JPS58167615A - 新規ポリフエニレン系高分子化合物およびその製造方法 - Google Patents
新規ポリフエニレン系高分子化合物およびその製造方法Info
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- JPS58167615A JPS58167615A JP4900482A JP4900482A JPS58167615A JP S58167615 A JPS58167615 A JP S58167615A JP 4900482 A JP4900482 A JP 4900482A JP 4900482 A JP4900482 A JP 4900482A JP S58167615 A JPS58167615 A JP S58167615A
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- Japan
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- polymer compound
- dialkoxyphenylene
- chloride
- poly
- formula
- Prior art date
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/30—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain
- C08G2261/31—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating aromatic structural elements in the main chain
- C08G2261/312—Non-condensed aromatic systems, e.g. benzene
Landscapes
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ベンゼン環上に炭素数の異なる二つのアルコ
キシ基を有スるポリ（ジアルコキシフェニレン）および
その製造方法に関する。
キシ基を有スるポリ（ジアルコキシフェニレン）および
その製造方法に関する。
主鎖中に直鎖状に連なるフェニレン基を有するポリフェ
ニレン系のポリマーは耐熱ヰにすぐれているところから
、従来より宇宙航空用あるいはエンジニアリングプラス
チノクスとして、金属代替材料として期待されており、
また今日では、ドーピング等の処理によって導′を性ポ
リマーとして注目されているものである。し力化一般に
ポリフェニレン系のポリマーは、その不融解性および不
溶解性のため、成形加工用の材料としては著しく不満足
であった。例えば、ポリフェニレン−（ベア）→ｉは１
分解源度が５５０℃と良い耐熱性をもつものの、不融不
溶であり、加工法に乏しいので、ポリマーの特長が生か
されず、加工法としては、わずかに粉末冶金的手法が提
案されているにすぎない。
ニレン系のポリマーは耐熱ヰにすぐれているところから
、従来より宇宙航空用あるいはエンジニアリングプラス
チノクスとして、金属代替材料として期待されており、
また今日では、ドーピング等の処理によって導′を性ポ
リマーとして注目されているものである。し力化一般に
ポリフェニレン系のポリマーは、その不融解性および不
溶解性のため、成形加工用の材料としては著しく不満足
であった。例えば、ポリフェニレン−（ベア）→ｉは１
分解源度が５５０℃と良い耐熱性をもつものの、不融不
溶であり、加工法に乏しいので、ポリマーの特長が生か
されず、加工法としては、わずかに粉末冶金的手法が提
案されているにすぎない。
本発明者は耐熱性にすぐれた新しいポリフェニレン系材
料を探索した結果、耐熱曲と加工性にすぐねたポリ（ジ
アルコキシフェニレン）を製造することに成功し池置換
基をもたないポリフェニレンは、近年、ドーピング等に
より有機化合物としては極めて高い導電性が付与されう
