JPS58164535A - パ−フルオロ化合物の製造法 - Google Patents
パ−フルオロ化合物の製造法Info
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- JPS58164535A JPS58164535A JP4656582A JP4656582A JPS58164535A JP S58164535 A JPS58164535 A JP S58164535A JP 4656582 A JP4656582 A JP 4656582A JP 4656582 A JP4656582 A JP 4656582A JP S58164535 A JPS58164535 A JP S58164535A
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- Japan
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- fluorine gas
- perfluoro compound
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- gas
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本慢明は、Ｊイーフルオロ化合物のＩｉ造法に関する。
更に胛しくは、酸フ胃ライド化合物を変換して化学的に
安定な、それに相当するパーフルオリ化合物を製造する
方法に関する〇 一般式 ％式％ （ここで、Ｘはフッ素原子またはトリフルオロメチル基
であり、ｎはＯオたは正の整数である）で表わされる酸
７習うイド化合物は、分子の末端基に加水分解してフッ
酸を生成し易い酸７四ライド基を有しているので、腐食
性、毒性為耐熱性などへの悪影響が懸念され、そのため
にこれを化学的に安定な末端基に変換せしめることが従
来から行われている。そして、通常最も安定な末端基は
パーフルオ四アルキル−であり、このような安定な末端
基への羨換反応が、種々の方法によって行われている。
安定な、それに相当するパーフルオリ化合物を製造する
方法に関する〇 一般式 ％式％ （ここで、Ｘはフッ素原子またはトリフルオロメチル基
であり、ｎはＯオたは正の整数である）で表わされる酸
７習うイド化合物は、分子の末端基に加水分解してフッ
酸を生成し易い酸７四ライド基を有しているので、腐食
性、毒性為耐熱性などへの悪影響が懸念され、そのため
にこれを化学的に安定な末端基に変換せしめることが従
来から行われている。そして、通常最も安定な末端基は
パーフルオ四アルキル−であり、このような安定な末端
基への羨換反応が、種々の方法によって行われている。
かかる変換反応の一種として、前記〔１３式で示される
酸７ｗｉライド化合物を、次の一般式で示される、それ
に相当するカルメン階化合物に加水分解し、 ｘｏｖ、ａｙ、ｏ＋ａｙｘａｙ、ｏ −）ＨＯ７ＸＯＯ
Ｏ１！ ……（１：］（ここで、Ｘおよびｎは前記
定義の如くである）、これを５０〜３００℃の温度でフ
ッ素ガスで処理し、次の一般式で示されるパーフルオー
化合物に変換する方法が提案されている（特公昭３８−
１２１９７号公報）。
酸７ｗｉライド化合物を、次の一般式で示される、それ
に相当するカルメン階化合物に加水分解し、 ｘｏｖ、ａｙ、ｏ＋ａｙｘａｙ、ｏ −）ＨＯ７ＸＯＯ
Ｏ１！ ……（１：］（ここで、Ｘおよびｎは前記
定義の如くである）、これを５０〜３００℃の温度でフ
ッ素ガスで処理し、次の一般式で示されるパーフルオー
化合物に変換する方法が提案されている（特公昭３８−
１２１９７号公報）。
Ｘ０７．ＯＩＦ、０（ＯＦＩＯｌＦ、Ｏ→Ｈａｙ、ｘ
−・−・・・［厘］（ここで、Ｘおよびｎ
は前記定義の如くである）。
−・−・・・［厘］（ここで、Ｘおよびｎ
は前記定義の如くである）。
ところで、前記酸７０ライド化合物〔１〕は、例えば米
国特ＩＮ＋第３，２５０，８０７号明細書、同＠ａ、ｚ
ｓｏ、ｓｏｓ号明細書などに記載される方法、即ち７ツ
化セシウム触媒の存在下にテトラフルオロエチレンオ中
サイドまたはヘキサフルオロプロピレンオキサイドをア
