JPS58159971A - 半田接着法 - Google Patents

半田接着法

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Publication number
JPS58159971A
JPS58159971A JP4261682A JP4261682A JPS58159971A JP S58159971 A JPS58159971 A JP S58159971A JP 4261682 A JP4261682 A JP 4261682A JP 4261682 A JP4261682 A JP 4261682A JP S58159971 A JPS58159971 A JP S58159971A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solder
substrates
wettability
substrate
area
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4261682A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihiro Suzuki
鈴木 芳博
Tadashi Minagawa
皆川 忠
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP4261682A priority Critical patent/JPS58159971A/ja
Publication of JPS58159971A publication Critical patent/JPS58159971A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00Soldering, e.g. brazing, or unsoldering

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発−は半田−れ性の異なる基板を用いることによp基
板間の半田中のlイドを低減するのに好適な半田接着法
Kilする。
半田中のボイドを低減する方法としては、基板間に空隙
が残らなiように、基板を傾斜させた状態で加熱し、融
けた半田を上部から基板間に流し込んで、接着する方法
がある。九にし、この方式では基板層数を重ね合せて接
着すると、基板相互でずれが生じ九り、まえ半田の厚さ
が不均一になp中すい欠点がある。
本発明の目的は、ボイドO少碌くすることによ如、半田
の熱伝達及び後着強直を向上し九半田接着法を提供する
ことにある。
本発明の特徴は、半田濡れ性の異なる基板s臣を半田を
介して対向させ、同時に加熱し、鍛初に半田滴れ性のよ
い基板と半田とを接着させ、つ−で半田滴れ性の悪い基
板と半田とを接着させる点に番る。つt〉、基板と半田
とを離層の接着プロセスで、濡れ性に対する@wiIの
ちがいによ如2段階に分けて働着することによシ、その
間に空−が残らないようにして基@を半田接着するもの
でるる。
以下、本発明を実1IIA例により説明する。
*M?Il  l 鋼板および光沢電気ニッケルめつ禽したi++m板の形
状がそれぞれ直径25箇の円板、板厚2■でめplかつ
j41のそシ〔基板表面O単位長さくβm)に対する凹
を九は凸(−)〕がともに1/1以下であるような基板
を用い、wI4#Lを下部jii*とし、光沢ニッケル
めっきした鋼板を上部基板として、組成がpbso%−
3H2O%であるような半田箔(直径25−1箔厚α2
w)を介して対向させ、320Cで5分間加熱して、半
田接着し友、下部着板に対する上部着板の半田錆れ性の
比はα13でるる。対向−面積に対する半田ボイド生F
i1.Ijj:1積の比(璽” /cIR” )は25
でめり、半田ボイドの生成量は少なかつ九。
実施例 2 鋼板および光沢電気ニッケルめっきし丸鋼板の形状がそ
れぞれ直4!に25−の円板、板厚2−であり、かつ基
板のそ如〔基板表面の単位長さく−)に対する凹を九は
凸(■)〕がともに1/1以下であるような基板を用い
、鋼板を下部基板とし、無光沢ニッケルめっきした鋼板
を上部基板として、組成がPb40%−3H6O%であ
るような半田箔(直径25−1箔厚0.2 m )を介
して対向させ、240Cで5分間加熱して、半田接着し
た。下部基板に対する上部基板の半田濡れ性の比は0.
12である。対向部面積に対する半田ボイドの生成面積
の比は&5であシ、半田ボイドの生成量は少なかった。
実施例 3 鋼板およびニッケル無電解めっきしたアルZす絶縁板の
形状がそれぞれ直径25−の円板、板厚2wでToり、
かつ基板のそり〔基板表面の単位長さくw)に対する凹
または凸(■)〕がともに1 / 1.5以下であるよ
うな基板を用い、鋼板を下部基板とし、無光沢ニッケル
めつ亀した鋼板を上部基板として、組成がPb40%−
8!160%で      1:あるような半田箔(直
径25■、箔厚0.2m11+ )を介して対向させ、
240C,5分間加熱して、半田接着した。下部基板に
対する上部基板の半田濡れ性の比はα15でめる。対向
部面積に対する半田ボイドの生成面積の比はLOであり
、半田ボイドの生成量は少なかった。