ろことが報告されているが５本発明による高分子化合物
もまた、いずれもアルコキシ置換基の存在により芳香環
上の電子密度が向上するので、同様なドーピングにより
、高い導％ｔ、姓が付与されうるものである。
料を探索した結果、耐熱曲と加工性にすぐねたポリ（ジ
アルコキシフェニレン）を製造することに成功し池置換
基をもたないポリフェニレンは、近年、ドーピング等に
より有機化合物としては極めて高い導電性が付与されう
ろことが報告されているが５本発明による高分子化合物
もまた、いずれもアルコキシ置換基の存在により芳香環
上の電子密度が向上するので、同様なドーピングにより
、高い導％ｔ、姓が付与されうるものである。
本発明によって提供されるポリ（ジアルコキシフェニレ
ン）は、一般式（２）で示されるバラジアルコキシベン
ゼンの重合により製造することができる。原料となるバ
ラジアルコキシベンゼンは、例えば一方のアルコキシ基
がメトキシ基である場合、バラメトキシアルコキシベン
ゼンは、重合禁止剤として使用されるハイドロキノンモ
ノメチルエーテルの水酸基を、炭化水素系、エーテル系
、ケトン系などの溶媒中で、炭酸アルカリ、水酸化アル
カリ等の塩基を脱酸剤として、ジアルキル硫酸、パラト
ルエンスルホン酸アルキル、臭化アルキルｂ７’に、化
アルキル、塩化アルキル等のアルキル化剤によってアル
キル化することにより、容易に、かつ安価に製造するこ
とができる。
ン）は、一般式（２）で示されるバラジアルコキシベン
ゼンの重合により製造することができる。原料となるバ
ラジアルコキシベンゼンは、例えば一方のアルコキシ基
がメトキシ基である場合、バラメトキシアルコキシベン
ゼンは、重合禁止剤として使用されるハイドロキノンモ
ノメチルエーテルの水酸基を、炭化水素系、エーテル系
、ケトン系などの溶媒中で、炭酸アルカリ、水酸化アル
カリ等の塩基を脱酸剤として、ジアルキル硫酸、パラト
ルエンスルホン酸アルキル、臭化アルキルｂ７’に、化
アルキル、塩化アルキル等のアルキル化剤によってアル
キル化することにより、容易に、かつ安価に製造するこ
とができる。
この、メトキシアルコキシベンゼンの製造法は、ジアル
コキシベンゼンをハイドロキノンより製造する方法と類
似しているが、原料となるハイドロキノンモノメチルエ
ーテルがハイドロキノンと比較して、塩基性条件におい
て安定の製造は、工業上極めて有利である。
コキシベンゼンをハイドロキノンより製造する方法と類
似しているが、原料となるハイドロキノンモノメチルエ
ーテルがハイドロキノンと比較して、塩基性条件におい
て安定の製造は、工業上極めて有利である。
ジアルコキシベンゼンの取合は、公知のポリフェニレン
の製造法によっても可能ではあるが、この方法では収率
が低く、しかも触媒に基因するハロゲン原子が主鎖の芳
香核−５＝ に導入される。或いは反応中および処理工程中でアルコ
キシ基のアルキル基の脱離によるヒドロキシル基への変
化がおこるなどの原因から生成したポリマーの耐熱性が
悪く、到底成形加工用の高分子材料として実用可能な製
品は得られない。本発明者は、これらの欠点を改良すべ
く鋭意研究の結果、本発明に記す縦合方法を見出し、新
しい有用な高分子材料の提供を可能としたものである。
の製造法によっても可能ではあるが、この方法では収率
が低く、しかも触媒に基因するハロゲン原子が主鎖の芳
香核−５＝ に導入される。或いは反応中および処理工程中でアルコ
キシ基のアルキル基の脱離によるヒドロキシル基への変
化がおこるなどの原因から生成したポリマーの耐熱性が
悪く、到底成形加工用の高分子材料として実用可能な製
品は得られない。本発明者は、これらの欠点を改良すべ
く鋭意研究の結果、本発明に記す縦合方法を見出し、新
しい有用な高分子材料の提供を可能としたものである。
本発明方法においては、一般式（２）で示されるジアル
コキシベンゼンは、不活性溶媒中、ルイス酸及び酸化剤
の存在下に減圧下に重合される。
コキシベンゼンは、不活性溶媒中、ルイス酸及び酸化剤
の存在下に減圧下に重合される。
本発明方法に用いられるルイス酸は、カチオン重合ある
