JPS58171500A - 洗浄用組成物 - Google Patents
洗浄用組成物Info
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- JPS58171500A JPS58171500A JP58044623A JP4462383A JPS58171500A JP S58171500 A JPS58171500 A JP S58171500A JP 58044623 A JP58044623 A JP 58044623A JP 4462383 A JP4462383 A JP 4462383A JP S58171500 A JPS58171500 A JP S58171500A
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- carbon atoms
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- polyol
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5036—Azeotropic mixtures containing halogenated solvents
- C11D7/5068—Mixtures of halogenated and non-halogenated solvents
- C11D7/5077—Mixtures of only oxygen-containing solvents
- C11D7/5081—Mixtures of only oxygen-containing solvents the oxygen-containing solvents being alcohols only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
- C23G5/02809—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
- C23G5/02812—Perhalogenated hydrocarbons
- C23G5/02816—Ethanes
- C23G5/02819—C2Cl3F3
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は１．１．２−トリクロロ−１，２，２−）リフ
ルオロエタンと脂肪族アルコールとからなる洗浄用組成
物に艷する０ １．１．２−）リクロロ−１，２，２−）リフルオロエ
タント、メチルアルコール、エチルアルコールおよびイ
ソプロピルアルコールとの共沸混合物および共沸混合物
に近似する混合物が種々の洗浄目的、例えに融剤残渣を
除去するための印刷回路ボード□ の洗浄に有用であることは周知である。し力１しながら
かかる混合物は印刷回路ボードの洗浄ＫＷＡＬで十分に
満足し得るものではない；その理由けこれらの混合瞼祉
しばしｄ融剤残渣の全て、％Ｋ、よシ最近の融剤のイオ
ン性残渣を除去し得ないがらである◎ 前記組成物中にジエチレングリコールまたは１．１．１
− ） ＋７ （ヒドロキシ）プロパンのごときポリオ
ールを配合することＫよシ、該組成物の、印刷回路ボー
ドからイオン性融剤残渣を除去する能力を改善すること
が提案されてお〕、かかる組成物は英国特許出飄第２，
０３８，８６５ Ａ号明細誉に記載されている・これら
の改良された組成物はポリオールを含まない組成物に比
べてイオン性融剤残渣を除去することにおいて非常に有
効であるが、これらの組成物でさえも印刷回路ボード上
にイオン性融剤残渣を残留させるという点で完全に満足
し得るものではない。
ルオロエタンと脂肪族アルコールとからなる洗浄用組成
