JPS58164215A - 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法 - Google Patents
電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法Info
- Publication number
- JPS58164215A JPS58164215A JP57047847A JP4784782A JPS58164215A JP S58164215 A JPS58164215 A JP S58164215A JP 57047847 A JP57047847 A JP 57047847A JP 4784782 A JP4784782 A JP 4784782A JP S58164215 A JPS58164215 A JP S58164215A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- etching
- aluminum foil
- foil
- capacitor
- electrolytic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング
方法に関するもので、第１回目の直流エツチング方法に
より得られたアルミニウム箔を第２回目の交流エツチン
グ方法によりエツチング（粗面化）するというエツチン
グ方法に関するものである。
方法に関するもので、第１回目の直流エツチング方法に
より得られたアルミニウム箔を第２回目の交流エツチン
グ方法によりエツチング（粗面化）するというエツチン
グ方法に関するものである。
電解コンデンサ用のアルミニウム箔を直流エツチング方
法によりエツチングし、次に交流エツチング方法により
エツチングするという２段階の直先ず、第１図に箔鎖電
法による直流エツチング装置を示す。直流電源（１ｄ）
はアルミニウム箔（２）に通電するための給電用のロー
ラ（３）と、カーボン電極（４）との間に接続される。
法によりエツチングし、次に交流エツチング方法により
エツチングするという２段階の直先ず、第１図に箔鎖電
法による直流エツチング装置を示す。直流電源（１ｄ）
はアルミニウム箔（２）に通電するための給電用のロー
ラ（３）と、カーボン電極（４）との間に接続される。
そして、カーボン電極（４）はエツチング槽（５）中の
例えば塩酸もしくはその塩類を主体としたエツチング液
（６）に浸漬されている。このような直流エツチング装
置によってアルミニウム箔（２）をエツチングすると、
アルミニウム箔（２）の芯部への腐蝕が多く、貫通孔を
有したアルミニウム箔（２ａ）が得られる。
例えば塩酸もしくはその塩類を主体としたエツチング液
（６）に浸漬されている。このような直流エツチング装
置によってアルミニウム箔（２）をエツチングすると、
アルミニウム箔（２）の芯部への腐蝕が多く、貫通孔を
有したアルミニウム箔（２ａ）が得られる。
第２図に液中鎖電法による交流エツチング装置を示す。
交流電源（１ａ）はカーボン電極（４ａ）と（４ｂ）と
の間に接続される。このような液中鎖電法により貫通孔
を有したアルミニウム箔（２ａ）を交流エツチングする
と、アルミニウム箔（２ａ）の貫通孔より交流電流がパ
スしてしまい有効的な交流エツチングは行なえない。
の間に接続される。このような液中鎖電法により貫通孔
を有したアルミニウム箔（２ａ）を交流エツチングする
と、アルミニウム箔（２ａ）の貫通孔より交流電流がパ
スしてしまい有効的な交流エツチングは行なえない。
第３図に箔鎖電法による交流エツチング装置を示す。交
流電源（１ａ）は給電用のローラ（３）とカーボン電極
（４）との間に接続される。このような箔鎖電法により
アルミニウム箔（２ａ）を交流エツチングすると、アル
ミニウム箔（２ａ）とカーボン電極（４）、どの間に起
電力が発生し、交流電流に直流電流が重畳された電流が
流れるために本来の交流エツチングが行なえない。この
状態であらかじめ得られた貫通孔を有したアルミニウム
エツチド箔を用いエツチングを行うと、かえって、それ
までのエツチング処理を劣化させてしまう。
流電源（１ａ）は給電用のローラ（３）とカーボン電極
（４）との間に接続される。このような箔鎖電法により
アルミニウム箔（２ａ）を交流エツチングすると、アル
ミニウム箔（２ａ）とカーボン電極（４）、どの間に起
電力が発生し、交流電流に直流電流が重畳された電流が
流れるために本来の交流エツチングが行なえない。この
状態であらかじめ得られた貫通孔を有したアルミニウム
エツチド箔を用いエツチングを行うと、かえって、それ