いは配位縦合に用いられるものがいずれも好適に用いら
れる。
いは配位縦合に用いられるものがいずれも好適に用いら
れる。
このようなルイス酸類としては、無水塩化アルミニウム
、無水塩化第二鉄、無水塩化チタン（Ｎ）、無水塩化第
二錫、６一 無水塩化モリブデン、無水塩化タングステン、無水塩化
アンチモン（ｖ）、フッ化ホウ素およびフッ化ホウ素エ
ーテラートなどが使用されるが、無水塩化アルミニウム
、無水塩化第二鉄が特に好ましい。また前記金属塩化物
に対応する金属臭化物等信のハロゲン化物の使用も有効
である。
、無水塩化第二鉄、無水塩化チタン（Ｎ）、無水塩化第
二錫、６一 無水塩化モリブデン、無水塩化タングステン、無水塩化
アンチモン（ｖ）、フッ化ホウ素およびフッ化ホウ素エ
ーテラートなどが使用されるが、無水塩化アルミニウム
、無水塩化第二鉄が特に好ましい。また前記金属塩化物
に対応する金属臭化物等信のハロゲン化物の使用も有効
である。
本発明の高分子化合物の生成反応は酸化的に進行すると
ころから、ルイス酸に加え酸化剤を共存させることが必
要である。酸化剤としては高原子価の遷移金属化合物、
例えば塩化第ニ銅（無水および含水）、塩化第二鉄、塩
化第二錫、塩化モリブデン、塩化タングステンなどの塩
化物あるいはこれらに対応する他のハロゲン化物、二酸
化マンガン、二酸化鉛、酸化第二錫などの酸化物、さら
に過マンガン酸塩等のオキソ酸塩およびクロラニル、ペ
ンゾギノン、ナフトキノン等の有機酸化剤、過酢酸、過
安息香酸、メタクロル過安息香酸等の有機過酸類または
過酸化水素などが用いられるが、中でも無水あるいは含
水塩化第ニー、塩（ｆ［二鉄などが好適である。これら
の酸化剤のうち、塩化第二銅などのように反応溶媒への
溶解度が低く、充分な効果を発揮しないものを用いると
きには、空気中の酸素の助けをかりる、あるいは助触媒
を使用することが効果的である。
ころから、ルイス酸に加え酸化剤を共存させることが必
要である。酸化剤としては高原子価の遷移金属化合物、
例えば塩化第ニ銅（無水および含水）、塩化第二鉄、塩
化第二錫、塩化モリブデン、塩化タングステンなどの塩
化物あるいはこれらに対応する他のハロゲン化物、二酸
化マンガン、二酸化鉛、酸化第二錫などの酸化物、さら
に過マンガン酸塩等のオキソ酸塩およびクロラニル、ペ
ンゾギノン、ナフトキノン等の有機酸化剤、過酢酸、過
安息香酸、メタクロル過安息香酸等の有機過酸類または
過酸化水素などが用いられるが、中でも無水あるいは含
水塩化第ニー、塩（ｆ［二鉄などが好適である。これら
の酸化剤のうち、塩化第二銅などのように反応溶媒への
溶解度が低く、充分な効果を発揮しないものを用いると
きには、空気中の酸素の助けをかりる、あるいは助触媒
を使用することが効果的である。
このようにして用いられる酸化助触媒としては、酢酸コ
バル） （ＩＩ） 、 安息香酸コバル）（ＩＩ）、シ
ュウ酸コバル）（Ｉｆ）の如き、コバル）（ｌＴ）のカ
ルボン酸塩や、コバル）（Ｉｆ）７セチルアセトナート
のようなコバル） （ＩＴ） （＃化合物が有効である
が、マンガン（■）、クロム（ＩＩＩ）等の類似化合物
もまた有効である。このような助触媒を使用することに
より、本発明の目的とするポリ（ジアルコキシフェニレ
ン）類は、極めて収率よく製造される。
バル） （ＩＩ） 、 安息香酸コバル）（ＩＩ）、シ
ュウ酸コバル）（Ｉｆ）の如き、コバル）（ｌＴ）のカ
ルボン酸塩や、コバル）（Ｉｆ）７セチルアセトナート
のようなコバル） （ＩＴ） （＃化合物が有効である
が、マンガン（■）、クロム（ＩＩＩ）等の類似化合物
もまた有効である。このような助触媒を使用することに
より、本発明の目的とするポリ（ジアルコキシフェニレ
ン）類は、極めて収率よく製造される。
本発明方法において用いられる不活性溶媒は、通常のフ
リーデルクラフッ反応に用いられるもので、ルイス酸類
、了り−ルカチオンに不活性な有機溶媒がいずれも使用
可能であるが１％にニトロメタン、ニトロプロパン等の
ニトロアルカン類、ニトロベンゼン等の芳香族ニトロ化