物に艷する０ １．１．２−）リクロロ−１，２，２−）リフルオロエ
タント、メチルアルコール、エチルアルコールおよびイ
ソプロピルアルコールとの共沸混合物および共沸混合物
に近似する混合物が種々の洗浄目的、例えに融剤残渣を
除去するための印刷回路ボード□ の洗浄に有用であることは周知である。し力１しながら
かかる混合物は印刷回路ボードの洗浄ＫＷＡＬで十分に
満足し得るものではない；その理由けこれらの混合瞼祉
しばしｄ融剤残渣の全て、％Ｋ、よシ最近の融剤のイオ
ン性残渣を除去し得ないがらである◎ 前記組成物中にジエチレングリコールまたは１．１．１
− ） ＋７ （ヒドロキシ）プロパンのごときポリオ
ールを配合することＫよシ、該組成物の、印刷回路ボー
ドからイオン性融剤残渣を除去する能力を改善すること
が提案されてお〕、かかる組成物は英国特許出飄第２，
０３８，８６５ Ａ号明細誉に記載されている・これら
の改良された組成物はポリオールを含まない組成物に比
べてイオン性融剤残渣を除去することにおいて非常に有
効であるが、これらの組成物でさえも印刷回路ボード上
にイオン性融剤残渣を残留させるという点で完全に満足
し得るものではない。
今般本発明者社Ｌ１，２− ）リクロロ−１，２，２−
トリフルオロエタンと炭素数１〜３個の脂肪族アルコー
ルとの共沸混合物に近似する混合−からなる洗浄用組成
物の、イオン性融剤の残液を除去する能力は、該組成物
中に炭素数４〜６個の一価脂肪族アルコールとポリオー
ルとを配合することＫよシ改善されることを知見した。
トリフルオロエタンと炭素数１〜３個の脂肪族アルコー
ルとの共沸混合物に近似する混合−からなる洗浄用組成
物の、イオン性融剤の残液を除去する能力は、該組成物
中に炭素数４〜６個の一価脂肪族アルコールとポリオー
ルとを配合することＫよシ改善されることを知見した。
従って本発明によれｌ−ｊ、１，１．２− ）リクロロ
−１，２，２−トリフルオロエタンと、炭素数１〜３個
の一価低級脂肪族アルコールとの共沸混合物に近似する
混合物からなり、かつ、添加剤として炭素数４〜６個の
一価低級脂肪族アルコールと、一般式： Ｃ（ＷＸＸＸ
Ｙ）（Ｚ）Ｃ式中、（Ｗ）オヨび（Ｘ）ｔ−１同一であ
るかまたＦｉ異っておシ、かつ、各々、ヒドロキシル基
、炭素数１〜８個のヒドロキシアルキル４基またはヒド
ロキシアルコキシ基、または炭素数２〜８個のヒドロキ
シアルキレン基を表わし、（Ｙ）および（Ｚ）は同一で
も異ってもよく、かつ、各々炭＊ｌ［１〜８個のヒドロ
キシアルキル基、炭素数２〜Ｂ個のヒドロキシアルキレ
ン基、水素、炭素数１〜８個のアルキル基、炭素数２〜
８個のアルキレン基またはニトロ基を表わす〕で表わさ
れるポリオールとを含有することを％徴とする、洗浄用
組成物が提供される。
−１，２，２−トリフルオロエタンと、炭素数１〜３個
の一価低級脂肪族アルコールとの共沸混合物に近似する
混合物からなり、かつ、添加剤として炭素数４〜６個の
一価低級脂肪族アルコールと、一般式： Ｃ（ＷＸＸＸ
Ｙ）（Ｚ）Ｃ式中、（Ｗ）オヨび（Ｘ）ｔ−１同一であ
るかまたＦｉ異っておシ、かつ、各々、ヒドロキシル基
、炭素数１〜８個のヒドロキシアルキル４基またはヒド
ロキシアルコキシ基、または炭素数２〜８個のヒドロキ
シアルキレン基を表わし、（Ｙ）および（Ｚ）は同一で
も異ってもよく、かつ、各々炭＊ｌ［１〜８個のヒドロ
キシアルキル基、炭素数２〜Ｂ個のヒドロキシアルキレ
ン基、水素、炭素数１〜８個のアルキル基、炭素数２〜
８個のアルキレン基またはニトロ基を表わす〕で表わさ
れるポリオールとを含有することを％徴とする、洗浄用
組成物が提供される。
炭素数４〜６個の脂肪族アルコールとして好ましい本の
祉イソブチルアルコールテあ！’、ｎ−ヘキサノール、
イソブチルアルコールＦｉ、％に好ましいＯＣ４〜６ア
