌＩＪ参の部分で生じる現象は第参図に関する説明とは
Ｖ闘じである。
用した場合の実總例塗布装置を示す第１図１−おいて、
第ｉ＊＊＊を及び第Ｊ鍮布箪７は、それぞれポンプ／ｌ
−／ＩＩによって送波され、傾斜面を有するグイブロッ
ク３・参の表面を一場流となって重力の作用により流下
し、グイブロックの先端に至りウェブｌとの間にビード
ｌを形成するが、パッキングローラーコを矢印ムの向き
に回転し、ウェブｌを矢印Ａ′の向きすなわちビードｔ
の下面側から上面側に向けて走行せしめ、ビードｌの下
面儒嘔；加圧富コＩを設けてプロアーコＪにより加圧空
気を送入し、ビードｌの上下表面に圧力差を生じさせる
こと（−より、ビードな安定化する。グイブロック先噛
ｌＩＪ参の部分で生じる現象は第参図に関する説明とは
Ｖ闘じである。
本発明Ｉ：よれば、上述の如く、例えば有機＃１１Ｉｌ
ｌｌの如き、低粘度で■れの良い塗布波をウェブに塗布
する除１−発生するビードの落下現象を防止できるが、
同時に本発明書＝よれば、かかる塗布液を塗布する−（
＝高速で薄層のＩｌ！奄が可能となる。すなわち、前述
のビードの落下現象又は値切れ現象は、従来の塗布方法
又は装置によって−も、塗布液の送液量を増量して瞼布
筐膜を厚くすること１＝より防止可能であるが、かかる
防止策は乾燥負荷の増大や、原料の浪費を招く。本発明
によれば、高速薄層塗布が可能となるので、斯様な不都
合もなくなる。
ｌｌの如き、低粘度で■れの良い塗布波をウェブに塗布
する除１−発生するビードの落下現象を防止できるが、
同時に本発明書＝よれば、かかる塗布液を塗布する−（
＝高速で薄層のＩｌ！奄が可能となる。すなわち、前述
のビードの落下現象又は値切れ現象は、従来の塗布方法
又は装置によって−も、塗布液の送液量を増量して瞼布
筐膜を厚くすること１＝より防止可能であるが、かかる
防止策は乾燥負荷の増大や、原料の浪費を招く。本発明
によれば、高速薄層塗布が可能となるので、斯様な不都
合もなくなる。
実施例：アセトン及びメタノールをそれぞれ体積比で参
部・６部の割合で混合した粘 度０・７ｊＣｐ、表ＷＪ張カコＪ、７ ｄｙｎｅ／ｃｉｎ（いずれもコｏ０ｃ＋：て測定）の溶
液を三酢酸セルロースのウェ ブに毎分１００ｍで塗布した。
部・６部の割合で混合した粘 度０・７ｊＣｐ、表ＷＪ張カコＪ、７ ｄｙｎｅ／ｃｉｎ（いずれもコｏ０ｃ＋：て測定）の溶
液を三酢酸セルロースのウェ ブに毎分１００ｍで塗布した。
比較例１：第１ａｌｌに示す装置ではｌ平方メートル当
りＪ／ｃｃまでの薄層塗布が安 定に行なえたが、送液量を減らすと ビードの落下現象が発生した。
りＪ／ｃｃまでの薄層塗布が安 定に行なえたが、送液量を減らすと ビードの落下現象が発生した。
比較例コニ第２図に示す塗布方法では塗布量をｌ平方メ
ートル当り１００ｃｃ位に 増さないと、ビードの落下現象が発 生し、塗布不能であった（減圧１１／ ３の圧力は−ｔ ｏ 〜−ｊＯｍｍＨ２０）。
ートル当り１００ｃｃ位に 増さないと、ビードの落下現象が発 生し、塗布不能であった（減圧１１／ ３の圧力は−ｔ ｏ 〜−ｊＯｍｍＨ２０）。
実施例１：第参図において加圧盲コｌを４〜ｌＯｍｍ
Ｈ２０としたら、塗孔量がｌ平方メートル当りＩＩｃｃ
迄安定な薄 ｌＩｔ！市が可能となった。
Ｈ２０としたら、塗孔量がｌ平方メートル当りＩＩｃｃ
迄安定な薄 ｌＩｔ！市が可能となった。
上記実験は毎分／ ００ｍの塗布速度で行なったが、毎
分ＪＯＯｍまでははＶ同じ１象が予想できる。
分ＪＯＯｍまでははＶ同じ１象が予想できる。
本発明は特に１真感光フィルムの下塗液を塗布する場合
に有効である、これらは例えば、アルコール（メタノー
ル、エタノール、イソプロパツール、□メトキシエタノ
ール、アセトキシエタノール、エトキシエタノール、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレン
グリコール、メトキシプロ／ξノール、フェノキレエタ
ノール、フェニルプロノにノール、シクロヘキナノール
、ベンジルアルコール、フェノール、ｔ−ソｙ−ルフェ
ノール、フルフリルアルコール、トリプロピレングリコ
ールなど）、炭化水素（ヘキサン、リグロイン、シクロ
ヘキサン、デカリン、オクタンなど）、ハロゲン化炭化
水素（ジクロルメタン、クロロホルム、メチルクロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロルエタン、トリクロルエタン
、クロルベンゼン、ジクロルベンインなど）、エーテル
（エチルエーテル、ジメトキシエタン、ジイソプロピル
エーテル、ニブルフェニルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキチン、７ニソール、プロピレンオキサイド、
モルホリンなど）、芳香族炭化水素（ベン（ン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン、シメン、キュメン、エ
チレンなど）、ラクトン、ラクタム（ブチロラクトン、
アセチルブチロラクトン、ピロリドン、ｈ−メチルテロ