合物、〇−ジクロロベンゼンなどが好適である。
リーデルクラフッ反応に用いられるもので、ルイス酸類
、了り−ルカチオンに不活性な有機溶媒がいずれも使用
可能であるが１％にニトロメタン、ニトロプロパン等の
ニトロアルカン類、ニトロベンゼン等の芳香族ニトロ化
合物、〇−ジクロロベンゼンなどが好適である。
上記のルイス酸、酸化剤、酸化助触媒及び溶媒は、特に
限定されることなしに種々のくみあわせで使用されつる
が、特に好適な例としては、ニトロベンゼン中での無水
塩化アルミニウム、塩化第二銅およびコバルト系助触媒
の使用、あるいはニトロアルカン類中での塩化第二鉄の
使用などがあげられる。
限定されることなしに種々のくみあわせで使用されつる
が、特に好適な例としては、ニトロベンゼン中での無水
塩化アルミニウム、塩化第二銅およびコバルト系助触媒
の使用、あるいはニトロアルカン類中での塩化第二鉄の
使用などがあげられる。
反応に使用される溶媒量は、ジアルコキシベンゼン１小
″量部に対し通常１〜２０１′量部であるが、この溶媒
量はジアルコキシベンゼンの溶媒に対する溶解度及び経
済的理由によって変更されうる。
″量部に対し通常１〜２０１′量部であるが、この溶媒
量はジアルコキシベンゼンの溶媒に対する溶解度及び経
済的理由によって変更されうる。
本発明において使用されるルイス酸の量は、ジアルコキ
９− シベンゼン１モルに対し、１〜５モルであるが、使用さ
れるルイス酸の溶媒に対する溶解度あるいは活性によっ
ても変化する。たとえば塩化アルミニウムを使用する場
合は、アルコキシベンゼンと等モルで良い収率を与える
が、塩化チタンや塩化第二鉄を使用する時は、２〜２．
５モルといった過剰量が望ましい。
９− シベンゼン１モルに対し、１〜５モルであるが、使用さ
れるルイス酸の溶媒に対する溶解度あるいは活性によっ
ても変化する。たとえば塩化アルミニウムを使用する場
合は、アルコキシベンゼンと等モルで良い収率を与える
が、塩化チタンや塩化第二鉄を使用する時は、２〜２．
５モルといった過剰量が望ましい。
また、酸化剤は％ １分子のジアルコキシベンゼンがポ
リマー鎖中に導入されるとき、水素原子２つがＨＣｌと
なって失われるため、少なくとも２当量の酸化剤が必要
とされる。すなわち、塩化第二鉄や塩化第二銅を使用す
る時は、１モルのジアルコキシベンゼンに対し、２モル
の酸化剤が必要であるが、塩化第二銅のように溶媒に難
溶な酸化剤を使用する時や、溶媒に易溶な塩化第二鉄を
用いる場合であっても、より短時間で反応を完結したい
場合などは、適当量増量させることも有効である。この
増量分は、主として１０− 操作上の理由あるいは経済的な理由において決定される
が、一般的には、５当量まで増量させてもよい。しかし
ながら、この酸化剤の増量が好ましくない場合には、ジ
アルコキシベンゼン１モルに対して１／２００から１／
１０といったわずかな量の助触媒の使用によって、これ
を回避することもできる。すなわちルイス酸に塩化アル
ミニウム、酸化剤に塩化第二銅を選んだ系では、助触媒
を使用しない場合の収率が２０〜６０％であるのに対し
、助触媒、例えばコバルト（ＪＬ）アセチルアセトナー
トヲジアルコキシベンゼン１モルに対し、１／２０モル
を使用した場合、収率は５０〜６０％に増加する。この
助触媒の使用は、わずかな童で飛躍的に収率が増大する
利点もあるが、反面、重合反応過程において、アルコキ
ン基からのアルキル基の脱離によるフェノール注水酸基
の生成をひきおこすことがわかった。この副次反応は赤
外スペクトルにおいてわずかに認められるにすぎず、熱
的、電気的あるいは機械的性質は助触媒を使用しないも
のと比較してなんら劣るものではないが、このポリマー
を使用する上で微量のフェノール性水酸基の存在が障碍
となる場合には、ポリマー単離後、ジアルキル硫酸、ハ
ロゲン化アルキル、パラトルエンスルホン酸アルキル等
のアくレー ルキル化剤により容易にフエ）ル性水酸基をもたないポ
リ（ジアルコキシフェニレン）に誘導することが可能で
ある。
リマー鎖中に導入されるとき、水素原子２つがＨＣｌと
