JPS5816501A - Electronic part and method of producing same - Google Patents

Electronic part and method of producing same

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JPS5816501A
JPS5816501A JP11557181A JP11557181A JPS5816501A JP S5816501 A JPS5816501 A JP S5816501A JP 11557181 A JP11557181 A JP 11557181A JP 11557181 A JP11557181 A JP 11557181A JP S5816501 A JPS5816501 A JP S5816501A
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JP
Japan
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alumite
aluminum
exterior case
glycidoxyalkyltrimethoxysilane
thermosetting resin
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松分 良雄
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Alps Alpine Co Ltd
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Alps Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、容量素子、インダクタンス素子、抵抗素子、
能動素子等の部品素子を、アルミニウム又はアルミニウ
ム基合金からなる外装ケース内に、前記部品素子の周囲
に空隙をあけて密閉収納してなる電子部品に関する。
[Detailed Description of the Invention] The present invention provides a capacitive element, an inductance element, a resistive element,
The present invention relates to an electronic component in which a component element such as an active element is hermetically housed in an exterior case made of aluminum or an aluminum-based alloy with a space provided around the component element.

電子機器の小型化、部品点数の削減等が進められるにつ
れ、複数個の部品素子を、1つの外装ケース内に高密度
に充填収納して一体化した電子部品の需要が増加してい
る。ところで、この種電子部品において、外装ケース内
に収納した部品素子を外部から遮断する方法としては、
外装ケース内に収納した部品素子の周囲全体に絶縁性樹
脂を注入して、絶縁性樹脂で部品素子を覆う方鼠と、部
品素子を電気配線し装着したプリント基板を、外装ケー
スの開口部に嵌合させ、この上から絶縁性樹脂を注入し
て開口部を封止し、部品素子を密閉空間内に配置する方
法とがある。本発明は、部品素子の周囲に空隙をあけて
密閉外装する構造の電子部品に関する。
2. Description of the Related Art As electronic devices become smaller and the number of parts reduced, there is an increasing demand for electronic components in which a plurality of component elements are packed and housed in a single exterior case in an integrated manner. By the way, in this type of electronic component, the method of shielding the component element housed in the outer case from the outside is as follows.
Insulating resin is injected all around the parts and elements housed in the outer case, and the parts and elements are covered with insulating resin, and the printed circuit board on which the parts and elements are electrically wired and attached is inserted into the opening of the outer case. There is a method of fitting the parts and injecting an insulating resin from above to seal the opening, and placing the component element in a sealed space. The present invention relates to an electronic component having a structure in which a component element is hermetically packaged with a space provided around it.

部品素子の周一に空隙をあける理由としては、 次のよ
うな点があげられる。
The following points can be cited as reasons for creating a gap around the circumference of a component element.

(1)注入する絶縁性樹脂自体又は、その溶剤による悪
影響をさける。
(1) Avoid the adverse effects of the insulating resin itself or its solvent to be injected.

(2)部品素子自体が有機溶剤を含有している場合、絶
縁性樹脂の硬化が不完全になるのを防止する。
(2) When the component element itself contains an organic solvent, incomplete curing of the insulating resin is prevented.

(3)樹脂硬化時の応力が部品素子に与える影醤をさけ
る。
(3) Avoid shadows on component elements caused by stress during resin curing.

(4)電子部品の重量を軽減する。(4) Reduce the weight of electronic components.

更に、部品素子自体及び回路配線間において、高い絶縁
性が要求される場合、部品素子の周囲に空隙をあけるだ
けでな・く、使用する外装ケースや一注型絶縁性樹脂に
ついても絶縁特性の極めて優れたものが必要である。密
閉電子部品の外装ケースとしては、樹脂を使用する場合
が多い。しかし、樹脂ケースは、材料の構造上、ガスや
湿気の遮断性が劣り、又熱膨張係数が大きいため、高絶
縁性電子部品の外装ケースとしては、余り適当ではなく
、もりばら安価表電子部品に使用されている。
Furthermore, if high insulation is required between the component elements themselves and circuit wiring, not only should air gaps be created around the component elements, but also the insulation properties of the outer case and single-cast insulating resin used should be We need something extremely good. Resin is often used as an exterior case for sealed electronic components. However, due to the structure of the material, resin cases have poor gas and moisture barrier properties, and have a large coefficient of thermal expansion, so they are not very suitable as external cases for highly insulating electronic components, and are often used for inexpensive electronic components. used in

