JPS5817840A - ガス浄化用触媒体 - Google Patents
ガス浄化用触媒体Info
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- JPS5817840A JPS5817840A JP56115746A JP11574681A JPS5817840A JP S5817840 A JPS5817840 A JP S5817840A JP 56115746 A JP56115746 A JP 56115746A JP 11574681 A JP11574681 A JP 11574681A JP S5817840 A JPS5817840 A JP S5817840A
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Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、連続気泡を有する三次元構造の金属多孔体に
触媒を担持させたガス浄化用触媒体の改良に関する。
触媒を担持させたガス浄化用触媒体の改良に関する。
連続気泡を有する三次元構造の金属多孔体は、多孔度お
よび実質表面積が粉末の焼結多孔体などに比べて大きく
、かつ圧力損失が低いので、ガス浄化用触媒の担体とし
て有望である。この多孔体は、ポリウレタンなどの樹脂
の連続気泡体に金属メッキを施し、焼成により樹脂を焼
却することによって作られる。その形状は樹脂発泡体に
相似し、海綿状金属あるいは発泡金属などと呼ばれてい
る。
よび実質表面積が粉末の焼結多孔体などに比べて大きく
、かつ圧力損失が低いので、ガス浄化用触媒の担体とし
て有望である。この多孔体は、ポリウレタンなどの樹脂
の連続気泡体に金属メッキを施し、焼成により樹脂を焼
却することによって作られる。その形状は樹脂発泡体に
相似し、海綿状金属あるいは発泡金属などと呼ばれてい
る。
この種の金属多孔体は、気孔率や気孔径が不均一である
ため、触媒担体として用いたとき、気孔率や気孔径の大
きい圧力損失の低いところに被浄化ガスが偏流する欠点
を有し、ショートパスと呼ばれる触媒床として最も嫌わ
れる欠点を有する。
ため、触媒担体として用いたとき、気孔率や気孔径の大
きい圧力損失の低いところに被浄化ガスが偏流する欠点
を有し、ショートパスと呼ばれる触媒床として最も嫌わ
れる欠点を有する。
すなわち、この種の金属多孔体は、従来気孔率が高く、
圧力損失は低いものと考えられていたが、気孔率は高く
とも気孔径７ノしＪ・さいと圧力損失は非常に高く、ま
だ、気孔径が大きくとも、気孔が三次元的配置であるだ
め、ガス気流は直進できず、常に折り曲げられる。この
ため圧力損失が大きくなるのである。
圧力損失は低いものと考えられていたが、気孔率は高く
とも気孔径７ノしＪ・さいと圧力損失は非常に高く、ま
だ、気孔径が大きくとも、気孔が三次元的配置であるだ
め、ガス気流は直進できず、常に折り曲げられる。この
ため圧力損失が大きくなるのである。
本発明は、以上のような従来の不都合を解消し、圧力損
失が低く、ガス浄化能の優れた触媒体を提供するもので
ある。すなわち、本発明は、連続気泡を有する金属多孔
体に、表裏両面に貫通する多数の小穴を設け、これを担
体として触媒を担持させるものである。
失が低く、ガス浄化能の優れた触媒体を提供するもので
ある。すなわち、本発明は、連続気泡を有する金属多孔
体に、表裏両面に貫通する多数の小穴を設け、これを担
体として触媒を担持させるものである。
金属多孔体に設ける小穴は、径１ｆｉ以上で、その投影
開口率１０〜９０チの範囲が好ましい。
開口率１０〜９０チの範囲が好ましい。
以下、本発明を実施例により説明する・第１図は気孔率
約７６俤の金属多孔体を示す。
約７６俤の金属多孔体を示す。
これの投影開口率は約６チである。１は金属の骨格を示
し、２は気孔を示す。
し、２は気孔を示す。
第２図は上記の多孔体に小穴３を設けた例を示すもので
、小穴３の直径を３１、その開口率を約３０チとすると
、多孔体の気孔率は約９２％と約２０％増大し、投影開
口率は約４０チとなる。
、小穴３の直径を３１、その開口率を約３０チとすると
、多孔体の気孔率は約９２％と約２０％増大し、投影開
口率は約４０チとなる。
次にＮｉ−Ｃｒ ｌｉ’ｅからなシ、気孔率約７５係、
投影開口率的５％、厚さ５ｍ、直径１１０Ｗｍの円板状
多孔体をａとする。また、この多孔体ａに、直径０．５