ニオン重合させることにより得られ、その重合反応時あ
るいはそれをカルボン酸化合物〔１〕に変換させるため
の加水分解時に用いられた極性溶媒の完全な分離が容易
ではなく、その後フッ素ガス処理する際にそこに混在す
る極性溶媒がフッ素ガスの消費量を増大させる。また、
カルメン酸基のフッ素化反応では、わずかではあるが末
端に−０Ｈ７Ｑ］Ｆ、基が導入されることがあり、この
基は苛ので、ｙ応器の腐食、劣化などがもたらされる。
国特ＩＮ＋第３，２５０，８０７号明細書、同＠ａ、ｚ
ｓｏ、ｓｏｓ号明細書などに記載される方法、即ち７ツ
化セシウム触媒の存在下にテトラフルオロエチレンオ中
サイドまたはヘキサフルオロプロピレンオキサイドをア
ニオン重合させることにより得られ、その重合反応時あ
るいはそれをカルボン酸化合物〔１〕に変換させるため
の加水分解時に用いられた極性溶媒の完全な分離が容易
ではなく、その後フッ素ガス処理する際にそこに混在す
る極性溶媒がフッ素ガスの消費量を増大させる。また、
カルメン酸基のフッ素化反応では、わずかではあるが末
端に−０Ｈ７Ｑ］Ｆ、基が導入されることがあり、この
基は苛ので、ｙ応器の腐食、劣化などがもたらされる。
しかるに、前記酸７ｐライド化合物〔１〕を直接フッ素
ガスで処理すると、一段階で目的とするパーフルオロ化
合物〔夏〕が得られることが、本発明者によって見出さ
れた。従って、本発明はパーフルオ習化合物の製造法に
係り、前記一般式〔厘〕で表わされるパーフルオロ化合
物は、前記一般式〔１〕で表わされる１！７０ライド化
合物をフッ素ガスと約１００〜３５０℃の温度で処理す
ることにより製造される。
ガスで処理すると、一段階で目的とするパーフルオロ化
合物〔夏〕が得られることが、本発明者によって見出さ
れた。従って、本発明はパーフルオ習化合物の製造法に
係り、前記一般式〔厘〕で表わされるパーフルオロ化合
物は、前記一般式〔１〕で表わされる１！７０ライド化
合物をフッ素ガスと約１００〜３５０℃の温度で処理す
ることにより製造される。
同様に、末端基が酸７０ライド基の化金物を７ツ素ガス
で処理してそれをパーフルオロアルキル基に変換させる
ことは、特公昭４９−４５７１９号公報に記載されてい
る。ここで用いられている末端隈フ四ライド化合物は、
次の一般式で示され、ｗ −ｏ ＋ｏ、ｙ、ｏ＋ｒ＋ａ
ｙ、ｏ ｆ Ｏ，ＩＦ４０ＱＯ％４Ｋかかる化合物は、
ヘキサフルオロプルピレンを紫外線照射下に酸素の存在
下で反応させることにより得られ、基＋０÷は、分子鎖
に沿って不規則に分布している酸素原子を意味し、異な
るオキシペルフルオロアルキレン単位に対してペルオキ
シドの形の結合しているとされている。そして、この化
合物をフッ素ガスで処理すると、次の一般式で示される
化合物が得られ、 Ｘ−０−（−０，？４０ｐ０？、ＯｖＯ，Ｆ４０＋−Ｙ
得うれた末端基がパーフルオロアルキル基の化合物は、
もはや活性酸素や酸性官能基をいずれも全く含まないと
されており、反応生成物の平均的指数値Ｐ、ＱおよびＲ
は、出発物質の指数値Ｂ、Ｔおよびυに等しいかあるい
はそれらよりも１０襲以下の低い値であるとされている
。
で処理してそれをパーフルオロアルキル基に変換させる
ことは、特公昭４９−４５７１９号公報に記載されてい
る。ここで用いられている末端隈フ四ライド化合物は、
次の一般式で示され、ｗ −ｏ ＋ｏ、ｙ、ｏ＋ｒ＋ａ
ｙ、ｏ ｆ Ｏ，ＩＦ４０ＱＯ％４Ｋかかる化合物は、
ヘキサフルオロプルピレンを紫外線照射下に酸素の存在
下で反応させることにより得られ、基＋０÷は、分子鎖
に沿って不規則に分布している酸素原子を意味し、異な
るオキシペルフルオロアルキレン単位に対してペルオキ
シドの形の結合しているとされている。そして、この化
合物をフッ素ガスで処理すると、次の一般式で示される
化合物が得られ、 Ｘ−０−（−０，？４０ｐ０？、ＯｖＯ，Ｆ４０＋−Ｙ
得うれた末端基がパーフルオロアルキル基の化合物は、
もはや活性酸素や酸性官能基をいずれも全く含まないと
されており、反応生成物の平均的指数値Ｐ、ＱおよびＲ
は、出発物質の指数値Ｂ、Ｔおよびυに等しいかあるい
はそれらよりも１０襲以下の低い値であるとされている
。
このように、この先行技術に係る方法では、まず光酸化