特に高絶縁性を要求される電子部品には金属ケースを使
用するが、金属ケースは、ガスや湿気の遮断性は良いが
、熱伝導率が大きく、熱衝撃が加わった場合、注型樹脂
との間にクラックを生じる危険性が高く、金属ケースと
絶縁性樹脂との接着力に問題があった。又、電子部品の
軽量化のため、金属としては、アルミニウムが適当で、
アルミニウムケースと絶縁性樹脂との接着性を高める必
要があった。
Metal cases are used especially for electronic components that require high insulation. Although metal cases have good barrier properties against gas and moisture, they have high thermal conductivity, and if thermal shock is applied, they will not be able to withstand casting resin. There was a high risk of cracks occurring between the metal case and the insulating resin, and there were problems with the adhesive strength between the metal case and the insulating resin. Also, in order to reduce the weight of electronic parts, aluminum is the appropriate metal.
It was necessary to improve the adhesion between the aluminum case and the insulating resin.

本発明は、斜上の点に鑑みてなされたもので、その特徴
は、外装ケースとして、表面に多孔質アルマイト皮膜を
有するアルミニウム又はアルミニウム基合金を用い、注
型絶縁性樹脂として、r−グリシドキシアルキルトリメ
トキシシランを含有する液状エポキシ系熱硬化性樹脂を
使用したことである。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problem, and its features include using aluminum or an aluminum-based alloy having a porous alumite film on the surface as an exterior case, and using R-grid as a cast insulating resin. The reason is that a liquid epoxy thermosetting resin containing sidoxyalkyltrimethoxysilane was used.

以下図面をもとに本発明を説明する; 第1図は、本発明一実施例電子部品の断側面図である。The present invention will be explained below based on the drawings; FIG. 1 is a sectional side view of an electronic component according to an embodiment of the present invention.

(1)は、アルミニウム(以後A/と記す)又は、AJ
基合金からなる外装ケース、(2)は該外装ケース(1
)の表面に形成した多孔質アルマイト皮膜、(3)は、
前記外装ケース(1)の封口材を兼ねたプリント基板(
端子板)であり、該プリント基板(3)には、容量素子
、インダクタンス素子、抵抗素子、能動素子等の部品素
子(4)及び外部端子(5)が装着されている。そして
、この端子板(3)は、部品素子(4)が、外装ケース
(1)の内側に来るようにして、外装ケース(1)の開
口部に設けた段部aηに嵌合している。(6)は、外装
ケース(1)の開口部に欽合し次プリント基板(3)上
に充填したエポキシ系熱硬化性樹脂からなる注型絶縁性
樹脂であり、該注型絶縁性樹脂(6)は、総樹脂量に対
して0.1〜5wt*のr−グリシドキシアルキルトリ
メトキシシランを含有している。
(1) is aluminum (hereinafter referred to as A/) or AJ
An exterior case made of a base alloy, (2) is the exterior case (1)
), the porous alumite film formed on the surface of (3) is
A printed circuit board (which also serves as a sealing material for the exterior case (1))
The printed circuit board (3) is equipped with component elements (4) such as capacitive elements, inductance elements, resistance elements, and active elements, and external terminals (5). This terminal board (3) is fitted into a step aη provided in the opening of the outer case (1) so that the component element (4) is located inside the outer case (1). . (6) is a cast insulating resin made of an epoxy thermosetting resin that is fitted into the opening of the outer case (1) and then filled onto the printed circuit board (3); 6) contains 0.1 to 5 wt* of r-glycidoxyalkyltrimethoxysilane based on the total resin amount.