までのエツチング処理を劣化させてしまう。
次に、第４図に第３図に示した箔鎖電法による交流エツ
チング装置を改良した装置を示す。交流電源（１ａ）と
ローラ（３）との間にダイオードと可変抵抗との組合わ
せからなる波形調整器（７）が接続されている０この波
形調整器（７）により、アルミニウム箔（２ａ）とカー
ボン電極（４）との間で発生した起電力による直流電流
が重畳された交流電流の＋側と一側の波高を調整し、見
掛は上＋、−の電位を合わせることができ、これにより
交流エソチグとは異なってしまう。その最も顕著な差は
エツチング後のアルミニウム箔（２ｂ）に表裏ができる
ことである。
チング装置を改良した装置を示す。交流電源（１ａ）と
ローラ（３）との間にダイオードと可変抵抗との組合わ
せからなる波形調整器（７）が接続されている０この波
形調整器（７）により、アルミニウム箔（２ａ）とカー
ボン電極（４）との間で発生した起電力による直流電流
が重畳された交流電流の＋側と一側の波高を調整し、見
掛は上＋、−の電位を合わせることができ、これにより
交流エソチグとは異なってしまう。その最も顕著な差は
エツチング後のアルミニウム箔（２ｂ）に表裏ができる
ことである。
しかるに、本発明は直流エツチング後のアルミニウム箔
を箔饋電法により交流エツチングするに際し、アルミニ
ウム箔とカーボン電極との間で発生する起電力（直流分
）をコンデンサにより遮断するようにした交流エツチン
グ方法を提供すると共に、従来より高倍率のアルミニウ
ムエツチド箔を得ることを目的としたものである。
を箔饋電法により交流エツチングするに際し、アルミニ
ウム箔とカーボン電極との間で発生する起電力（直流分
）をコンデンサにより遮断するようにした交流エツチン
グ方法を提供すると共に、従来より高倍率のアルミニウ
ムエツチド箔を得ることを目的としたものである。
第５図に本発明に係る箔鎖電法による交流エツチング装
置を示す。交流電源（１ａ）はコンデンサ（８）を て
給電用のローラ（３）とカーボン電極（４）との間に接
続される。そして、カーボン電極（４）と直流エツチン
グされたアルミニウム箔（２ａ）は、例えば塩酸もしく
はその塩類を主体としたエツチング液に浸漬される。ま
た、アルミニウム箔（２ａ）は矢印方向に移動される。
置を示す。交流電源（１ａ）はコンデンサ（８）を て
給電用のローラ（３）とカーボン電極（４）との間に接
続される。そして、カーボン電極（４）と直流エツチン
グされたアルミニウム箔（２ａ）は、例えば塩酸もしく
はその塩類を主体としたエツチング液に浸漬される。ま
た、アルミニウム箔（２ａ）は矢印方向に移動される。
このような箔鎖電デンサ（８）によって遮断され、有効
な交流エツチングが可能となる。このコンデンサ（８）
は第５図に示すように１個でも、また第６図（ａ）、（
ｂ）に示すように複数個、ここでは２個であるが、直列
（無極性）接続しても良いものである。なお、エツチン
グ処理の効果は同等であるが、コンデンサ（８）を無極
性接続した方がコンデンサ（８）自体の保護が可能でコ
ンデンサ（８）の長寿命化を期待できる。
な交流エツチングが可能となる。このコンデンサ（８）
は第５図に示すように１個でも、また第６図（ａ）、（
ｂ）に示すように複数個、ここでは２個であるが、直列
（無極性）接続しても良いものである。なお、エツチン
グ処理の効果は同等であるが、コンデンサ（８）を無極
性接続した方がコンデンサ（８）自体の保護が可能でコ
ンデンサ（８）の長寿命化を期待できる。
本発明の効果を明確にするために、従来例と本発明の実
施例の比較を行なう。
施例の比較を行なう。
交流エツチングに先立っで、第１図に示した直流エツチ
ング装置により、箔厚９−ｏ〔μｍ〕、純度９９．９９
〔チ〕のアルミニウム箔（２）を次に示す条件で直流エ
ツチングする。
ング装置により、箔厚９−ｏ〔μｍ〕、純度９９．９９
〔チ〕のアルミニウム箔（２）を次に示す条件で直流エ
ツチングする。
直流エツチング条件
エツチングｉ： Ｈｃ、、・・、、、、、、２（ｖｏ
１％〕Ａｌ（，１ｍ−・・・・・１（ｗｔ％）Ｈ２晶４
・・・・・・・ １（ｖｏｌチ〕エツチング温度： ８
０［℃） 電流密度： １０００［ｍ〜−〕エツチング時間
： ３０（ｓｅｃ） 因みに、このような条件により得られたアルミニウム箔
（２ａ）について、リン酸２ （ｖｏ１％〕の洗浄液で
洗浄を行なった後に、リン酸１アンモン０．１〔ｗｔチ
〕の化成液にて１００ 〔Ｖ）化成を施した場合アルミ
ニウムエツチド箔の静電容量は２．４〔μＦ贋〕 であ
った。
１％〕Ａｌ（，１ｍ−・・・・・１（ｗｔ％）Ｈ２晶４
・・・・・・・ １（ｖｏｌチ〕エツチング温度： ８