リドン、ビニルピロリドンなど）、アミド（ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルホルムアえド、ホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ホルミルモルポリン、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメデルホスホルアミド、テトラメチ
ルＨＪｌなど）、ケトン（アセトン、メチルエテルケト
ン、メシチルオキシド、メチルイソブチルケトン、ジア
セトンアルコール、シクロへ’ｔｆオクタメチルシクロ
ヘキサノン、７セトフエノンなど）、ｒセトニトリル、
ニトロプロノ櫂ン、ジメチルシアナミド、二硫化炭素、
ジメチルスルホキ夛イド、メチルエチルスルホキシド、
ジエチルスルホキシド、スルホラン、エステル（蟻酸メ
チル、フタル酸ジメチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸シクロヘキシル、酢酸アミル、酢酸ブチル、β−メト
キシエチルアセテート、β−ブトキシエチルアセテート
、プロピオン酸プロピル、Ｖユウ酸ジメチル、マレイン
酸ジメチルなど）、酸（蟻酸、酢酸、酪酸、アクリル酸
、ツタクリル酸など）、アミン（ピリジン）、の中から
、当ＩＩＩが溶解性、乾燥しやすさ、反応性、臭気、水
との相溶性、価格などを参考にして、容晶１；一種もし
くはそれ以上を選ぶことができる。
に有効である、これらは例えば、アルコール（メタノー
ル、エタノール、イソプロパツール、□メトキシエタノ
ール、アセトキシエタノール、エトキシエタノール、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレン
グリコール、メトキシプロ／ξノール、フェノキレエタ
ノール、フェニルプロノにノール、シクロヘキナノール
、ベンジルアルコール、フェノール、ｔ−ソｙ−ルフェ
ノール、フルフリルアルコール、トリプロピレングリコ
ールなど）、炭化水素（ヘキサン、リグロイン、シクロ
ヘキサン、デカリン、オクタンなど）、ハロゲン化炭化
水素（ジクロルメタン、クロロホルム、メチルクロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロルエタン、トリクロルエタン
、クロルベンゼン、ジクロルベンインなど）、エーテル
（エチルエーテル、ジメトキシエタン、ジイソプロピル
エーテル、ニブルフェニルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキチン、７ニソール、プロピレンオキサイド、
モルホリンなど）、芳香族炭化水素（ベン（ン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン、シメン、キュメン、エ
チレンなど）、ラクトン、ラクタム（ブチロラクトン、
アセチルブチロラクトン、ピロリドン、ｈ−メチルテロ
リドン、ビニルピロリドンなど）、アミド（ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルホルムアえド、ホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ホルミルモルポリン、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメデルホスホルアミド、テトラメチ
ルＨＪｌなど）、ケトン（アセトン、メチルエテルケト
ン、メシチルオキシド、メチルイソブチルケトン、ジア
セトンアルコール、シクロへ’ｔｆオクタメチルシクロ
ヘキサノン、７セトフエノンなど）、ｒセトニトリル、
ニトロプロノ櫂ン、ジメチルシアナミド、二硫化炭素、
ジメチルスルホキ夛イド、メチルエチルスルホキシド、
ジエチルスルホキシド、スルホラン、エステル（蟻酸メ
チル、フタル酸ジメチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸シクロヘキシル、酢酸アミル、酢酸ブチル、β−メト
キシエチルアセテート、β−ブトキシエチルアセテート
、プロピオン酸プロピル、Ｖユウ酸ジメチル、マレイン
酸ジメチルなど）、酸（蟻酸、酢酸、酪酸、アクリル酸
、ツタクリル酸など）、アミン（ピリジン）、の中から
、当ＩＩＩが溶解性、乾燥しやすさ、反応性、臭気、水
との相溶性、価格などを参考にして、容晶１；一種もし
くはそれ以上を選ぶことができる。
然しなから、本発明は実施例もしくは上記有機溶剤に隈
らず、低粘度で濶れの良い、水系の塗布液にも、本発明
の技術的範囲内で適用可能である。
らず、低粘度で濶れの良い、水系の塗布液にも、本発明
の技術的範囲内で適用可能である。
又ウェブとしては実施例に限らず、ポリエステルベース
、プラスチックフィルム、セロファン、紙、薄い金属板
等の可撓性を有する帯状物が含まれる。
、プラスチックフィルム、セロファン、紙、薄い金属板
等の可撓性を有する帯状物が含まれる。
