JPH0340759B2 - - Google Patents

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JPH0340759B2
JPH0340759B2 JP58044623A JP4462383A JPH0340759B2 JP H0340759 B2 JPH0340759 B2 JP H0340759B2 JP 58044623 A JP58044623 A JP 58044623A JP 4462383 A JP4462383 A JP 4462383A JP H0340759 B2 JPH0340759 B2 JP H0340759B2
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50Solvents
    • C11D7/5036Azeotropic mixtures containing halogenated solvents
    • C11D7/5068Mixtures of halogenated and non-halogenated solvents
    • C11D7/5077Mixtures of only oxygen-containing solvents
    • C11D7/5081Mixtures of only oxygen-containing solvents the oxygen-containing solvents being alcohols only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • C23G5/02Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
    • C23G5/028Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
    • C23G5/02809Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
    • C23G5/02812Perhalogenated hydrocarbons
    • C23G5/02816Ethanes
    • C23G5/02819C2Cl3F3
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/26Cleaning or polishing of the conductive pattern

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  • Detergent Compositions (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は1,1,2−トリクロロ−1,2,2
−トリフルオロエタンと脂肪族アルコールとから
なる洗浄用組成物に関する。 1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフ
ルオロエタンと、メチルアルコール、エチルアル
コールおよびイソプロピルアルコールとの共沸混
合物および共沸混合物に近似する混合物が種々の
洗浄目的、例えば融剤残渣を除去するための印刷
回路ボードの洗浄に有用であることは周知であ
る。しかしながらかかる混合物は印刷回路ボード
の洗浄に有用であることは周知である。しかしな
がらかかる混合物は印刷回路ボードの洗浄に関し
て十分に満足し得るものではない;その理由はこ
れらの混合物はしばしば融剤残渣の全て、特に、
より最近の融剤のイオン性残渣を除去し得ないか
らである。 前記組成物中にジエチレングリコールまたは
1,1,1−トリ(ヒドロキシ)プロパンのごと
きポリオールを配合することにより、該組成物
の、印刷回路ボードからイオン性融剤残渣を除去
する能力を改善することが提案されており、かか
る組成物は英国特許出願第2038865A号明細書に
記載されている。これらの改良された組成物はポ
リオールを含まない組成物に比べてイオン性融剤
残渣を除去することにおいて非常に有効である
が、これらの組成物でさえも印刷回路ボード上に
イオン性融剤残渣を残留させるという点で完全に
満足し得るものではない。 今般本発明者は1,1,2−トリクロロ−1,
2,2−トリフルオロエタンと炭素数1〜3個の
脂肪族アルコールとの共沸混合物に近似する混合
物からなる洗浄用組成物の、イオン性融剤の残渣
を除去する能力は、該組成物中に炭素数4〜6個
の一価脂肪族アルコールとポリオールとを配合す