ルコールのＪｉ′は通常、組成物の重量の０．５〜４重
量ｔｓ１例えば約１〜２重量％である。
祉イソブチルアルコールテあ！’、ｎ−ヘキサノール、
イソブチルアルコールＦｉ、％に好ましいＯＣ４〜６ア
ルコールのＪｉ′は通常、組成物の重量の０．５〜４重
量ｔｓ１例えば約１〜２重量％である。
本発明の洗浄用組成物においては添加剤としてのポリオ
ールは組成物の重量に基づいて少なくとも０．５重量％
１例えば０．５〜４重量−の量で使用される口 上記のポリオールにおいてはヒドロキシアルキル基また
はヒドロキシアルコキシ基中のアルキル分子鎖およびヒ
ドロキシアルキレン基のアルキレン分子鎖は、それぞれ
１〜６個および２〜６個の炭素原子を含有する。ヒドロ
キシアルキル基およびヒドロキシアルキレン基は２個以
上のヒドロキシル基を含有することができ、このヒドロ
キシル基はアルキルまたはアルキレン分子鎖中の炭素原
子のいずれか一つに結合し得る。ヒドロキシル基は末端
炭素原子に結合していることが好ましい。
ールは組成物の重量に基づいて少なくとも０．５重量％
１例えば０．５〜４重量−の量で使用される口 上記のポリオールにおいてはヒドロキシアルキル基また
はヒドロキシアルコキシ基中のアルキル分子鎖およびヒ
ドロキシアルキレン基のアルキレン分子鎖は、それぞれ
１〜６個および２〜６個の炭素原子を含有する。ヒドロ
キシアルキル基およびヒドロキシアルキレン基は２個以
上のヒドロキシル基を含有することができ、このヒドロ
キシル基はアルキルまたはアルキレン分子鎖中の炭素原
子のいずれか一つに結合し得る。ヒドロキシル基は末端
炭素原子に結合していることが好ましい。
（５）がヒドロキシアルキル基であるとき杖、（Ｘ）。
（Ｙ）および（Ｚ）の１個またはそれ以上がヒドロキジ
アルキル基であることが適当である・かかるヒドロキシ
アルキル基は通常、（Ｗ）と同一であシ、ヒドロキシメ
チルまたｔｉ２−ヒドロキシエチル基であることが好ま
しい。
アルキル基であることが適当である・かかるヒドロキシ
アルキル基は通常、（Ｗ）と同一であシ、ヒドロキシメ
チルまたｔｉ２−ヒドロキシエチル基であることが好ま
しい。
本発明の組成物中でポリオール系添加剤として使用する
のに有用カトリオールの代表的な例は１．１．１−トリ
（ヒドロキシメチル）−゛エタン。
のに有用カトリオールの代表的な例は１．１．１−トリ
（ヒドロキシメチル）−゛エタン。
ＣＨｓＣ（ＣＨ２０Ｈ）３ および１，１．１− ）す
（ヒドロキシメチル）プロパンＣＨ３ＣＨ２（ＣＨ２０
Ｔ（）５ である。
（ヒドロキシメチル）プロパンＣＨ３ＣＨ２（ＣＨ２０
Ｔ（）５ である。
本発明の洗浄用組成物のポリオール添加剤はジオールで
あ夛得るが、その中で好ましいものは傳）がヒドロキシ
アルキル基であり、（Ｘ）がヒドロキシル基またはヒド
ロキシアルコキシ基であり、（Ｙ）および（ｚ）が各々
水素であるジオールである。添加剤として好ましい上記
ジオールの例は（Ｗ）がヒドロキシメチル基であり、（
Ｘ）がヒドロキシル基またはヒドロキシプロｌキシ基で
ある本の、すなわち、エチレングリコールおよびジエチ
レングリコール（ＨＯＣＴ（２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ
）である。好ましいジオールとしてＬエチレングリコー
ルが挙けられる。
あ夛得るが、その中で好ましいものは傳）がヒドロキシ
アルキル基であり、（Ｘ）がヒドロキシル基またはヒド
ロキシアルコキシ基であり、（Ｙ）および（ｚ）が各々
水素であるジオールである。添加剤として好ましい上記
ジオールの例は（Ｗ）がヒドロキシメチル基であり、（
Ｘ）がヒドロキシル基またはヒドロキシプロｌキシ基で
ある本の、すなわち、エチレングリコールおよびジエチ