次に、電子部品の製造方法を説明する。まず、板状の、
l又triht基合金を所定形状にプレス加工、インパ
クト加工などの加工を施こして、外装ケース(1)を作
製し、該外装ケース(1)を脱脂そして酸洗いを行りた
後、陽極酸化法によシ、アルマイード処理を施こし、表
面に多孔質アルマイト皮膜(2)を形成させる。陽極酸
化法によるアルマイト処理浴としては、硫酸浴が、前記
エポキシ系熱硬化性樹脂との接着性に優れ九多孔質アル
マイト皮膜が得られた。又、アルマイト処理条件として
は、次のような条件が好適である。
Next, a method for manufacturing electronic components will be explained. First, a plate-shaped
An exterior case (1) is produced by applying processing such as pressing or impact processing to a l or triht-based alloy into a predetermined shape, and after degreasing and pickling, the exterior case (1) is anodized. An alumite treatment is performed by a method to form a porous alumite film (2) on the surface. As the alumite treatment bath by the anodizing method, a sulfuric acid bath had excellent adhesion to the epoxy thermosetting resin and a nine-porous alumite film was obtained. Further, the following conditions are suitable as the alumite treatment conditions.

浴組成 硫酸 130−17Of/L 人t”    1001/を以下 浴温度 22−30℃ 電流1度  0.6−1ム/− 処理時間  8〜30分   ′ 外装ケースは、アルマイト処理後、洗浄乾燥し、多孔質
のまま使用する。次に、外装ケース(1)の開口部に1
部品素子(4)及び外部端子(5)を装着したプリント
基板(3)を、部品素子(4)が、外装ケース(1)の
内側にくるように嵌合させ、次いヤ、総樹脂量に対して
0.1〜5wt*のγ−グリシドキシアルキルトリメト
キシシランを含有した液状エポキシ系熱硬化性樹脂から
なる注型絶縁性樹脂(6)を、プリント基板(3)上に
充填し、加熱硬化し、部品素子(4)を、外装ケース(
1)内に密封収納した後、多孔質アルマイト皮膜の蒸気
暴露による封孔処理を施こし、緻密な皮膜とし、電子部
品を完成する。
Bath composition: Sulfuric acid 130-17Of/L Person t" 1001/min or below Bath temperature: 22-30℃ Current: 1 degree 0.6-1μ/- Treatment time: 8-30 minutes ' After the alumite treatment, the outer case is washed and dried. , use it as it is porous.Next, insert 1 into the opening of the outer case (1).
Fit the printed circuit board (3) on which the component element (4) and external terminal (5) are attached so that the component element (4) is inside the outer case (1), and then remove the total resin amount. A cast insulating resin (6) made of a liquid epoxy thermosetting resin containing 0.1 to 5 wt* of γ-glycidoxyalkyltrimethoxysilane is filled onto the printed circuit board (3). , heat and harden the component element (4), and place it in the outer case (
1) After being sealed and housed inside, the porous alumite film is sealed by exposing it to steam to form a dense film and complete the electronic component.

次に、r−グリシドキシアルキルトリメトキシシランに
ついて説明する。゛ r−グリシドキシアルキルトリメトキシシランは、分子
式が、 OH曾 −CHCH諺0(CH*)n81(OCHs)
s     (n: 整−愛)\ 1 であるシランカップリング剤で、各種樹脂の構造強化剤
として使用されているが、AIに対する接層強化銅とし
ての効果は弱く、液状エポキシ系熱硬化性樹脂にγ−グ
リシドキシアルキルトリメトキシシランを添加しても、
Alとの接着力は低く、T字剥離強度は、10#/cI
/を以下と低い。
Next, r-glycidoxyalkyltrimethoxysilane will be explained.゛r-glycidoxyalkyltrimethoxysilane has the molecular formula:
s (n: Sei-ai)\1 is a silane coupling agent that is used as a structural reinforcing agent for various resins, but its effect as a bond reinforcing copper for AI is weak, and it is used as a liquid epoxy thermosetting resin. Even if γ-glycidoxyalkyltrimethoxysilane is added to
The adhesive strength with Al is low, and the T-peel strength is 10#/cI.
/ is as low as below.