なって失われるため、少なくとも２当量の酸化剤が必要
とされる。すなわち、塩化第二鉄や塩化第二銅を使用す
る時は、１モルのジアルコキシベンゼンに対し、２モル
の酸化剤が必要であるが、塩化第二銅のように溶媒に難
溶な酸化剤を使用する時や、溶媒に易溶な塩化第二鉄を
用いる場合であっても、より短時間で反応を完結したい
場合などは、適当量増量させることも有効である。この
増量分は、主として１０− 操作上の理由あるいは経済的な理由において決定される
が、一般的には、５当量まで増量させてもよい。しかし
ながら、この酸化剤の増量が好ましくない場合には、ジ
アルコキシベンゼン１モルに対して１／２００から１／
１０といったわずかな量の助触媒の使用によって、これ
を回避することもできる。すなわちルイス酸に塩化アル
ミニウム、酸化剤に塩化第二銅を選んだ系では、助触媒
を使用しない場合の収率が２０〜６０％であるのに対し
、助触媒、例えばコバルト（ＪＬ）アセチルアセトナー
トヲジアルコキシベンゼン１モルに対し、１／２０モル
を使用した場合、収率は５０〜６０％に増加する。この
助触媒の使用は、わずかな童で飛躍的に収率が増大する
利点もあるが、反面、重合反応過程において、アルコキ
ン基からのアルキル基の脱離によるフェノール注水酸基
の生成をひきおこすことがわかった。この副次反応は赤
外スペクトルにおいてわずかに認められるにすぎず、熱
的、電気的あるいは機械的性質は助触媒を使用しないも
のと比較してなんら劣るものではないが、このポリマー
を使用する上で微量のフェノール性水酸基の存在が障碍
となる場合には、ポリマー単離後、ジアルキル硫酸、ハ
ロゲン化アルキル、パラトルエンスルホン酸アルキル等
のアくレー ルキル化剤により容易にフエ）ル性水酸基をもたないポ
リ（ジアルコキシフェニレン）に誘導することが可能で
ある。
本発明の重合反応において好ましい反応条件は、発生す
る塩化水素を系外へ除去しうるように圧力を１ｍｍＨ（
／といった減圧状態にすることである。反応時の系内圧
力が常圧に近づくにつれて、触媒に由来するハロゲン原
子の芳香環上への置換導入や、アルコキシ基からのアル
キル基の脱離がおこりやすくなるが、ＩＩ＋？！ＬＨ＃
より低くしても、効果は特に変らない。操作上の問題か
ら通常１ｏ朋Ｈｇから４゜ｍｍＨＩ程度が適当である。
る塩化水素を系外へ除去しうるように圧力を１ｍｍＨ（
／といった減圧状態にすることである。反応時の系内圧
力が常圧に近づくにつれて、触媒に由来するハロゲン原
子の芳香環上への置換導入や、アルコキシ基からのアル
キル基の脱離がおこりやすくなるが、ＩＩ＋？！ＬＨ＃
より低くしても、効果は特に変らない。操作上の問題か
ら通常１ｏ朋Ｈｇから４゜ｍｍＨＩ程度が適当である。
反応温度は、−３ｏ０から１０ｏ０までの間とすること
ができるが、反応温度の上昇は、触媒に由来するハロゲ
ンの芳香環上への置換導入や、アルキル基の脱離をひき
おこすので有利ではなく、一方あまりに低温で反応をお
こなうと、ジアルコキシベンゼンの溶媒への浩解度が低
丁して反応速度が遅くなるため有利ではない。したがっ
て好ましくは０から４０、特に室温付近で反応を行なう
ことが操作上最も有利である。
ができるが、反応温度の上昇は、触媒に由来するハロゲ
ンの芳香環上への置換導入や、アルキル基の脱離をひき
おこすので有利ではなく、一方あまりに低温で反応をお
こなうと、ジアルコキシベンゼンの溶媒への浩解度が低
丁して反応速度が遅くなるため有利ではない。したがっ
て好ましくは０から４０、特に室温付近で反応を行なう
ことが操作上最も有利である。
反応時間は、ジアルコキシベンゼンの種類によって変化
するが、反応の完結は、もはや塩化水素ガスの発生が認
められなくなった時と考えられ、それに要する時間は、
３０分から２時間である。長時間にわたって反応を継続
することも可能であるが、特に有利となるわけではない
。
するが、反応の完結は、もはや塩化水素ガスの発生が認
められなくなった時と考えられ、それに要する時間は、
３０分から２時間である。長時間にわたって反応を継続
することも可能であるが、特に有利となるわけではない
。
このようにして得られるポリ（ジアルコキシフェニレン
）は、ポリフェニレン系高分子に特有な耐熱性を損なう
こと１３− なく、表−１に示す如き融点を有しており、加１姓にす
ぐれている。融点は、アルコキシ基を形成する直鎖アル
キル部の鎖長により特有の値を示す。また、アルコキシ
基中の直鎖アルキル基の鎖長を長くすることにより、汎
用有機溶媒、例えばトルエン、ジメチルホルムアミド等
にも可溶となり、キャスト法による成膜が可能となる。
）は、ポリフェニレン系高分子に特有な耐熱性を損なう
こと１３− なく、表−１に示す如き融点を有しており、加１姓にす
ぐれている。融点は、アルコキシ基を形成する直鎖アル
キル部の鎖長により特有の値を示す。また、アルコキシ
基中の直鎖アルキル基の鎖長を長くすることにより、汎
用有機溶媒、例えばトルエン、ジメチルホルムアミド等
にも可溶となり、キャスト法による成膜が可能となる。
これらの特長はいずれも従来のポリフェニレン系高分子
化合物にみられ分子材料といえる。
化合物にみられ分子材料といえる。
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例１
あらかじめ無水塩化第二鉄１９４ｇを溶解したニトロメ
タン５０＃Ｉｌ中に、ニトロメタン５０ｍに溶解したＰ
−メトキシエトキシベンゼン６．５９’ｌ、反応器中の
内圧が２０〜４０ｍｍＨ１，内温が２０’〜６５℃に保
たれるよう注意深１４− く滴下する。終了後１時間、そのままの状態においたの
ち、内容物をメタノール５００ ｍｌ中にあけ、１時間
、室温でかくはんする。不溶物を１１：′１取し、これ
を６Ｎ塩醒３００ｆｆｌ／で６回、加熱かくはん下で洗
浄し、その抜水５００ＩＩＩｌで洗浄する。次いで真空
乾燥器で１００℃で６時間乾燥して、淡褐色粉末として
ポリ（メトキシエトキシフェニレン）３、９６ ｇを得
る。融点、熱重量分析（ＴＧＡ）結果、粘度測定結果お
よび元素分析結果を表に示す。またこのポリマーの赤外
吸収スペクトル（ＩＲチャート）を図−１に示す。
タン５０＃Ｉｌ中に、ニトロメタン５０ｍに溶解したＰ
−メトキシエトキシベンゼン６．５９’ｌ、反応器中の
内圧が２０〜４０ｍｍＨ１，内温が２０’〜６５℃に保
たれるよう注意深１４− く滴下する。終了後１時間、そのままの状態においたの
ち、内容物をメタノール５００ ｍｌ中にあけ、１時間
、室温でかくはんする。不溶物を１１：′１取し、これ
を６Ｎ塩醒３００ｆｆｌ／で６回、加熱かくはん下で洗
浄し、その抜水５００ＩＩＩｌで洗浄する。次いで真空
乾燥器で１００℃で６時間乾燥して、淡褐色粉末として
ポリ（メトキシエトキシフェニレン）３、９６ ｇを得
る。融点、熱重量分析（ＴＧＡ）結果、粘度測定結果お
よび元素分析結果を表に示す。またこのポリマーの赤外
吸収スペクトル（ＩＲチャート）を図−１に示す。
実施例２
無水塩化アルミニウム１６４ｇ、無水塩化第二銅１３．
５ｇ。
５ｇ。
コバルト（ｆＩ）アセチルアセトナート１．２８ｇをニ
トロベンゼン５３ｍ中でよくかくはんし、ここに５Ｑｍ
ｌのニトロベンゼンに溶力化だメトキシエトキシベンゼ
ン１５．２Ｆを、減圧下、内圧が２０〜３５朋Ｈ＆、内
温ｈ′＝２０〜３５°となるように調節しながら滴下す
る。終了後１時間そのままの状態におき、内容物をメタ
ノール５００ ｍｌにあけ、１時間室温でかくはんする
。不溶物をｆ取した後、これを６Ｎ塩ｔＷ１３００ ｍ
ｌで３回、加熱かくはん下で洗浄し、つづいて水５００
ｍｌで洗浄する。真空乾燥器中で１００°Ｃで６時間
減圧乾燥し、淡褐色粉末としてポリ（メトキシエトキシ
フェニレン）３６４ＩＩを得る。融点、ＴＧＡ分析結果
、粘度測定結果および元素分析結果を表に示す。このポ
リマーのＩＲチャートを図−２に示す。このチャートは
３，４００等−１付近に水酸基に帰属する吸収をわずか
に認める他は、実施例１のものとほとんど一致した。
トロベンゼン５３ｍ中でよくかくはんし、ここに５Ｑｍ
ｌのニトロベンゼンに溶力化だメトキシエトキシベンゼ
ン１５．２Ｆを、減圧下、内圧が２０〜３５朋Ｈ＆、内
温ｈ′＝２０〜３５°となるように調節しながら滴下す
る。終了後１時間そのままの状態におき、内容物をメタ
ノール５００ ｍｌにあけ、１時間室温でかくはんする
。不溶物をｆ取した後、これを６Ｎ塩ｔＷ１３００ ｍ
ｌで３回、加熱かくはん下で洗浄し、つづいて水５００
ｍｌで洗浄する。真空乾燥器中で１００°Ｃで６時間
減圧乾燥し、淡褐色粉末としてポリ（メトキシエトキシ
フェニレン）３６４ＩＩを得る。融点、ＴＧＡ分析結果
、粘度測定結果および元素分析結果を表に示す。このポ
リマーのＩＲチャートを図−２に示す。このチャートは
３，４００等−１付近に水酸基に帰属する吸収をわずか
に認める他は、実施例１のものとほとんど一致した。
実施例５
Ｐ−メトキシエトキシベンゼン６６ｇのかわりにＰ−メ
トキシプロポキシベンゼン６．８ｇを用いる他は実施例
１と同様に反応を行ない、淡褐色ポリマー５８２ｇを得
る。融点、ＴＧＡ分析結果、粘度測定結果および元素分
析結果を表に示す。ポリマーのＩＲチャートを図−３に
示す。
トキシプロポキシベンゼン６．８ｇを用いる他は実施例
１と同様に反応を行ない、淡褐色ポリマー５８２ｇを得
る。融点、ＴＧＡ分析結果、粘度測定結果および元素分
析結果を表に示す。ポリマーのＩＲチャートを図−３に
示す。
実施例４
Ｐ−メトキシエトキシベンゼン６．３９のかわりにＰ−
メトキシブトキシベンゼン７、４ ｇを用いる他は実施
例１と同様に反応を行い、淡褐色ポリマー５．０ｇを得
る。融点、ＴＧＡ分析結果、粘度測定結果および元素分
析結果を表−１に示す。またこのポリマーのＩＲチャー
トは図−４に示す。
メトキシブトキシベンゼン７、４ ｇを用いる他は実施
例１と同様に反応を行い、淡褐色ポリマー５．０ｇを得
る。融点、ＴＧＡ分析結果、粘度測定結果および元素分
析結果を表−１に示す。またこのポリマーのＩＲチャー
トは図−４に示す。
実施例１乃至４で得られたポリマーの性状をまとめて表
示する。表中の各項目について以下に説明する。
示する。表中の各項目について以下に説明する。
融 点：融点測定器て一１１１１１定１−たままの値で
あり補正は行っていない。
あり補正は行っていない。
＝１７−
ＴＧＡ分析結果：約５■の試料をとり、空気中で１０℃
／ｍｉｎの昇温速度で測定した。５％重重量減少度を上
段に、５０％重量減少温度を下段に示す。
／ｍｉｎの昇温速度で測定した。５％重重量減少度を上
段に、５０％重量減少温度を下段に示す。
元素分析結果：いずれの試料からも塩素原子は検出され
なかった。上段に観測値、下段（）内に計算値を示す。
なかった。上段に観測値、下段（）内に計算値を示す。
極限粘度：試料を濃度（Ｃ）０．１から０．６（ｇ／１
００ｍ）の範囲で＃硫酸に溶解し、得られるηｓｐ／ｃ
の曲線をＣ−＋ Ｑに外挿することにより極限粘度〔η
〕を求めた。
００ｍ）の範囲で＃硫酸に溶解し、得られるηｓｐ／ｃ
の曲線をＣ−＋ Ｑに外挿することにより極限粘度〔η
〕を求めた。
１．・′
＝１８−
図１．２．３及び４はそれぞれ実施例１．２．３及び４
において得られた本発明のポリマーの赤外吸収スペクト
ルを示す。 ％吐出願人 大日本インキ化学工業株式会社−１９＝
において得られた本発明のポリマーの赤外吸収スペクト
ルを示す。 ％吐出願人 大日本インキ化学工業株式会社−１９＝
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （式中Ｒ及びＲ′は互に異なる炭素数１乃至５のアルキ
ル基をあられす。） を繰り返し単位とするポリ（ジアルコキシフェニレン）
。 ２）式（１）のＲがメチル基 Ｈ／がエチル基であり、
濃硫酸中の極限粘度〔η〕が０．０８乃至１．００であ
る特許請求の範囲第１項記載の高分子化合物。 ６）式（１１０Ｒがメチル基 Ｂｌがノルマルプロピル
基であり。 濃硫酸中の極限粘度〔η〕が０．０８乃至１．００であ
る特許請求の範囲第１項記載の高分子化合物。 ４）式（１１のＲがメチル基 Ｂｌがノルマルブチル基
であり、濃硫酸中の極限粘度〔η〕が００８乃至１．５