レングリコール（ＨＯＣＴ（２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ
）である。好ましいジオールとしてＬエチレングリコー
ルが挙けられる。
本発明の洗浄〜用組成物中のポリオール系添加剤社１０
０°Ｃ以上の温度で沸騰するかつ使用条件下で本質的に
不揮発性であることが好ましい口重明細書中で使用され
る１共沸混合物に近似する混合物”（＠ａｐｐｒｏｘｉ
ｍａｔｅ ａｚｅｏｔｒｏｐｉｅ ｍ１ｘｔｕｒ・っと
いう用語社、共沸混合物の沸点の±２°Ｃの範囲で沸騰
する混合物を意味する・共沸混合物の沸点の±１°Ｃの
範囲で沸騰する混合物が好ましい◎所望に応じ炭素数１
〜３個の一価脂肪族アルコールの混合物を使用し得る＠
共沸混合物の脂肪族アルコールはメチルアルコール、エ
チルアルコール、例えば４〜５重量％のメチルアル；−
ルまたｔｉｎ−または１ａｏ−ブチルアルコールを含有
スる商業的に入手し得るエチルアルコール供給原料であ
る・ 洗浄用組成物は所望ならば少量の他の助剤１例えば、Ｌ
ｌ、２− ）リクロロ−１，２，２−）リフルオロエタ
ンと一価低級脂肪族アル；−ルとの混合物に対する少量
の、１種またはそれ以上の慣用の安定化剤１例えば少量
のモノニトロアルカン、例えｔｆ二）ロメタンを含有し
得る〇 本発明の洗浄用組成物は慣用の操作方法に従って使用し
得る。この組成物社沸点で使用することが好ましい。汚
染された物品を洗浄用組成物中に浸漬するかあるいは上
記物品に洗浄用組成物を噴霧し得る。洗浄用組成物で処
理した物品を前記トリクロロトリフルオロエタンと炭素
数１〜３個の前記アルコールとを含有する組成物、適当
なものとしては前記添加剤も含有する、共沸混合物に近
似する混合物ですすぐことが好ましい（すなわち、洗浄
用組成物は同時にすすぎ用組成物でもあり得る）。
０°Ｃ以上の温度で沸騰するかつ使用条件下で本質的に
不揮発性であることが好ましい口重明細書中で使用され
る１共沸混合物に近似する混合物”（＠ａｐｐｒｏｘｉ
ｍａｔｅ ａｚｅｏｔｒｏｐｉｅ ｍ１ｘｔｕｒ・っと
いう用語社、共沸混合物の沸点の±２°Ｃの範囲で沸騰
する混合物を意味する・共沸混合物の沸点の±１°Ｃの
範囲で沸騰する混合物が好ましい◎所望に応じ炭素数１
〜３個の一価脂肪族アルコールの混合物を使用し得る＠
共沸混合物の脂肪族アルコールはメチルアルコール、エ
チルアルコール、例えば４〜５重量％のメチルアル；−
ルまたｔｉｎ−または１ａｏ−ブチルアルコールを含有
スる商業的に入手し得るエチルアルコール供給原料であ
る・ 洗浄用組成物は所望ならば少量の他の助剤１例えば、Ｌ
ｌ、２− ）リクロロ−１，２，２−）リフルオロエタ
ンと一価低級脂肪族アル；−ルとの混合物に対する少量
の、１種またはそれ以上の慣用の安定化剤１例えば少量
のモノニトロアルカン、例えｔｆ二）ロメタンを含有し
得る〇 本発明の洗浄用組成物は慣用の操作方法に従って使用し
得る。この組成物社沸点で使用することが好ましい。汚
染された物品を洗浄用組成物中に浸漬するかあるいは上
記物品に洗浄用組成物を噴霧し得る。洗浄用組成物で処
理した物品を前記トリクロロトリフルオロエタンと炭素
数１〜３個の前記アルコールとを含有する組成物、適当
なものとしては前記添加剤も含有する、共沸混合物に近
似する混合物ですすぐことが好ましい（すなわち、洗浄
用組成物は同時にすすぎ用組成物でもあり得る）。
本ｉ明の洗浄用組成物は種々の洗浄目的、例えは融剤お
よび他の不純物を物品から除去するのに有用であり、ま
た、上記組成物は汚染された物品から水を除去するのに
も有用である。
よび他の不純物を物品から除去するのに有用であり、ま
た、上記組成物は汚染された物品から水を除去するのに
も有用である。
本発明の洗浄用組成物は１１１１２− ） ＩＪジクロ
ロ１．２．２− ）リフルオロエタンと炭素数１〜３個