しかし、AJ衣表面、硫酸浴によりアルマイト処理を施
こし、多孔質アルマイト皮膜を形成すると、多孔質アル
マイト皮膜表面で1、次の反応が起る。
However, when the surface of the AJ coat is subjected to alumite treatment in a sulfuric acid bath to form a porous alumite film, the following reactions occur on the surface of the porous alumite film.

^t−o−5r−t こうして、アルマイト皮膜表面に、エポキシ基に対する
官能基であるγ−グリシドキシ基を有するポリシロキサ
ンが形成され、しかも、AJとの接着力が増加すると共
に、液状エポキシ系熱硬化性樹脂が、多孔質アルマイト
皮膜の孔内部にまで浸透し、くさび効果をも九らし、接
着力が飛躍的に増大したと考えられる。しかも、エポキ
シ系樹脂硬化後の適度な多孔質アルマイト皮膜の封孔処
理は、多孔質アルマイト皮膜に残存するん? (OH)
 sをKらO,に転化せしめ、アルマイト皮膜の結晶化
と体積膨張により、くさびを固定し、父、未反応のit
のγ−グリシドキシアルキルメトキシシラ/を加水分解
し、ポリシロキサン化を促進し、r−グリシドキシアル
キルメトキシシランによる悪影響を除去して、更に接着
力が増大する左考えられる。
^t-o-5r-t In this way, a polysiloxane having a γ-glycidoxy group, which is a functional group for an epoxy group, is formed on the surface of the alumite film.Moreover, the adhesive strength with AJ increases, and the liquid epoxy heat It is thought that the curable resin penetrated into the pores of the porous alumite film, reducing the wedge effect and dramatically increasing the adhesive strength. Furthermore, after the epoxy resin is cured, will the appropriate sealing treatment of the porous alumite film remain in the porous alumite film? (OH)
The wedge is fixed by crystallization and volume expansion of the alumite film, and the unreacted it
It is thought that the adhesion strength is further increased by hydrolyzing the γ-glycidoxyalkylmethoxysilane/glycidoxyalkylmethoxysilane, promoting polysiloxanization, and removing the adverse effects of r-glycidoxyalkylmethoxysilane.

以下、実施例をもとに本発明を更に詳しく説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in more detail based on Examples.

実施例1゜ 注型絶縁性樹脂として、液状エポキシ系熱硬化性樹脂と
して、日本合成社製アクメックスX7750 A/H7
0を使用し、r−グリシドギシグロビルメトキシシ2ン
を1wt%添加する。多孔質アルマイト皮膜の封孔処理
は行わず、AI外装ケースのアルマイト処理時間を変化
させて、電子部品を製作し、各々のT字剥離強度を測定
し友。第2図は、この測定結果を示したグラフである。
Example 1 As a cast insulating resin, as a liquid epoxy thermosetting resin, Akmex X7750 A/H7 manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd.
0 is used, and 1 wt% of r-glycidogysiglobylmethoxycin is added. We fabricated electronic components by varying the alumite treatment time of the AI exterior case without sealing the porous alumite film, and measured the T-peel strength of each. FIG. 2 is a graph showing the results of this measurement.

なお、アルマイト処理浴・条件は、次のと、うりである
The alumite treatment bath and conditions are as follows.

H,So、    150g// kl”      10fi/1 浴温度 27℃ 電流密度  0.8 A/d7fi” 第2図の測定結果より、アルマイト処理時間は、T字剥
離強度が20#IA−r/l  程度以上必要であるか
ら、8〜30分が適当であることがわかる。
H, So, 150g//kl" 10fi/1 Bath temperature 27℃ Current density 0.8 A/d7fi" From the measurement results in Figure 2, the alumite treatment time is such that the T-peel strength is 20#IA-r/l It is understood that 8 to 30 minutes is appropriate since it requires more than a certain amount of time.