重合法によって得られる出発物質の収率が一般に低く
（実施例１では１０襲以下であり、他の実施例において
も５０１ｇをこえることはない）、高価な原料を無駄に
しているばかりではなく、フッ素化反応においても、そ
の反応は末端酸７０ライド基のパーフルオロアルキル化
反応以外に基＋０＋の除央反応が行われ、これ叫伴って
この基が結合しているオキシペルフルオロアルキレン単
位の指＠＃￥の減少などといった副反応がもたらされる
こともある。
重合法によって得られる出発物質の収率が一般に低く
（実施例１では１０襲以下であり、他の実施例において
も５０１ｇをこえることはない）、高価な原料を無駄に
しているばかりではなく、フッ素化反応においても、そ
の反応は末端酸７０ライド基のパーフルオロアルキル化
反応以外に基＋０＋の除央反応が行われ、これ叫伴って
この基が結合しているオキシペルフルオロアルキレン単
位の指＠＃￥の減少などといった副反応がもたらされる
こともある。
これに対して、本発明にあっては、フッ素ガス処理さる
べき出発物質酸フロライド化合物［１）は、ヘキサフル
オロプロピレンオキサイドのアニオン重合によって約９
０〜９５％程度の好収率で得られ、しかもそれのフッ素
ガス処理に際しては、高温で処理しても末端酸７０ライ
ド基のパーフルオロアルキル化反応のみが起り、主＃Ｉ
ｉ１部分が変化することはなく、出発物質に対応する化
合物〔璽〕が得られる。
べき出発物質酸フロライド化合物［１）は、ヘキサフル
オロプロピレンオキサイドのアニオン重合によって約９
０〜９５％程度の好収率で得られ、しかもそれのフッ素
ガス処理に際しては、高温で処理しても末端酸７０ライ
ド基のパーフルオロアルキル化反応のみが起り、主＃Ｉ
ｉ１部分が変化することはなく、出発物質に対応する化
合物〔璽〕が得られる。
酸７０ライド化合物のフッ素ガス処理に用いられるフッ
素ガスは、尋れ単独でも用いられるが、一般には窒素、
ヘリウム、アルゴンなどの不活性ガスで希釈して用いら
れ、その希釈濃度（容量）は最低約１％程度であり、一
般には約５〜１００％１好ましくは約１０〜１００ ％
程度の濃度で用いられる。処理温度としては、一般に約
１００〜３５０℃、好ましくは約２００〜３５０℃、更
に好ましくは約２５０〜３２０℃の範囲が用いられ、こ
れ以下の温度では濃度１００％のフッ素ガスを用いても
反応が僅かしか進行せず、一方これ以上の温度ではパー
フルオロエーテル化合物の主鎖の切断、それに伴う分子
量の低下がもたらされる。
素ガスは、尋れ単独でも用いられるが、一般には窒素、
ヘリウム、アルゴンなどの不活性ガスで希釈して用いら
れ、その希釈濃度（容量）は最低約１％程度であり、一
般には約５〜１００％１好ましくは約１０〜１００ ％
程度の濃度で用いられる。処理温度としては、一般に約
１００〜３５０℃、好ましくは約２００〜３５０℃、更
に好ましくは約２５０〜３２０℃の範囲が用いられ、こ
れ以下の温度では濃度１００％のフッ素ガスを用いても
反応が僅かしか進行せず、一方これ以上の温度ではパー
フルオロエーテル化合物の主鎖の切断、それに伴う分子
量の低下がもたらされる。
処理装置としては、後述するようにフッ素ガス処理に伴
なう７ツ化水素の発生が殆んどみられないためその材質
に制限はなく、通常のガラス製反応容器でも用いること
ができる。また、８υ８１鉄などの金属製反応容器を使
用した場合にも、その錆の発生量は着しく少ない。
なう７ツ化水素の発生が殆んどみられないためその材質
に制限はなく、通常のガラス製反応容器でも用いること
ができる。また、８υ８１鉄などの金属製反応容器を使
用した場合にも、その錆の発生量は着しく少ない。
反応終了後の後処理は、一般に水洗、脱水後、減圧下で
乾燥させることが行われる。得られた反応生成物の末端
基がパーフルオ璽アルキル基となっていることは、？−
ＮＭＲスペクトルでの−２５〜−２６ｐｐｍ （ＯＦＯ
／、外部基準）の吸収（−ｏｏｙ ）および赤外線吸収
スペクトルの１８８０ ｔｓａ−’の吸収（−００７）
がいずれも存在しないことから確認される。
乾燥させることが行われる。得られた反応生成物の末端
基がパーフルオ璽アルキル基となっていることは、？−