の一価脂肪族アルコーごとからなる共沸混合物に近似す
る混合物中、ポリオールと炭素数４〜６個の一価脂肪族
アルコールとを添加するととにより調製される。
ロ１．２．２− ）リフルオロエタンと炭素数１〜３個
の一価脂肪族アルコーごとからなる共沸混合物に近似す
る混合物中、ポリオールと炭素数４〜６個の一価脂肪族
アルコールとを添加するととにより調製される。
汚染された物品の洗浄はこの物品と本発明の゛洗浄用組
成物とを接触させることによシ行われる・以下に本発明
の実施例を示す〇 実施例 １ 洗浄浴とすすぎ浴と、装置の器壁の上方部の周囲を移動
するコンデンサーとを有する慣用のステンレススチール
製脱脂装置を使用した。洗浄浴とすすぎ浴はいずれも長
さ２５創、巾１５ｃｍであった。洗浄浴中に１０５＋の
深さまで１．１．２− ）リクロロ−１，２，２−トリ
フルオロエタン（９５，４５９１１）を工業用エチルア
ルコール（１，５１）、イソブチルアルコール（１，０
嘔）、エチレングリ；−ル（１，０嗟）およびニトロメ
タン（０，０５１６）の混合物からなる洗浄用組成物を
装入した０ すすぎ浴中には上記と同一〇組成物を２０６１１の探さ
まで装入した。両方の浴中の組成物を沸点まで加熱し、
蒸気を凝縮させそして凝縮液はすすき”浴に供給した。
成物とを接触させることによシ行われる・以下に本発明
の実施例を示す〇 実施例 １ 洗浄浴とすすぎ浴と、装置の器壁の上方部の周囲を移動
するコンデンサーとを有する慣用のステンレススチール
製脱脂装置を使用した。洗浄浴とすすぎ浴はいずれも長
さ２５創、巾１５ｃｍであった。洗浄浴中に１０５＋の
深さまで１．１．２− ）リクロロ−１，２，２−トリ
フルオロエタン（９５，４５９１１）を工業用エチルア
ルコール（１，５１）、イソブチルアルコール（１，０
嘔）、エチレングリ；−ル（１，０嗟）およびニトロメ
タン（０，０５１６）の混合物からなる洗浄用組成物を
装入した０ すすぎ浴中には上記と同一〇組成物を２０６１１の探さ
まで装入した。両方の浴中の組成物を沸点まで加熱し、
蒸気を凝縮させそして凝縮液はすすき”浴に供給した。
上記組成物をすすぎ浴から洗浄浴ヘオーバーフローさせ
、その結果、イソブチルアルコールとポリオ−、ル系添
加剤をすすき浴がら連終的に取出し、洗浄浴へ送入した
。
、その結果、イソブチルアルコールとポリオ−、ル系添
加剤をすすき浴がら連終的に取出し、洗浄浴へ送入した
。
工・ボキシ樹脂−カラスマット＆層物からなる基体を壱
するかつ°’ Ｅｒｙ’ｓ Ｒ８フラツクス”として知
られるイオン性１！ＩＮ＋で汚染されている乾燥印刷回
路ボード（約５ ｃｍ ｘ ２．５ ｃｍの大きさ）を
洗浄用組成物中に０．５〜１分間浸漬しついですすぎ用
組成物・中に浸漬した。
するかつ°’ Ｅｒｙ’ｓ Ｒ８フラツクス”として知
られるイオン性１！ＩＮ＋で汚染されている乾燥印刷回
路ボード（約５ ｃｍ ｘ ２．５ ｃｍの大きさ）を
洗浄用組成物中に０．５〜１分間浸漬しついですすぎ用
組成物・中に浸漬した。
上記の装置−を作動させ、１６０時間、連終的に印刷回
路、ボードの洗浄に使用した。毎朝、洗浄浴中に新しい
洗浄用組成物を添加することにより該組成物の液面を一
定の水準に保持した。操作中、洗浄浴およびすすぎ浴中
の組成物の試料を一定の間隔（後記第１表参照）で採取
し、その組成を分析した。
路、ボードの洗浄に使用した。毎朝、洗浄浴中に新しい
洗浄用組成物を添加することにより該組成物の液面を一
定の水準に保持した。操作中、洗浄浴およびすすぎ浴中
の組成物の試料を一定の間隔（後記第１表参照）で採取
し、その組成を分析した。
その結果、操作を通じて印刷、回路ボードは効果的に洗
浄され、肉眼で竪め得る痕跡の不純物が存在しないこと
がＶｙられた。ボードの洗浄度を評価するために、特に
、イオン性融剤の除去すを評価するた６に、洗浄したボ