０［℃） 電流密度： １０００［ｍ〜−〕エツチング時間
： ３０（ｓｅｃ） 因みに、このような条件により得られたアルミニウム箔
（２ａ）について、リン酸２ （ｖｏ１％〕の洗浄液で
洗浄を行なった後に、リン酸１アンモン０．１〔ｗｔチ
〕の化成液にて１００ 〔Ｖ）化成を施した場合アルミ
ニウムエツチド箔の静電容量は２．４〔μＦ贋〕 であ
った。
次に、直流エツチング処理されたアルミニウム箔（２ａ
）を第２図に示した液中鎖電法による交流エツチング装
置（従来例１ ） 、’Ｍａ図に示した箔饋電法による
交流エツチング装置（従来例２）、第４図に示した箔鎖
電法による交流エツチング装置（従来例３）、第５図に
示した本発明に係る交流エツチング装置（実施例）によ
りそれぞれ次に示す条件で交流エツチングする。
）を第２図に示した液中鎖電法による交流エツチング装
置（従来例１ ） 、’Ｍａ図に示した箔饋電法による
交流エツチング装置（従来例２）、第４図に示した箔鎖
電法による交流エツチング装置（従来例３）、第５図に
示した本発明に係る交流エツチング装置（実施例）によ
りそれぞれ次に示す条件で交流エツチングする。
交流エツチング条件
エツチング液： Ｈｃｌ ・・・・・・ ５（ｖ
ｏ１％）Ａｌｃ Ｉｓ −−３［ｗ’］ Ｈ１ＳＯ４−＝・０５［ｖ０’％〕 ＨｓＰＱａ −−１ｆｌ［：ｖｏ”）エツチング温度
： ４５（’Ｃ） 電流密度： ４００ （ｍ〜−〕エツチング時
間： ２２５（ｓｅｅ）ただし、本発明の実施例にお
いては、コンデンサ（８）の接続は第６図（ａ）を採用
した。使用したコンデンサ（８）の定格は、１００ρ０
０（μＦ）Ｘ２（無極性結合）である。
ｏ１％）Ａｌｃ Ｉｓ −−３［ｗ’］ Ｈ１ＳＯ４−＝・０５［ｖ０’％〕 ＨｓＰＱａ −−１ｆｌ［：ｖｏ”）エツチング温度
： ４５（’Ｃ） 電流密度： ４００ （ｍ〜−〕エツチング時
間： ２２５（ｓｅｅ）ただし、本発明の実施例にお
いては、コンデンサ（８）の接続は第６図（ａ）を採用
した。使用したコンデンサ（８）の定格は、１００ρ０
０（μＦ）Ｘ２（無極性結合）である。
この交流エツチング条件にもとづいて得られたアルミニ
ウム箔（２ｂ）について、リン酸２（ｖｏｌチ〕 の洗
浄液で洗浄を行なった後に、リン酸ｌアした場合の従来
例１．２．３および本発明実施例の各アルミニウム箔の
静電容量値を第１表に示す。
ウム箔（２ｂ）について、リン酸２（ｖｏｌチ〕 の洗
浄液で洗浄を行なった後に、リン酸ｌアした場合の従来
例１．２．３および本発明実施例の各アルミニウム箔の
静電容量値を第１表に示す。
第１表から判かるように、本発明により得られた箔は従
来例３による箔よりもはるかに高倍率の箔を提供できる
ものである。また、本発明に係る方法は電源回路中にコ
ンデンサを挿入するだけで良いため、従来例３のような
複雑な回路や調整を必要がないとい′う利点を奏するも
のである。
来例３による箔よりもはるかに高倍率の箔を提供できる
ものである。また、本発明に係る方法は電源回路中にコ
ンデンサを挿入するだけで良いため、従来例３のような
複雑な回路や調整を必要がないとい′う利点を奏するも
のである。
第１図は直流エツチング装置を示す図、第２図は従来の
液中鎖電法による交流エツチング装置を示す図、第３図
および第４図は従来の箔鎖電法による交流エツチング装
置を示す図、第５図は本発明に係る箔饋電法による交流
エツチング装置を示す図、第６図は第５図におけるコン
デンサ（８）の他の接続状態を示す図である。 図中、（１ａ）、（１ｂ ）−・・電源、（２）、（２
ａ）（２ｂ）・・・アルミニウム箔、（３）・・・ロー
ラ、（４）、（４り、（４ｂ）・・・カーボン電極、（
５）・・・エツチング槽、（６）・・・エツチング液、
（７し・波形調整器、（８）・・・コンデンサ。 特許出願人 エルナー株式会社 手続補正書 昭和５７年ｒ月８日 特許庁長官 殿 １、事件の表示 昭和５７年特許願第４７８４７号 ２、発明の名称 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法３、
補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 神奈川県藤沢市辻堂新町２丁目２番１号） 一フ 明細書第１項、特許請求の範囲末尾、下から第５行２、
特許請求の範囲 （１） 直流エツチング処理されたアルミニウム箔を
箔績電法により交流エツチング処理するに際し、電源回
路中にコンデンサを挿入し、エツチング槽中の該アルミ
ニウム箔と電極との間で発生する起電力（直流分）を該
コンデンサで遮断するようにしたことを特徴とする電解
コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法０ （２、特許請求の範囲（１）において、該コンデンサを
無極性接続してなる電解コンデンサ用アルミニウム箔の
エツチング方法。
液中鎖電法による交流エツチング装置を示す図、第３図
および第４図は従来の箔鎖電法による交流エツチング装
置を示す図、第５図は本発明に係る箔饋電法による交流
エツチング装置を示す図、第６図は第５図におけるコン
デンサ（８）の他の接続状態を示す図である。 図中、（１ａ）、（１ｂ ）−・・電源、（２）、（２
ａ）（２ｂ）・・・アルミニウム箔、（３）・・・ロー
ラ、（４）、（４り、（４ｂ）・・・カーボン電極、（
５）・・・エツチング槽、（６）・・・エツチング液、
（７し・波形調整器、（８）・・・コンデンサ。 特許出願人 エルナー株式会社 手続補正書 昭和５７年ｒ月８日 特許庁長官 殿 １、事件の表示 昭和５７年特許願第４７８４７号 ２、発明の名称 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法３、
補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 神奈川県藤沢市辻堂新町２丁目２番１号） 一フ 明細書第１項、特許請求の範囲末尾、下から第５行２、
特許請求の範囲 （１） 直流エツチング処理されたアルミニウム箔を
箔績電法により交流エツチング処理するに際し、電源回
路中にコンデンサを挿入し、エツチング槽中の該アルミ
ニウム箔と電極との間で発生する起電力（直流分）を該
コンデンサで遮断するようにしたことを特徴とする電解
コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法０ （２、特許請求の範囲（１）において、該コンデンサを
無極性接続してなる電解コンデンサ用アルミニウム箔の
エツチング方法。
Claims (1)
- （１） 直流エツチング処理されたアルミニウム箔を
ン、釦電法により交流エツチング処理するに際し、１；
１源回路中にコンデンサを挿入し、エツチング槽中の該
アルミニウム箔と電極との間で発生する起電力（直流分
）を該コンデンサで遮断するようにしたことを特徴とす
る電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法。 （２、特許請求の範囲（１）において、該コンデンサを
無極性接続してなる電解コンデンサ用アルミニウム箔の
エツチング方法。 ０引゛用文献 特公昭４９−４０５３７ ％公開４３−２９９７６
特公昭４６−３６２９１
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57047847A JPS58164215A (ja) | 1982-03-25 | 1982-03-25 | 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57047847A JPS58164215A (ja) | 1982-03-25 | 1982-03-25 | 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58164215A true JPS58164215A (ja) | 1983-09-29 |
| JPS6256647B2 JPS6256647B2 (ja) | 1987-11-26 |
Family
ID=12786754
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57047847A Granted JPS58164215A (ja) | 1982-03-25 | 1982-03-25 | 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58164215A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008193096A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Young Joo Oh | 金属キャパシタ及びその製造方法 |
| JP2009105370A (ja) * | 2007-10-19 | 2009-05-14 | Young Joo Oh | 金属キャパシタ及びその製造方法 |
| JP2009170861A (ja) * | 2008-01-11 | 2009-07-30 | Young Joo Oh | 金属キャパシタ及びその製造方法 |
-
1982