ることにより改善されることを知見した。 従つて本発明によれば、1,1,2−トリクロ
ロ−1,2,2−トリフルオロエタンと、炭素数
1〜3個の一価低級脂肪族アルコールとの共沸混
合物に近似する混合物からなり、かつ、添加剤と
して炭素数4〜6個の一価低級脂肪族アルコール
と式:CW,Z,Y,Z〔式中、WおよびXは同
一であるかまたは異つており、かつ、各々、ヒド
ロキシル基、炭素数1〜8個のヒドロキシアルキ
ル基またはヒドロキシアルコキシ基、または炭素
数2〜8個のヒドロキシアルキレン基を表わし、
YおよびZは同一でも異つてもよく、かつ、各々
炭素数1〜8個のヒドロキシアルキル基、炭素数
2〜8個のヒドロキシアルキレン基、水素、炭素
数1〜8個のアルキル基、炭素数2〜8個のアル
キレン基またはニトロ基を表わす〕で表わされる
ポリオールとを含有することを特徴とする、洗浄
用組成物が提供される。 炭素数4〜6個の脂肪族アルコールとして好ま
しいものはイソブチルアルコールであり、n−ヘ
キサノール、イソブチルアルコールは特に好まし
い。C4〜6アルコールの量は通常、組成物の重量の
0.5〜4重量%、例えば約1〜2重量%である。 本発明の洗浄用組成物においては添加剤として
のポリオールは組成物の重量に基づいて少なくと
も0.5重量%、例えば0.5〜4重量%の量で使用さ
れる。 上記のポリオールにおいてはヒドロキシアルキ
ル基またはヒドロキシアルコキシ基中のアルキル
分子鎖およびヒドロキシアルキレン基のアルキレ
ン分子鎖は、それぞれ1〜6個および2〜6個の
炭素原子を含有する。ヒドロキシアルキル基およ
びヒドロキシアルキレン基は2個以上のヒドロキ
シル基を含有することができ、このヒドロキシル
基はアルキルまたはアルキレン分子鎖中の炭素原
子のいずれか一つに結合し得る。ヒドロキシル基
は末端炭素原子に結合していることが好ましい。 Wがヒドロキシアルキル基であるときは、X,
YおよびZの1個またはそれ以上がヒドロキシア
ルキル基であることが適当である。かかるヒドロ
キシアルキル基は通常、Wと同一であり、ヒドロ
キシメチルまたは2−ヒドロキシエチル基である
ことが好ましい。 本発明の組成物中でポリオール系添加剤として
使用するのに有用なトリオールの代表的な例は
1,1,1−トリ(ヒドロキシメチル)−エタン、
CH3C(CH2OH)3および1,1,1−トリ(ヒド
ロキシメチル)プロパンCH3CH2(CH2OH)3であ
る。 本発明の洗浄用組成物のポリオール添加剤はジ
オールであり得るが、その中で好ましいものはW
がヒドロキシアルキル基であり、Xがヒドロキシ
ル基またはヒドロキシアルコキシ基であり、Yお
よびZが各々水素であるジオールである。添加剤
として好ましい上記ジオールの例はWがヒドロキ
シメチル基であり、Xがヒドロキシル基またはヒ
ドロキシプロポキシ基であるもの、すなわち、エ
チレングリコールおよびジエチレングリコール
(HOCH2CH2CH2CH2OH)である。好ましいジ
オールとしてはエチレングリコールが挙げられ
る。 本発明の洗浄用組成物中のポリオール系添加剤
は100℃以上の温度で沸騰するかつ使用条件下で
本質的に不揮発性であることが好ましい。 本明細書中で使用される“共沸混合物に近似す
る混合物”(“approximate azeotropic
mixture”)という用語は、共沸混合物の沸点の
±2℃の範囲で沸騰する混合物を意味する。基沸
混合物の沸点の±1℃の範囲で沸騰する混合物が
好ましい。 所望に応じ炭素数1〜3個の一価脂肪族アルコ
ールの混合物を使用し得る。共沸混合物の脂肪族
アルコールはメチルアルコール、エチルアルコー
ル、例えば4〜5重量%のメチルアルコールまた
はn−またはiso−ブチルアルコールを含有する
商業的に入手し得るエチルアルコール供給原料で
ある。 洗浄用組成物は所望ならば少量の他の助剤、例
えば1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリ
フルオロエタンと一価低級脂肪族アルコールとの
混合物に対する少量の、1種またはそれ以上の慣
用の安定化剤、例えば少量のモノニトロアルカ
ン、例えばニトロメタンを含有し得る。 本発明の洗浄用組成物は慣用の操作方法に従つ
て使用し得る。この組成物は沸点で使用すること
が好ましい。汚染された物品を洗浄用組成物中に
浸漬するかあるいは上記物品に洗浄用組成物を噴
霧し得る。洗浄用組成物で処理した物品を前記ト
リクロロトリフルオロエタンと炭素数1〜3個の
前記アルコールとを含有する組成物、適当なもの
としては前記添加剤も含有する、共沸混合物に近
似する混合物ですすぐことが好ましい(すなわ
ち、洗浄用組成物は同時にすすぎ用組成物でもあ