ードについてオメガメーター（Ｏｍｅｇａ ｍｅｔｅｒ
） （Ｋｅｎｅｃｏ社製）を使用して試験を行った；
この試験はボードをイノプロピルアルコールと水との混
合物中に浸漬してボードからイオン性残渣を除去しつい
でこの液体の電４度を測定することからなる。試験した
ボードの１平方インチ当りの塩化ナトリウムの当ｌミリ
グラムとして表わした測定結果を第２表に示す。
浄され、肉眼で竪め得る痕跡の不純物が存在しないこと
がＶｙられた。ボードの洗浄度を評価するために、特に
、イオン性融剤の除去すを評価するた６に、洗浄したボ
ードについてオメガメーター（Ｏｍｅｇａ ｍｅｔｅｒ
） （Ｋｅｎｅｃｏ社製）を使用して試験を行った；
この試験はボードをイノプロピルアルコールと水との混
合物中に浸漬してボードからイオン性残渣を除去しつい
でこの液体の電４度を測定することからなる。試験した
ボードの１平方インチ当りの塩化ナトリウムの当ｌミリ
グラムとして表わした測定結果を第２表に示す。
比較のため、前記と同一の装Ｍを使用し、かつ、洗浄浴
とすすぎ浴中で１．１．２− ）リクロロ−１，２゜２
−トリフルオロエタンと工業用エチルアルコ−ルとの共
沸混合物を使用して、前記と同一の印刷回路ボードの洗
浄を行った。この場合、得られたボードはイオン性融剤
残渣からなる同色沈澱物で汚染されていた。洗浄したボ
ードの汚染ＩＪｊニオメガメーターを使用して測定した
。
とすすぎ浴中で１．１．２− ）リクロロ−１，２゜２
−トリフルオロエタンと工業用エチルアルコ−ルとの共
沸混合物を使用して、前記と同一の印刷回路ボードの洗
浄を行った。この場合、得られたボードはイオン性融剤
残渣からなる同色沈澱物で汚染されていた。洗浄したボ
ードの汚染ＩＪｊニオメガメーターを使用して測定した
。
第 ２ 表
実施例２
Ｅｒｙ’ｓＲ８フラックスを使用して作成した印刷回路
ボードを、洗浄装置の洗浄浴とすすぎ浴に１，１゜２−
） ＩＪ クロロ−１，２＋２− ） ’）フルオロ
エタン（９１，５５％）、工業用エチルアルコール（４
，４％）、ｙｌ−ヘキシルｙルコ−ＡＩ（２％ Ｌ
１．１．１− ） ’）（ヒドロキシメチル）フロ、Ｒ
ン（２％）およびニトロメタン（０，０５％）からなる
組成物を装入したこと以外、実施例１と同様の方法で洗
浄した。洗浄したボードに＃′ｉ肉眼で紹め得る不純物
は存在せず、そしてオメガメーター試験においてイオン
性融剤残渣のＮａＣ／ が１平方インチ肖り、０．０
１４■しか存在しないことがＶめられた。比較のため、
１，１．２− ）リクロロ−１，２，２−）リフルオロ
エタンとエチルアルコールとの共沸混合物中で洗浄した
ボードは、該ボード上に、イオン性融剤残渣のＮａＣ７
が１平方インチ当り、［１，０２７１１ｖ存在していた
。
ボードを、洗浄装置の洗浄浴とすすぎ浴に１，１゜２−
） ＩＪ クロロ−１，２＋２− ） ’）フルオロ
エタン（９１，５５％）、工業用エチルアルコール（４
，４％）、ｙｌ−ヘキシルｙルコ−ＡＩ（２％ Ｌ
１．１．１− ） ’）（ヒドロキシメチル）フロ、Ｒ
ン（２％）およびニトロメタン（０，０５％）からなる
組成物を装入したこと以外、実施例１と同様の方法で洗
浄した。洗浄したボードに＃′ｉ肉眼で紹め得る不純物
は存在せず、そしてオメガメーター試験においてイオン
性融剤残渣のＮａＣ／ が１平方インチ肖り、０．０
１４■しか存在しないことがＶめられた。比較のため、
１，１．２− ）リクロロ−１，２，２−）リフルオロ
エタンとエチルアルコールとの共沸混合物中で洗浄した
ボードは、該ボード上に、イオン性融剤残渣のＮａＣ７
が１平方インチ当り、［１，０２７１１ｖ存在していた
。
実施例３
Ｅｒｙ’ｓＲ８フラックスを使用して作成した印刷回路
ボードを洗浄装置の洗浄浴とすすぎ浴に１．１．２−）