ｔａの小穴を１ ｃｒＡ当たり１４４個設けたものを
ｂ、直径１．０ｍｍの小穴を１ ｃＪ当たり３６個設け
たものをＣ１直径３．０欄の小穴をＩ ｃｒｌ当り４個
設けたものをｄとする。なお、ｂ ％ Ｃの投影開口率
はいずれも約３ｏ％である。
投影開口率的５％、厚さ５ｍ、直径１１０Ｗｍの円板状
多孔体をａとする。また、この多孔体ａに、直径０．５
ｔａの小穴を１ ｃｒＡ当たり１４４個設けたものを
ｂ、直径１．０ｍｍの小穴を１ ｃＪ当たり３６個設け
たものをＣ１直径３．０欄の小穴をＩ ｃｒｌ当り４個
設けたものをｄとする。なお、ｂ ％ Ｃの投影開口率
はいずれも約３ｏ％である。
これらの各多孔体の風速と圧力損失との関係は第３図の
ようになり、表裏両面に貫通する小穴をる。
ようになり、表裏両面に貫通する小穴をる。
また、投影開口率は同じでも小穴の径１欄以上において
、特に圧力損失の低下が著しい。
、特に圧力損失の低下が著しい。
第４図は小穴の直径を３．０ｍｍとし、投影開口率を変
えた場合の風速１．０ｍ／ｓｅｃにおける圧力損失を表
し、投影開口率１０％を超えると圧力損失が小さく、気
流が安定することがわかる。
えた場合の風速１．０ｍ／ｓｅｃにおける圧力損失を表
し、投影開口率１０％を超えると圧力損失が小さく、気
流が安定することがわかる。
次に上記の各金属多孔体ａ ％ ｄに白金触媒を担持さ
せてガス浄化率を比較した結果を説明する。
せてガス浄化率を比較した結果を説明する。
まず、固形分としてシリカゾルを２重量％、アルミナゾ
ルを１重量％含む液に上記金属多孔体を浸漬した後、１
００〜１６０°Ｃの温度で乾燥し、続いて６００〜６０
０°Ｃで加熱処理して、シリカとアルミナを付着させた
。その付着量は約０．１重量％である。次に塩化白金酸
の溶液を含浸し、熱分解して白金を担持させた。白金の
担持量は多孔体の容積１２当たｂｌｙとなるように調整
した。
ルを１重量％含む液に上記金属多孔体を浸漬した後、１
００〜１６０°Ｃの温度で乾燥し、続いて６００〜６０
０°Ｃで加熱処理して、シリカとアルミナを付着させた
。その付着量は約０．１重量％である。次に塩化白金酸
の溶液を含浸し、熱分解して白金を担持させた。白金の
担持量は多孔体の容積１２当たｂｌｙとなるように調整
した。
このようにして製造した触媒体を空間速度２０．０ＯＯ
ｈｒ ’ 、温度１５０”Ｃにおいて一酸化炭素を二
酸化炭素に酸化する浄化率を測定したところ、担体に多
孔体ａを用いたものは６０％、ｂ。
ｈｒ ’ 、温度１５０”Ｃにおいて一酸化炭素を二
酸化炭素に酸化する浄化率を測定したところ、担体に多
孔体ａを用いたものは６０％、ｂ。
ｃ、ｄを用いたものはそれぞれ６０％、８０％。
９６チであった。
この結果から明らかなように、担体自体の圧力損失の低
下に伴いガス浄化率がよくなっている。
下に伴いガス浄化率がよくなっている。
すなわち、連続気泡を有する金属多孔体に小穴を貫通さ
せることにより圧力損失が低くなり、また小穴を規則的
に配列することにより、ガスの偏流がなくなり、ショー
トパスと呼ばれる局部流がなくなった効果が現れている
。一方、従来の担体を用いたものは、触媒体の一部にガ
スが偏流し、その部分の触媒に対して過負荷となり、触
媒効果が低くなっている。
せることにより圧力損失が低くなり、また小穴を規則的
に配列することにより、ガスの偏流がなくなり、ショー
トパスと呼ばれる局部流がなくなった効果が現れている
。一方、従来の担体を用いたものは、触媒体の一部にガ
スが偏流し、その部分の触媒に対して過負荷となり、触
媒効果が低くなっている。
以上のように、本発明によれば、連続気泡を有する金属
多孔体を担体としたガス浄化用触媒の性能を向上するこ
とができる。
多孔体を担体としたガス浄化用触媒の性能を向上するこ
とができる。
第１図（ａ）は触媒担体に用いる金属多孔体の縦断面図
、（ｂ）はその投影図、第２図（、）は小穴を設けた金
属多孔体の縦断面図、（ｂ）はその投影図、第３図は各
種多孔体の圧力損失を比較した図、第４図は開口率と圧
力損失の関係を示す。 １・・・・・・金属骨格、２・・・・・・気孔、３・・
・・・・小穴。
、（ｂ）はその投影図、第２図（、）は小穴を設けた金
属多孔体の縦断面図、（ｂ）はその投影図、第３図は各
種多孔体の圧力損失を比較した図、第４図は開口率と圧
力損失の関係を示す。 １・・・・・・金属骨格、２・・・・・・気孔、３・・
・・・・小穴。
Claims (2)