実施例2゜ 注型絶縁性樹脂は、実施例1.と同じで、λノ外装ケー
スのアルマイト処理時間を20分とし、多孔質アルマイ
ト皮膜の封孔処理時間を変化させて、電子部品を作製し
た。アルマイト処理浴・条件は、実施例1.と同じであ
る。作製した電子部品のT字剥離強度を測定した。その
結果を、第3図に示す。なお、封孔処理は、100℃、
あることがわかる。
Example 2 The cast insulating resin was the same as Example 1. Similarly, electronic components were manufactured by setting the alumite treatment time of the λ exterior case to 20 minutes and changing the pore sealing treatment time of the porous alumite film. The alumite treatment bath and conditions are as in Example 1. is the same as The T-peel strength of the manufactured electronic component was measured. The results are shown in FIG. In addition, the sealing treatment was performed at 100°C.
I understand that there is something.

実施例3゜ 液状エポキシ系熱硬化性樹脂(日本合成社製アクメック
スX7750A/H70)に、添加するr−グリシドキ
シプロビルメトキシシランの量を変化させて、電子部品
を作製した。i外装ケースのアルマイト処理浴・条件は
実施例1.と同じで、処理時間は20分であり、多孔質
アルマイト処理浴皮膜処理時間は1時間である。作製し
た電子部品のT字剥離強度を測定し、その結果を第4図
に示した。この結果より、γ−グリシドキシプロビルメ
トキシシランの添加量は、T字剥離強度が20kV宛以
上として、0.1〜5wt% が適当であ゛ることがわ
かる。
Example 3 Electronic components were manufactured by varying the amount of r-glycidoxypropylmethoxysilane added to a liquid epoxy thermosetting resin (Akmex X7750A/H70 manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd.). i The alumite treatment bath and conditions for the exterior case are as in Example 1. Same as above, the treatment time is 20 minutes, and the porous alumite treatment bath film treatment time is 1 hour. The T-peel strength of the manufactured electronic component was measured, and the results are shown in FIG. From this result, it can be seen that the appropriate amount of γ-glycidoxypropylmethoxysilane to be added is 0.1 to 5 wt% when the T-peel strength is 20 kV or more.

実施例4゜ 従来例との比較のため、次の条件で、電子部品を作製し
た。
Example 4 For comparison with the conventional example, an electronic component was manufactured under the following conditions.

外装ケースはklである。The outer case is kl.

作製した電子部品に対して、60℃、90 SRHの高
温高湿試験、及び100℃latm 蒸気中に8時間放
置後θ℃の氷水中に5分間浸漬を1サイクルとするヒー
トサイクル試験を行った。
The manufactured electronic components were subjected to a high temperature and high humidity test at 60°C and 90 SRH, and a heat cycle test in which one cycle consisted of leaving the parts in steam at 100°C for 8 hours and then immersing them in ice water at θ°C for 5 minutes. .

これら試験結果をそれぞれ第5図(イ)、及び同図仲)
に示した。
These test results are shown in Figure 5 (a) and middle).
It was shown to.

慎5図(イ)、(ロ)のグラフで明らかなように、本発
明で得られfc電子部品は、機密性が高く耐高温高湿性
、耐熱衝撃性とも従来例に比較して顕著に向上している
。特に耐熱衝撃性では、従来例ではヒートサイクル試験
(100℃latm  蒸気8hr、暴露→O℃氷水5
分浸漬)2回程度で外装ケースと注型剤の接着面が剥離
するのに対し、本実施例では、100回程まで接着面剥
離が見られなかった。
As is clear from the graphs in Figures 5 (a) and (b), the FC electronic component obtained by the present invention has high airtightness, high temperature and high humidity resistance, and thermal shock resistance, which are significantly improved compared to conventional examples. are doing. In particular, regarding thermal shock resistance, conventional heat cycle tests (100℃ latm steam 8 hours, exposure → O℃ ice water 5 hours)
While the adhesive surface of the outer case and the casting agent peeled off after about 2 times (separate immersion), in this example, no peeling of the adhesive surface was observed until about 100 times.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