！７クロロー１１２１２− ） ＩＪプルオロエタン（
９１，４５％）、工業用エチルアルコール（４，５チ）
。
ボードを洗浄装置の洗浄浴とすすぎ浴に１．１．２−）
！７クロロー１１２１２− ） ＩＪプルオロエタン（
９１，４５％）、工業用エチルアルコール（４，５チ）
。
イソブチルアルコール（２％）、工ｆ レンｆ ＩＪ
コール（２チ）およびニトロメタン（０，０５％）から
なる組成物を装入したこと以外、実施例１と同様の方法
で洗浄した。洗浄したボードには肉眼で腎め得る不純物
は存在せず、そしてオメガメーター試験においてイオン
性融剤残渣のＮａＣ／ が１平方インチ当り、０．０
１７Ｎしか存在しないことが枦められた。比較のため、
１．１．２− ）リクロロ−１，２゜２−）リフルオロ
エタンとエチルアルコールとの共沸混合物中で洗浄した
ボードは、該ボード上に、イオン性融剤残渣のＮａＣ’
ｌ が１平方インチ当シ、０．０２７岬存在していた
。
コール（２チ）およびニトロメタン（０，０５％）から
なる組成物を装入したこと以外、実施例１と同様の方法
で洗浄した。洗浄したボードには肉眼で腎め得る不純物
は存在せず、そしてオメガメーター試験においてイオン
性融剤残渣のＮａＣ／ が１平方インチ当り、０．０
１７Ｎしか存在しないことが枦められた。比較のため、
１．１．２− ）リクロロ−１，２゜２−）リフルオロ
エタンとエチルアルコールとの共沸混合物中で洗浄した
ボードは、該ボード上に、イオン性融剤残渣のＮａＣ’
ｌ が１平方インチ当シ、０．０２７岬存在していた
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 １，１．２− ）リクロロ−１，２，２−）リフ
ルオロエタンと炭素数１〜３個の、−価低級脂肪族アル
コールとの共沸混合物に近似する混合物からなりかつポ
リオールを含有する洗浄用組成物において、上記共沸混
合物に近似する混合物が添加剤として、炭素数４〜６個
の、−価脂肪族アルコール、！： 式： Ｃ（Ｗ）（Ｘ
）（Ｙ）（Ｚ） （式中、ＷとｘＦｉ各にヒドロキシル
基、炭素数１〜８個のヒドロキシアルキル基またはヒド
ロキシアルコキシ基または炭素数２〜８個のヒドロキシ
アルキレン基を表わし、Ｙとｚｔｉ各々炭素数１〜８個
のアルキル基またはヒドロキシアルキル基、炭素数２〜
８個のアルキレン基またはヒドロキシアルキレン基、水
素またけニトロ基を表わす）で表わされるポリオールと
を含有することを特徴とする、洗浄用組成物。 ２、 炭素数４〜６個のアルコールの量が組成物の重量
に基づいて０．５〜４重量−である、特許請求の範囲ｗ
、１項記載の組成物。 ３、 ポリオールの量が組成物の重量に基づいて０．５
〜４重量−である、特許請求の範囲第１項またｈ第２項
記載の組成物。 ４、 ポリオールが１００”Ｃ以上の沸点を有する特許
請求の範囲第１項〜第３項のいずれかに記載の組成物。 ５、 ヒドロキシアルキル基＋ｔ＝、ｚアルコキシ基お
よびヒドロキシアルキレ、基が６個までの炭素原子を有
する、特許請求の範囲第１項〜第４項のいずれかに記載
の組成物。 ＆ ポリオールのヒドロキシアルキル基およびヒドロキ
シアルキレン基が２個以上のヒドロキシル基を有してお
シかつ末端炭素原子に結合したヒドロキシル基を有する
、特許請求の範１！！１１．１項〜ｗ、５項のいずれか
に記載の組成物。 ２ 基ｗ、ｘ、ｙおよび２の少なくとも２個が２−ヒド
ロキシエチル基である、特許請求の範囲第１項〜＠６項
のいずれかに記載の組成物。 ８、 ポリオールがエチレングリコールである、特許請
求の範囲＠１項〜第６項のいずれかに記載の組成物。 ９ 炭素数４〜６個のアルコールがイソブチルアルコー
ルである、特許請求の範囲第１項〜第８項のいずれかに
記載の組成物０ １０、ニトロアルカンを特徴とする特許請求の範囲第１
項〜第９項のいずれかに記載の組成物１゜
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8207905 | 1982-03-18 | ||
| GB8207905 | 1982-03-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58171500A true JPS58171500A (ja) | 1983-10-08 |
| JPH0340759B2 JPH0340759B2 (ja) | 1991-06-19 |
Family
ID=10529092
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58044623A Granted JPS58171500A (ja) | 1982-03-18 | 1983-03-18 | 洗浄用組成物 |
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| Country | Link |
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| EP (1) | EP0090496B1 (ja) |
| JP (1) | JPS58171500A (ja) |
| AU (1) | AU563068B2 (ja) |
| DE (1) | DE3361818D1 (ja) |
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| US4269630A (en) * | 1979-10-01 | 1981-05-26 | George M. Stephenson | Two-step process and composition for cleaning polished surfaces |
-
1983
- 1983-02-23 EP EP83300942A patent/EP0090496B1/en not_active Expired
- 1983-02-23 DE DE8383300942T patent/DE3361818D1/de not_active Expired
- 1983-03-02 AU AU11985/83A patent/AU563068B2/en not_active Ceased
- 1983-03-02 US US06/471,334 patent/US4599187A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-03-18 JP JP58044623A patent/JPS58171500A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2038865A (en) * | 1978-12-13 | 1980-07-30 | Ici Ltd | Solvent Cleaning Composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0340759B2 (ja) | 1991-06-19 |
| DE3361818D1 (en) | 1986-02-27 |
| AU1198583A (en) | 1983-09-22 |
| US4599187A (en) | 1986-07-08 |
| EP0090496B1 (en) | 1986-01-15 |
| EP0090496A1 (en) | 1983-10-05 |
| AU563068B2 (en) | 1987-06-25 |
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