り得る)。 本発明の洗浄用組成物は種々の洗浄目的、例え
ば融剤および他の不純物を物品から除去するのに
有用であり、また、上記組成物は汚染された物品
から水を除去するのにも有用である。 本発明の洗浄用組成物は1,1,2−トリクロ
ロ−1,2,2−トリフルオロエタンと炭素数1
〜3個の一価脂肪族アルコールとからなる共沸混
合物に近似する混合物中、ポリオールと炭素数4
〜6個の一価脂肪族アルコールとを添加すること
により調製される。 汚染された物品の洗浄はこの物品と本発明の洗
浄用組成物とを接触させることにより行われる。 以下に本発明の実施例を示す。 実施例 1 洗浄浴とすすぎ浴と、装置の器壁の上方部の周
囲を移動するコンデンサーとを有する慣用のステ
ンレススチール製脱脂装置を使用した。洗浄浴と
すすぎ浴はいずれも長さ25cm、巾15cmであつた。
洗浄浴中に10cmの深さまで1,1,2−トリクロ
ロ−1,2,2−トリフルオロエタン(93.45
%)、工業用エチルアルコール(4.5%)、イソブ
チルアルコール(1.0%)、エチレングリコール
(1.0%)およびニトロメタン(0.05%)の混合物
からなる洗浄用組成物を装入した。 すすぎ浴中には上記と同一の組成物を20cmの深
さまで装入した。両方の浴中の組成物を沸点まで
加熱し、蒸気を凝縮させそして凝縮液はすすぎ浴
に供給した。上記組成物をすすぎ浴から洗浄浴ヘ
オーバーフローさせ、その結果、イソブチルアル
コールとポリオール系添加剤をすすぎ浴から連続
的に取出し、洗浄浴へ送入した。 エポキシ樹脂−ガラスマツト積層物からなる基
体を有するかつ“Ery′sR8フラツクス”として知
られるイオン性融剤で汚染されている乾燥印刷回
路ボード(約5cm×2.5cmの大きさ)を洗浄用組
成物中に0.5〜1分間浸漬しついですすぎ用組成
物中に浸漬した。 上記の装置を作動させ、160時間、連続的に印
刷回路ボードの洗浄に使用した。毎朝、洗浄浴中
に新しい洗浄用組成物を添加することにより該組
成物の液面を一定の水準に保持した。操作中、洗
浄浴およびすすぎ浴中の組成物の試料を一定の間
隔(後記第1表参照)で採取し、その組成を分析
した。 その結果、操作を通じて印刷回路ボードは効果
的に洗浄され、肉眼で認め得る痕跡の不純物が存
在しないことが認められた。ボードの洗浄度を評
価するために、特に、イオン製融性の除去率を評
価するために、洗浄したボードについてオメガメ
ーター(Omega meter)(Keneco社製)を使用
して試験を行つた;この試験はボードをイソプロ
ピルアルコールと水との混合物中に浸漬してボー
ドからイオン性残渣を除去しついでこの液体の電
導度を測定することからなる。試験したボードの
1平方インチ当りの塩化ナトリウムの当量ミリグ
ラムとして表わした測定結果を第2表に示す。 比較のため、前記と同一の装置を使用し、か
つ、洗浄浴とすすぎ浴中で1,1,2−トリクロ
ロ−1,2,2−トリフルオロエタンと工業用エ
チルアルコールとの共沸混合物を使用して、前記
と同一の印刷回路ボードの洗浄を行つた。この場
合、得られたボードはイオン性融剤残渣からなる
白色沈澱物で汚染されていた。洗浄したボードの
汚染度はオメガメーターを使用して測定した。
【表】
【表】 実施例 2 Ery′sR8フラツクスを使用して作成した印刷回
路ボードを、洗浄装置の洗浄浴とすすぎ浴に1,
1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロ
エタン(91.55%)、工業用エチルアルコール
(4.4%)、n−ヘキシルアルコール(2%)、1,
1,1−トリ(ヒドロキシメチル)プロパン(2
%)およびニトロメタン(0.05%)からなる組成
物を装入したこと以外、実施例1と同様の方法で
洗浄した。洗浄したボードには肉眼で認め得る不
純物は存在せず、そしてオメガメーター試験にお
いてイオン性融剤残渣のNaClが1平方インチ当
り、0.014mgしか存在しないことが認められた。
比較のため、1,1,2−トリクロロ−1,2,
2−トリフルオロエタンとエチルアルコールとの
共沸混合物中で洗浄したボードは、該ボード上
に、イオン性融剤残渣のNaClが1平方インチ当
り、0.027mg存在していた。 実施例 3 Ery′sR8フラツクスを使用して作成した印刷回
路ボードを洗浄装置の洗浄浴とすすぎ浴に1,
1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロ
エタン(91.45%)、工業用エチルアルコール
(4.5%)、イソブチルアルコール(2%)、1,
1,1−トリ(ヒドロキシメチル)プロパン(2