ＮＭＲスペクトルでの−２５〜−２６ｐｐｍ （ＯＦＯ
／、外部基準）の吸収（−ｏｏｙ ）および赤外線吸収
スペクトルの１８８０ ｔｓａ−’の吸収（−００７）
がいずれも存在しないことから確認される。
次に、実施例について本発明を説明する。
実施例１
釆国特許第３．２！５０．８０８号明細書に記載される
方法に準拠して、触媒としての７フ化セシウム１５９お
よび溶媒としてのテトテエチレングリコールジメチルエ
ーテル２２ ｇの存在下に、ヘキサフルオロプロピレン
オキサイド２Ｋｌを一３０℃で重合させた。得られた反
応混合物を加熱して↑トラエチレングリコールを分離し
、次いで析出した７ツ化セシウムな口別した後、ｌ ｔ
ｏｒｒ ｓ ３６０℃の条件下での留出物を全部除資し
、液状の残渣１．６４（収率８０％）を得た。これは、
？−ＮＭＲスペクトルおよび赤外線吸収スペクトルの測
定結果から、次の構造を有する酸７ｐライド化合物と考
えられる。
方法に準拠して、触媒としての７フ化セシウム１５９お
よび溶媒としてのテトテエチレングリコールジメチルエ
ーテル２２ ｇの存在下に、ヘキサフルオロプロピレン
オキサイド２Ｋｌを一３０℃で重合させた。得られた反
応混合物を加熱して↑トラエチレングリコールを分離し
、次いで析出した７ツ化セシウムな口別した後、ｌ ｔ
ｏｒｒ ｓ ３６０℃の条件下での留出物を全部除資し
、液状の残渣１．６４（収率８０％）を得た。これは、
？−ＮＭＲスペクトルおよび赤外線吸収スペクトルの測
定結果から、次の構造を有する酸７ｐライド化合物と考
えられる。
得られたＷ１７０ライド化合物をガラス製反応器中に仕
込み、窒素ガスで２０襲濃度に希釈されたフッ素ガスを
用い、３００℃で４時間処理した。１２．３Ｉのフッ素
ガス（２５℃、１気圧での換算値、以下同じ）が消費さ
れ、次の構造を有すると考えらレルパーフルオロ化合物
が１．５７ Ｋｌ （収率７８弧）得られた。
込み、窒素ガスで２０襲濃度に希釈されたフッ素ガスを
用い、３００℃で４時間処理した。１２．３Ｉのフッ素
ガス（２５℃、１気圧での換算値、以下同じ）が消費さ
れ、次の構造を有すると考えらレルパーフルオロ化合物
が１．５７ Ｋｌ （収率７８弧）得られた。
得られたパーフルオロ化合物について、促進７ツ化水素
化試験を次のようにして行なった。パーフルオロ化合物
に、１００℃で毎分１０１の通気量の空気を２４時間通
じ、発生した７ツ化水素の量をランタン アリザリン錯
体（同位化学製品ドータイト アルフツフン）を用いて
、Ｎ＆ＩＰを標準としている７６０ ｍｍの吸光度を測
定する吸光分析法によって定量したところ、パーフルオ
ロ化合物ｌり当りの７ツ化水素発生量は２．４ Ｘ １
０−’モルであった。
化試験を次のようにして行なった。パーフルオロ化合物
に、１００℃で毎分１０１の通気量の空気を２４時間通
じ、発生した７ツ化水素の量をランタン アリザリン錯
体（同位化学製品ドータイト アルフツフン）を用いて
、Ｎ＆ＩＰを標準としている７６０ ｍｍの吸光度を測
定する吸光分析法によって定量したところ、パーフルオ
ロ化合物ｌり当りの７ツ化水素発生量は２．４ Ｘ １
０−’モルであった。
実１ｍＮ２
実施例１で得られた酸７０ライド化合物のフッ素ガス処
理を、気液接触塔を用いて行なった。気液接触塔として
は、ｊＩ径が２５．４■、長さが３００−で、塔充填物
としてステンレス−−８デイクソンパツキンが充填され
ているものが用いられ、液循環流量約１０帷物、温度２
５０℃で２０襲濃度の窒素ガス希釈フッ素ガスで４時間
処理した。１１．１ ／のフッ素ガスが消費され、その
後フッ素ガス処理に用いられた気液接触塔を分解し１発
生１分離された錆の総量な測定したところ、約０．４ｇ
であった。
理を、気液接触塔を用いて行なった。気液接触塔として
は、ｊＩ径が２５．４■、長さが３００−で、塔充填物
としてステンレス−−８デイクソンパツキンが充填され
ているものが用いられ、液循環流量約１０帷物、温度２
５０℃で２０襲濃度の窒素ガス希釈フッ素ガスで４時間
処理した。１１．１ ／のフッ素ガスが消費され、その
後フッ素ガス処理に用いられた気液接触塔を分解し１発
生１分離された錆の総量な測定したところ、約０．４ｇ
であった。