- （１）連続気泡を有する金属多孔体にその表裏両面に貫
通する多数の小穴を設け、この多孔体に触媒を担持させ
たガス浄化用触媒体。 - （２）前記小穴の径が１咽以上で、その投影開口率が１
０〜９０チである特許請求の範囲第１項記載のガス浄化
用触媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56115746A JPS5817840A (ja) | 1981-07-23 | 1981-07-23 | ガス浄化用触媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56115746A JPS5817840A (ja) | 1981-07-23 | 1981-07-23 | ガス浄化用触媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5817840A true JPS5817840A (ja) | 1983-02-02 |
| JPS6147137B2 JPS6147137B2 (ja) | 1986-10-17 |
Family
ID=14670023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56115746A Granted JPS5817840A (ja) | 1981-07-23 | 1981-07-23 | ガス浄化用触媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5817840A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6198531U (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-24 | ||
| EP0254557A2 (en) * | 1986-07-22 | 1988-01-27 | Nippondenso Co., Ltd. | A porous structure and a process for production thereof |
| US5204302A (en) * | 1991-09-05 | 1993-04-20 | Technalum Research, Inc. | Catalyst composition and a method for its preparation |
| WO2004004894A1 (ja) * | 2002-07-02 | 2004-01-15 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | 排ガス浄化触媒担持体 |
-
1981
- 1981-07-23 JP JP56115746A patent/JPS5817840A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6198531U (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-24 | ||
| JPH0328914Y2 (ja) * | 1984-11-30 | 1991-06-20 | ||
| EP0254557A2 (en) * | 1986-07-22 | 1988-01-27 | Nippondenso Co., Ltd. | A porous structure and a process for production thereof |
| US5204302A (en) * | 1991-09-05 | 1993-04-20 | Technalum Research, Inc. | Catalyst composition and a method for its preparation |
| WO2004004894A1 (ja) * | 2002-07-02 | 2004-01-15 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | 排ガス浄化触媒担持体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6147137B2 (ja) | 1986-10-17 |
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