０である特許請求の範囲第１項記載の高分子化合物。 ５）一般式 （式中Ｒ及びＲ′は互に異なる炭素数１乃至５のアルキ
ル基をあられす。） で示されるジアルコキシベンゼンを不活性溶媒中、ルイ
ス酸及び酸化剤の存在下に、減圧状態で重合せしめるこ
とを特徴とするポリ（ジアルコキシフェニレン）の製造
方法。 ６）酸化助触媒の共存下に重合を行う特許請求の範囲第
５項記載のポリ（ジアルコキシフェニレン）の製造方法
。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4900482A JPS58167615A (ja) | 1982-03-29 | 1982-03-29 | 新規ポリフエニレン系高分子化合物およびその製造方法 |
| US06/453,837 US4404354A (en) | 1981-12-28 | 1982-12-28 | Polyphenylene-type polymeric compound and process for production thereof |
| DE3248399A DE3248399C2 (de) | 1981-12-28 | 1982-12-28 | Polyphenylenpolymere und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4900482A JPS58167615A (ja) | 1982-03-29 | 1982-03-29 | 新規ポリフエニレン系高分子化合物およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58167615A true JPS58167615A (ja) | 1983-10-03 |
| JPH035412B2 JPH035412B2 (ja) | 1991-01-25 |
Family
ID=12819025
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4900482A Granted JPS58167615A (ja) | 1981-12-28 | 1982-03-29 | 新規ポリフエニレン系高分子化合物およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58167615A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58113221A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-06 | Dainippon Ink & Chem Inc | 新規なポリフエニレン系高分子化合物 |
| JPS58145726A (ja) * | 1982-02-25 | 1983-08-30 | Dainippon Ink & Chem Inc | ポリ（ジアルコキシフエニレン）の製造方法 |
-
1982
- 1982-03-29 JP JP4900482A patent/JPS58167615A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58113221A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-06 | Dainippon Ink & Chem Inc | 新規なポリフエニレン系高分子化合物 |
| JPS58145726A (ja) * | 1982-02-25 | 1983-08-30 | Dainippon Ink & Chem Inc | ポリ（ジアルコキシフエニレン）の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH035412B2 (ja) | 1991-01-25 |
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