得られたパーフルオロ化合物の促進７ツ化水素化試験を
ｖ４施例１と同様に行なった結果、パーフルオロ化合物
１ｇ当りのフン化水素発生量は３．９ＸＩＯモルであっ
た。
ｖ４施例１と同様に行なった結果、パーフルオロ化合物
１ｇ当りのフン化水素発生量は３．９ＸＩＯモルであっ
た。
比較例１
の重合物に１０倍量のトリフルオルトリク四ルエタンを
加え、この溶液に溶媒と同容量の水を加えて、酸フ資ラ
イド化合物の加水分解反応を行なった。加水分解反応は
、室温下で６時間行われ、その後溶媒および水を留去し
、次いでｌ ｔｏｒｒ ５３６０℃での留出物を除去し
た。次の構造を有すると考えられるカルボン酸化合物が
得られ、 この化合物についてのフッ素ガス処理が、実施例１と同
様に行われた０フツ素ガスの消％＃菫は、２０．１１で
あった。
加え、この溶液に溶媒と同容量の水を加えて、酸フ資ラ
イド化合物の加水分解反応を行なった。加水分解反応は
、室温下で６時間行われ、その後溶媒および水を留去し
、次いでｌ ｔｏｒｒ ５３６０℃での留出物を除去し
た。次の構造を有すると考えられるカルボン酸化合物が
得られ、 この化合物についてのフッ素ガス処理が、実施例１と同
様に行われた０フツ素ガスの消％＃菫は、２０．１１で
あった。
得られたパーフルオロ化合物の促進フッ化水素化試験を
実施例１と同様に行なった結果、パーフルオロ化合物１
ｇ当りのフッ化水素発生量は７．２×１０ モルであ
った。
実施例１と同様に行なった結果、パーフルオロ化合物１
ｇ当りのフッ化水素発生量は７．２×１０ モルであ
った。
比較例２
比較例２で得られたカルボン酸化合物についてのフッ素
ガス処理が、実施例２と同様に行われた。
ガス処理が、実施例２と同様に行われた。
フッ素ガスの消費量は１８．７９であり、気液接触塔に
発生、分離した錆の総量は約５．２９であった。
発生、分離した錆の総量は約５．２９であった。
得られたパーフルオロ化合物の促進フッ化水素化試験を
実施例１と同様に行なった結果、パーフルオロ化合物１
ｇ当りのフッ化水素発生社は５．６Ｘ １０−’であっ
た。
実施例１と同様に行なった結果、パーフルオロ化合物１
ｇ当りのフッ化水素発生社は５．６Ｘ １０−’であっ
た。
実施例３
米国特許１３，２５０，８０８号明細書に記載される方
法に準拠して、触媒としての活性炭１９の存在下に、テ
トラフルオロエチレンオキサイド５５９をｔｈｓ合物を
、バーフルオロジメチルシフ四ブタンに熔解、ｐ通し、
白色のワックス状物を得、これからＱ、ｌ ｔｏｒｒ
ｓ ３００℃以上の条件下で留出物を全部除去し、液吠
の残渣を得た。これは？ −ＭＭＩスペタＦルおよび赤
外線吸収スペクトルの測定結果から、次の構造を有する
ーフロライド化合物と考えられる。
法に準拠して、触媒としての活性炭１９の存在下に、テ
トラフルオロエチレンオキサイド５５９をｔｈｓ合物を
、バーフルオロジメチルシフ四ブタンに熔解、ｐ通し、
白色のワックス状物を得、これからＱ、ｌ ｔｏｒｒ
ｓ ３００℃以上の条件下で留出物を全部除去し、液吠
の残渣を得た。これは？ −ＭＭＩスペタＦルおよび赤
外線吸収スペクトルの測定結果から、次の構造を有する
ーフロライド化合物と考えられる。
ａｙ、ａｔ、ｏ＋ａｙ２ａｘｆｆｉｏ−ｙ ａ’ｐ、ａ
ｏｙこの１１７０ライド化合物２０９をガラス製反応容
器中に仕込み、窒素ガスで２０％濃度に希釈されたフッ
素ガスを用い、３００℃で６時間処理した。
ｏｙこの１１７０ライド化合物２０９をガラス製反応容
器中に仕込み、窒素ガスで２０％濃度に希釈されたフッ
素ガスを用い、３００℃で６時間処理した。
０．１４ ｔのフッ素ガスが消費され、ｆｆ−ＩＭ！ス
ペクトルおよび赤外線吸収スペクトルの測定結果から、
次の構造を有すると考えられるパーフルオロ化合物が得
られた。
ペクトルおよび赤外線吸収スペクトルの測定結果から、
次の構造を有すると考えられるパーフルオロ化合物が得
られた。
０ν、ｏ’ｙ、ｏ÷０１，０１２０匁０１５得られたパ
ーフルオシ化合物の促進フッ素化試験を実施例１と同様
に行なった結果、パーフルオリ化合物１り当りの７ツ化
水素発生量は４．Ｉ Ｘｌ０−’モルであった。
ーフルオシ化合物の促進フッ素化試験を実施例１と同様
に行なった結果、パーフルオリ化合物１り当りの７ツ化