実施例 4 無光沢電気ニッケルめっきし丸鋼板および光沢ニッケル
めっきした鋼板の形状がそれぞれ直径25■の円板、板
厚2mでめシ、かつ基板のそり〔基板表面の単位長さく
−)に対する凹または凸(m)〕がともに以下であるよ
うな基板を用い、無光沢電気ニッケルめっきした鋼板を
下部基板とし、光沢ニッケルめつ龜し丸鋼板を上部基板
として、組成がPb40%−81160%であるような
半田箔(直径25−1箔厚0.2■)を介して対向させ
、240C,5分間加熱して、半田接着した。
下部基板に対する上部基板の半田濡れ性の比はt・0.
18である。対向部面積に対する半田ボイドの生成面積
の比は&3でToり、半田ボイドの生成量は少なかった
実施V115 鋼板および光沢電気ニッケルめっきし丸鋼板の形状がそ
れぞれ直g125■の円板、板厚2■であシ、かつ基板
のそシ〔基板表面の単位長さく■)に対する凹または凸
(−)〕がともに以下であるような基板を用い、鋼板を
下部基板とし、光沢電気ニッケルめ・つきし丸鋼板を上
部基板として、組成がpb95%−3n5%であるよう
な半田箔(直径25■、箔厚α2■)を介して対向させ
、360Cで5分間加熱して、半田接着し九。下部基板
に対する上部基板の半田濡れ性の比はcL14である。
対向部面積に対する半田ボイドの生成面積の比はλ3で
あり、半田ボイドの生成量は少なかつ九。
比較例 1 上部および下部側基板に鋼板を用い丸。以下、実施例1
と同様にして半田接着した。対向部面積に対する半田ボ
イド生成面積の比は&3でTob、半田ボイドの生成量
は多かつえ。
比較例 2 上部および下部側基板に光沢電気ニッケルめつきし丸鋼
板を用い九。以下、実施例1と同様にして半田接着した
。対向部面積に対する半田ボイド生成面積の比は1α6
であ如、半田ボイドの生成量は多かった。
比較例 3 上部基板に無電解ニッケルめっきし九アルミナ絶縁板を
下部基板に光沢電気ニッケルめっきし丸鋼板を用い、以
下実施例1と同様にして半田接着した。下部基板に対す
る上部基板の半田濡れ性の比は0.36である。対向部
面積に対する半田ボイド生成面積の比は7.9でToシ
、半田ボイドの生成量は少なかった。
実施例 6 上部および下部両基板の形状がそれぞれ直径40waの
円板、板厚2■のものを用いた。以下実施例1と同様に
して半田接着した。対向部面積に対する半田ボイド生成
面積の比はa、13であり、半田ボイドの生成量は少な
かった。
比較例 4 上部および下部両基板の形状がそれぞれ直径60■、板
厚2−のものを用いた。以下実施例1と同様にして半田
接着した。対向部面積に対する半田ボイド生成面積の比
は146であυ、半田ボイドの生成量が多かつ九。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、濡れ性が異なる2&の基板を対向させて、半田接着
    することを%黴とする半田嶺着法。 2、特許請求の範囲111項において、lQsngの球
    形状の半田(Pb40%−8!160%)を基板上に設
    置し、水S雰囲気中で!4(lで、5分間加熱した場合
    に1対向する基板の半田濡れ性が基板との濡れ面積によ
    って示堪れ、かつ下部基板の濡れ拡が9と上部基板の濡
    れ面積との比が0.02以下であることを特徴とする半
    田接着法。 3、特許請求の範m菖3項において、熱処通温度が半田
    の状11#AKおけhI[#A−よシも高い温直でめる
    ことをq#砿とする半田誉層法。 4、特許請求の範WA111項において、接着部におけ
    る内豊円の最大直通が40−であるような基板を用いる
    ことを等値とする半田接着法。
JP4261682A 1982-03-19 1982-03-19 半田接着法 Pending JPS58159971A (ja)

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JP4261682A JPS58159971A (ja) 1982-03-19 1982-03-19 半田接着法

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JPS58159971A true JPS58159971A (ja) 1983-09-22

Family

ID=12640950

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JP4261682A Pending JPS58159971A (ja) 1982-03-19 1982-03-19 半田接着法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112108731A (zh) * 2020-09-21 2020-12-22 北京正火天创科技有限责任公司 一种桥梁支座半球型耐磨结构的制造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112108731A (zh) * 2020-09-21 2020-12-22 北京正火天创科技有限责任公司 一种桥梁支座半球型耐磨结构的制造方法

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