又、本発明は実施例に暖らず、ホラ・ぞ−スライド塗布
、エクストルージョンビード塗布にも適用可能な上、本
発明の、ＩＩ！ｌは例えば特公昭−１−／２１１０号公
報Ｃ二示されたエクストルージョン型嫁布装置にも適用
可能である。
、エクストルージョンビード塗布にも適用可能な上、本
発明の、ＩＩ！ｌは例えば特公昭−１−／２１１０号公
報Ｃ二示されたエクストルージョン型嫁布装置にも適用
可能である。
第１ＩｇＩないし第３−は従来の塗布方法又は塗布装置
を示す儒断面閣、第４ＩＬ図は本発明に係る塗布方法を
実施するための塗布装置の儒断ＩＩ図、第１図は本発明
に係る塗布方法を実施するための他の１！ＩＩ値置の断
面図を示す。 Ｉ・・・支持体 λ・・・バックアップロール ｔ・７・・・塗布液 ｌ・・・塗布ビード部 り・ｌＯ・・・塗布液膜 コ／・・・加圧璽 特軒出願人 富士写真フィルム株式会社第２図 １１３図 ＩＩ４図
を示す儒断面閣、第４ＩＬ図は本発明に係る塗布方法を
実施するための塗布装置の儒断ＩＩ図、第１図は本発明
に係る塗布方法を実施するための他の１！ＩＩ値置の断
面図を示す。 Ｉ・・・支持体 λ・・・バックアップロール ｔ・７・・・塗布液 ｌ・・・塗布ビード部 り・ｌＯ・・・塗布液膜 コ／・・・加圧璽 特軒出願人 富士写真フィルム株式会社第２図 １１３図 ＩＩ４図
Claims (2)
- （１） スライドビード値布方法において、ビードの
下面側から上面側に向けてウェブを走行せしめ、ビード
の下面側を加圧状態ｄ：する手段を設けて、ビードの上
下表面４；圧力差を生じさせることにより、ビードを安
定化させることを時機とする塗布方法。 - （２）粘度コｃｐ以下、表面傷カコｔｄｙｍｅ／ｃｍ以
下の塗布液を塗布する特許請求の一一第１項記載の塗布
方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57063604A JPS58180262A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | 塗布方法 |
| US06/485,354 US4490418A (en) | 1982-04-16 | 1983-04-15 | Coating method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57063604A JPS58180262A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | 塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58180262A true JPS58180262A (ja) | 1983-10-21 |
| JPH0247272B2 JPH0247272B2 (ja) | 1990-10-19 |
Family
ID=13234049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57063604A Granted JPS58180262A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | 塗布方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4490418A (ja) |
| JP (1) | JPS58180262A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2012030193A (ja) * | 2010-08-02 | 2012-02-16 | Toppan Printing Co Ltd | 間欠塗工装置及び間欠塗工方法 |
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| US7928015B2 (en) | 2006-12-12 | 2011-04-19 | Palo Alto Research Center Incorporated | Solar cell fabrication using extruded dopant-bearing materials |
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-
1982
- 1982-04-16 JP JP57063604A patent/JPS58180262A/ja active Granted
-
1983
- 1983-04-15 US US06/485,354 patent/US4490418A/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4490418A (en) | 1984-12-25 |
| JPH0247272B2 (ja) | 1990-10-19 |
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