水素発生量は４．Ｉ Ｘｌ０−’モルであった。
以上の各実施例および各比較例の対比から、フッ素ガス
処理で消費されるフッ素ガス量および発生する錆の総量
は、いずれも１１７”ライド化合物の方がカルボン酸化
合物よりも少ないことが分る。
処理で消費されるフッ素ガス量および発生する錆の総量
は、いずれも１１７”ライド化合物の方がカルボン酸化
合物よりも少ないことが分る。
フッ素ガス消費量が少ないということは、減圧蒸留時に
酸７リライド化合物の方がカルボン酸化合物よりもテシ
ラエチレンダリコールジメチルエーテルなどの溶媒との
分離性にすぐれているためと考えられ、また蛸の発生量
が少ないということは、フッ素ガス処理時に酸７冒うイ
ド化合物の方がカルボン酸化合物よりも副反応が生じ難
く、それに伴って発生する７ツ化水素の量が少ないこと
を意味しており、このことはパーフルオロ化合物を潤滑
油などの各種用途に用いた場合に、金属の腐食を低減さ
せるという効果を冑する。
酸７リライド化合物の方がカルボン酸化合物よりもテシ
ラエチレンダリコールジメチルエーテルなどの溶媒との
分離性にすぐれているためと考えられ、また蛸の発生量
が少ないということは、フッ素ガス処理時に酸７冒うイ
ド化合物の方がカルボン酸化合物よりも副反応が生じ難
く、それに伴って発生する７ツ化水素の量が少ないこと
を意味しており、このことはパーフルオロ化合物を潤滑
油などの各種用途に用いた場合に、金属の腐食を低減さ
せるという効果を冑する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式 ％式％ （ここで、Ｘはフッ素原子またはトリフルオロメチル基
であり、ｎは０壇たけ正の整数である）で表わされる際
７０ライド化合物を、フッ素ガスと約１００〜３５０℃
の温度で処理することを特徴とする一般式 ％式％ （ここで、Ｘおよびｎは前記定義の如くである）で衷わ
されるパーフルオロ化合物の製造法。 ２、不活性ガスで希釈されたフッ素ガスが用いられる特
許請求の範囲第１項記載のパーフルオリ化合物の製造法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4656582A JPS58164535A (ja) | 1982-03-24 | 1982-03-24 | パ−フルオロ化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4656582A JPS58164535A (ja) | 1982-03-24 | 1982-03-24 | パ−フルオロ化合物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58164535A true JPS58164535A (ja) | 1983-09-29 |
| JPS6210490B2 JPS6210490B2 (ja) | 1987-03-06 |
Family
ID=12750836
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4656582A Granted JPS58164535A (ja) | 1982-03-24 | 1982-03-24 | パ−フルオロ化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58164535A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5185473A (en) * | 1991-06-21 | 1993-02-09 | Hoechst Aktiengesellschaft | Process for the preparation of perfluorinated ethers |
| US6936722B2 (en) * | 2002-02-05 | 2005-08-30 | Solvay Solexis S.P.A. | Polyhalogenated ethers |
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