適1図は、本発明電子部品の断側面図、第2図1、@3
図、第4図は、本発明実施例のT字剥離i度試験結果を
示すグラフであり、第5図(イ)、(ロ)はそれぞれ本
発明電子部品の高温高湿試験及びヒートサイクル試験の
結果を示すグラフである。 (1)外装ケース (2)多孔質アルマイト皮膜 (3)プリント基板   (4)部品素子(5)外部端
子     (6)注型絶縁性樹脂00段部 特許出願人 アルプス電気株式会社 第1図 ”T+’v14トa4Ayl CI?IIg)    
         10σピItst、、i、ha*g
wt、chr〕(射16−141)
Figure 1 is a cross-sectional side view of the electronic component of the present invention, Figure 2 is 1, @3.
4 are graphs showing the T-shaped peel i degree test results of the examples of the present invention, and FIG. This is a graph showing the results. (1) Exterior case (2) Porous alumite film (3) Printed circuit board (4) Component element (5) External terminal (6) Casting insulating resin 00 step patent applicant Alps Electric Co., Ltd. Figure 1 “T+” 'v14toa4Ayl CI?IIg)
10σpiItst,,i,ha*g
wt, chr] (Shi 16-141)

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)表面にアルマイト皮膜を有するアルミニウム又は
、アルミニウム基合金からなる外装ケースの開口部封止
材として、γ−グリシドキシアルキルトリメトキシシラ
ンを含有する液状エポキシ系熱硬化性樹脂を用いたこと
を特徴とする電子部品。
(1) Liquid epoxy thermosetting resin containing γ-glycidoxyalkyltrimethoxysilane was used as an opening sealing material for an exterior case made of aluminum or aluminum-based alloy with an alumite film on the surface. Electronic components featuring:
(2)前記開口部封止材が、γ−グリシドキシアルキル
トリメトキシシランを0.1〜5wt%  含有する液
状エポキシ系熱硬化性樹脂であることを特徴とする特許
請求の範囲第・1項の電子部品。
(2) Claim 1, wherein the opening sealing material is a liquid epoxy thermosetting resin containing 0.1 to 5 wt% of γ-glycidoxyalkyltrimethoxysilane. Section Electronic Components.
(3)アルミニウム又はアルミニウム基合金からなる外
装ケースにアルマイト処理を施こして、外装ケース表面
に多孔質アルマイト皮膜を形成する工程と、外装ケース
開口部に、部品素子を装着し牟プリント基板を嵌合させ
る土程と、プリント基板上に、r−グリシドキシアルキ
ルトリメトキシシランを含有する液状エポキシ系熱硬化
性樹脂を充填し、加熱硬化させ、部品素子を外装ケース
内に密封収納する工程と、多孔質アル−イト皮膜の封孔
処理を行う工程とからなることを特徴とする電子部品の
製造方法。
(3) A process of performing alumite treatment on the exterior case made of aluminum or an aluminum-based alloy to form a porous alumite film on the surface of the exterior case, and mounting the component elements and inserting the printed circuit board into the opening of the exterior case. A step of filling the printed circuit board with a liquid epoxy thermosetting resin containing r-glycidoxyalkyltrimethoxysilane, curing it by heating, and sealing the component element in an outer case. 1. A method for manufacturing an electronic component, comprising the steps of: performing a sealing treatment on a porous alumite film.
(4)前記アルマイト処理を硫酸浴中で行うことを特徴
とする特許請求の範囲第3項の電子部品の製造方法。
(4) The method for manufacturing an electronic component according to claim 3, wherein the alumite treatment is performed in a sulfuric acid bath.
(5)アルマイト処理時間が、8〜30分であることを
特徴とする特許請求の範囲第3項の電子部□品の製造方
法。
(5) The method for manufacturing an electronic component according to claim 3, wherein the alumite treatment time is 8 to 30 minutes.
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