%)およびニトロメタン(0.05%)からなる組成
物を装入したこと以外、実施例1と同様の方法で
洗浄した。洗浄したボードには肉眼で認め得る不
純物は存在せず、そしてオメガメーター試験にお
いてイオン性融剤残渣のNaClが1平方インチ当
り、0.017mgしか存在しないことが認められた。
比較のため、1,1,2−トリクロロ−1,2,
2−トリフルオロエタンとエチルアルコールとの
共沸混合物中で洗浄したボードは、該ボード上
に、イオン性融剤残渣のNaClが1平方インチ当
り、0.027mg存在していた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリ
    フルオロエタンと炭素数1〜3個の、一価低級脂
    肪族アルコールとの共沸混合物に近似する混合物
    からなりかつポリオールを含有する洗浄用組成物
    において、上記共沸混合物に近似する混合物が添
    加剤として、炭素数4〜6個の、一価脂肪族アル
    コールと式:C,W,X,Y,Z(式中、WとX
    は各々ヒドロキシル基、炭素数1〜8個のヒドロ
    キシアルキル基またはヒドロキシアルコキシ基ま
    たは炭素数2〜8個のヒドロキシアルキレン基を
    表わし、YとZは各々炭素数1〜8個のアルキル
    基またはヒドロキシアルキル基、炭素数2〜8個
    のアルキレン基またはヒドロキシアルキレン基、
    水素またはニトロ基を表わす)で表わされるポリ
    オールとを含有することを特徴とする、洗浄用組
    成物。 2 炭素数4〜6個のアルコールの量が組成物の
    重量に基づいて0.5〜4重量%である、特許請求
    の範囲第1項記載の組成物。 3 ポリオールの量が組成物の重量に基づいて
    0.5〜4重量%である、特許請求の範囲第1項ま
    たは第2項記載の組成物。 4 ポリオールが100℃以上の沸点を有する特許
    請求の範囲第1項〜第3項のいずれかに記載の組
    成物。 5 ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキ
    シ基およびヒドロキシアルキレン基が6個までの
    炭素原子を有する、特許請求の範囲第1項〜第4
    項のいずれかに記載の組成物。 6 ポリオールのヒドロキシアルキル基およびヒ
    ドロキシアルキレン基が2個以上のヒドロキシル
    基を有しておりかつ末端炭素原子に結合したヒド
    ロキシル基を有する、特許請求の範囲第1項〜第
    5項のいずれかに記載の組成物。 7 基W,X,YおよびZの少なくとも2個が2
    −ヒドロキシエチル基である、特許請求の範囲第
    1項〜第6項のいずれかに記載の組成物。 8 ポリオールがエチレングリコールである、特
    許請求の範囲第1項〜第6項のいずれかに記載の
    組成物。 9 炭素数4〜6個のアルコールがイソブチルア
    ルコールである、特許請求の範囲第1項〜第8項
    のいずれかに記載の組成物。 10 ニトロアルカンを更に含有する、特許請求
    の範囲第1項〜第9項のいずれかに記載の組成
    物。
JP58044623A 1982-03-18 1983-03-18 洗浄用組成物 Granted JPS58171500A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB8207905 1982-03-18
GB8207905 1982-03-18

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JPS58171500A JPS58171500A (ja) 1983-10-08
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ID=10529092

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58044623A Granted JPS58171500A (ja) 1982-03-18 1983-03-18 洗浄用組成物

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US (1) US4599187A (ja)
EP (1) EP0090496B1 (ja)
JP (1) JPS58171500A (ja)
AU (1) AU563068B2 (ja)
DE (1) DE3361818D1 (ja)

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