- 1982-03-25 JP JP57047847A patent/JPS58164215A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008193096A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Young Joo Oh | 金属キャパシタ及びその製造方法 |
| JP2009105370A (ja) * | 2007-10-19 | 2009-05-14 | Young Joo Oh | 金属キャパシタ及びその製造方法 |
| JP2009170861A (ja) * | 2008-01-11 | 2009-07-30 | Young Joo Oh | 金属キャパシタ及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6256647B2 (ja) | 1987-11-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4236992A (en) | High voltage electrolytic cell | |
| DE3262299D1 (en) | Method and electrical apparatus for the enhanced recovery of oil | |
| US2930741A (en) | Electrolytic capacitors | |
| JPS58164215A (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法 | |
| US6201336B1 (en) | DC bias scheme for field induced piezoelectric power generators | |
| ATE218745T1 (de) | Verfahren zur herstellung von bauelementen auf metallfilmbasis | |
| US3297555A (en) | Etching of tantalum and columbium foils | |
| EP0194317B1 (en) | Method of producing electrolytic capacitors. | |
| JPS6357935B2 (ja) | ||
| US1428050A (en) | Electrolytic apparatus and method of depolarizing the same | |
| US1976556A (en) | Method of treating dry rectifiers | |
| US672913A (en) | Electrolytic current rectifier and condenser. | |
| JP2847717B2 (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔のエッチング方法 | |
| ATE47922T1 (de) | Behandlung von photographischen entwicklungsbaedern. | |
| JPH10112423A (ja) | アルミ電解コンデンサ用陽極箔の化成方法 | |
| US984011A (en) | Process of etching by electrolysis on relief or intaglio. | |
| US1706950A (en) | Electrolytic rectifier | |
| JPS62113416A (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法 | |
| US1032723A (en) | Apparatus for preventing metal incrustation. | |
| JPS59224113A (ja) | アルミ電解コンデンサ用陽極箔の製造方法 | |
| JPS5937760B2 (ja) | 交流電解メツキによる表面処理方法 | |
| JPH02185314A (ja) | 放電加工方法 | |
| JPS6010318U (ja) | 電源シ−ケンス作成回路 | |
| JPS6050915A (ja) | 積層形固体電解コンデンサの製造方法 | |
| JP2005251884A (ja) | アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |