JPS58156554A - ガラス表面の処理方法 - Google Patents
ガラス表面の処理方法Info
- Publication number
- JPS58156554A JPS58156554A JP57039209A JP3920982A JPS58156554A JP S58156554 A JPS58156554 A JP S58156554A JP 57039209 A JP57039209 A JP 57039209A JP 3920982 A JP3920982 A JP 3920982A JP S58156554 A JPS58156554 A JP S58156554A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- ion exchange
- exchange treatment
- na2o
- sodium oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Weting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、酸化ナトリウムを含有する■珪酸ガラスの表
面を処理する方法に関し、特にフォトマスク、太陽電池
、各種表示素子用等の基板として用いられるガラス材料
の表面を予め処理する方法に関する。
面を処理する方法に関し、特にフォトマスク、太陽電池
、各種表示素子用等の基板として用いられるガラス材料
の表面を予め処理する方法に関する。
上記の用途に用いるガラス基板は、その製造行程におい
て、蒸着、スパッター等の方法により薄膜のコーティン
グを行い、しかる後、必要とされる電極、回路等のエッ
チングを行なう、例えば半導体装置の製造分野において
は、集積回路の製作行程での微細パターンの形成のため
に、フォトマスクが使用されている。フォトマスクは、
ガラス基板の表面にクロム膜をコーティングし、この上
にレジスト剤を塗布し、露光してパターンニングを行っ
た後、エッチング処理にてクロム膜に所定のパターンを
形成することにより製造される。
て、蒸着、スパッター等の方法により薄膜のコーティン
グを行い、しかる後、必要とされる電極、回路等のエッ
チングを行なう、例えば半導体装置の製造分野において
は、集積回路の製作行程での微細パターンの形成のため
に、フォトマスクが使用されている。フォトマスクは、
ガラス基板の表面にクロム膜をコーティングし、この上
にレジスト剤を塗布し、露光してパターンニングを行っ
た後、エッチング処理にてクロム膜に所定のパターンを
形成することにより製造される。
フォトマスク用ガラスが使用されてきている。
一般に低膨張性のガラスは、熱膨張係数が３０〜３８０
℃の温度範囲において、３０〜６０×１０−７／℃と小
さく、露光時に熱膨張による影響が少ないため、ガラス
基板上へ高積度の微細パターンを作製できる。しかし、
この種の■珪酸ガラスにはガラス製造上の立場から清澄
性、均質性、成形性を図るために、相当量の酸化ナトリ
ウム（Ｎａ２Ｏ）成分が含有されているのが一般的であ
る。
℃の温度範囲において、３０〜６０×１０−７／℃と小
さく、露光時に熱膨張による影響が少ないため、ガラス
基板上へ高積度の微細パターンを作製できる。しかし、
この種の■珪酸ガラスにはガラス製造上の立場から清澄
性、均質性、成形性を図るために、相当量の酸化ナトリ
ウム（Ｎａ２Ｏ）成分が含有されているのが一般的であ
る。
フォトマスクの製作に高温ベーク型のレジスト剤が使用
された場合、基板の■珪酸ガラス中のナトリウムイオン
が、ベーキングの熱いよりガラス表面に移動し、クロム
膜と反応して水溶性のクロム酸塩を形成し、次のエッチ
ング行程においてクロム膜が侵食され、パターンの部分
的な欠けの問題を発生することが、本発明者により確認
された。
された場合、基板の■珪酸ガラス中のナトリウムイオン
が、ベーキングの熱いよりガラス表面に移動し、クロム
膜と反応して水溶性のクロム酸塩を形成し、次のエッチ
ング行程においてクロム膜が侵食され、パターンの部分
的な欠けの問題を発生することが、本発明者により確認
された。
本発明は上記のようなガラス基板表面におけるナトリウ
ムイオンによる薄膜の特性劣化、欠点等の問題を解決す
ることを目的としてもので、酸化ナトリウム成分を含有
し、熱膨張係数が３０〜６０×１０−７／℃（３０〜３
８０℃）の■珪酸ガラスを、イオン交換処理し、表面層
の酸化ナトリウム成分の含有量を減少させたことを要旨
とするものである。
ムイオンによる薄膜の特性劣化、欠点等の問題を解決す
ることを目的としてもので、酸化ナトリウム成分を含有
し、熱膨張係数が３０〜６０×１０−７／℃（３０〜３
８０℃）の■珪酸ガラスを、イオン交換処理し、表面層
の酸化ナトリウム成分の含有量を減少させたことを要旨
とするものである。
本発明の方法において処理の対象とするガラスは、一般
的に重量％で、ＳｉＯ２６５〜７５、Ｂ２Ｏ３７〜１５
、Ａｌ２Ｏ３３〜８、ＣａＯ０〜３、ＢａＯ０〜５、Ｎ
ａ２Ｏ３〜１０、Ｋ２Ｏ０〜５の組成を有する。このガ
ラスは溶解性、均質性を向上させるために酸化ナトリウ
ムを添加しているが、熱膨張係数は３０〜６０×１０−
７／℃（３０〜３８０℃）である。この■珪酸ガラスを
アルカリ金属の溶融塩に浸潰して、イオン交換処理する
。
的に重量％で、ＳｉＯ２６５〜７５、Ｂ２Ｏ３７〜１５
、Ａｌ２Ｏ３３〜８、ＣａＯ０〜３、ＢａＯ０〜５、Ｎ
ａ２Ｏ３〜１０、Ｋ２Ｏ０〜５の組成を有する。このガ
ラスは溶解性、均質性を向上させるために酸化ナトリウ
ムを添加しているが、熱膨張係数は３０〜６０×１０−
７／℃（３０〜３８０℃）である。この■珪酸ガラスを
アルカリ金属の溶融塩に浸潰して、イオン交換処理する
。
溶融塩としては、カリウムイオンを含む溶融塩のイオン
、例えばカリウムイオンと交換される結果、ガラス表面
層の酸化ナトリウム成分の含有量が減少する。イオン交
換処理した後、表面に付着いている溶融塩を除去し、且
つ又、平滑な面にするために、希■酸で洗浄したり、又
，軽く研磨することが好ましい。
、例えばカリウムイオンと交換される結果、ガラス表面
層の酸化ナトリウム成分の含有量が減少する。イオン交
換処理した後、表面に付着いている溶融塩を除去し、且
つ又、平滑な面にするために、希■酸で洗浄したり、又
，軽く研磨することが好ましい。
イオン交換は高温で行われるので、その処理中にガラス
基板に変形が生じることがある。この変形は、イオン交
換処理中の熱によりガラス構造が緊密化し収縮すること
により生ずるものである。
基板に変形が生じることがある。この変形は、イオン交
換処理中の熱によりガラス構造が緊密化し収縮すること
により生ずるものである。
そこで、イオン交換処理前に所定の温度スケジュール、
即ち、後のイオン交換処理の温度、時間を考慮して決め
た温度スケジュール、例えば４５０〜５６０℃で１〜２
５時間保持してガラス構造の緊密化を行い、次いで表面
を研磨して平坦な面にしておくと、イオン交換時の変形
が極めて小さい基板ガラスを得ることができる。
即ち、後のイオン交換処理の温度、時間を考慮して決め
た温度スケジュール、例えば４５０〜５６０℃で１〜２
５時間保持してガラス構造の緊密化を行い、次いで表面
を研磨して平坦な面にしておくと、イオン交換時の変形
が極めて小さい基板ガラスを得ることができる。
実施例
重量％で、ＳｉＯ１７１％、Ａｌ２Ｏ３５．７％、Ｂ２
Ｏ３１２．７％、ＣａＯ０．７％、ＢａＯ２．１％、Ｎ
ａ２Ｏ６．４％、Ｋ２Ｏ１．３％の組成からなり、熱膨
張係数５０×１０−７／℃（３０〜３８０℃）のガラス
板を用意した。このガラス構造の緊密化を行った。次い
で、このガラス板を研磨加工して表面平坦な薄板がらす
とした。
Ｏ３１２．７％、ＣａＯ０．７％、ＢａＯ２．１％、Ｎ
ａ２Ｏ６．４％、Ｋ２Ｏ１．３％の組成からなり、熱膨
張係数５０×１０−７／℃（３０〜３８０℃）のガラス
板を用意した。このガラス構造の緊密化を行った。次い
で、このガラス板を研磨加工して表面平坦な薄板がらす
とした。
この薄板ガラスを約４７０℃に保持したＫＮＯ３の溶融
塩に２０時間浸潰してイオン交換処理を行なった。かく
して得られたガラス板の表面層におけるＮａ２Ｏの分布
状態を添附の図面に示す。
塩に２０時間浸潰してイオン交換処理を行なった。かく
して得られたガラス板の表面層におけるＮａ２Ｏの分布
状態を添附の図面に示す。
同図には、横軸にガラス表面からに深さ（μｍ）が、縦
軸にＮａ２Ｏの含有量が示してある。この図から明らか
なように、ガラス内部は本来のＮａ２Ｏ含有値を示して
おり、ガラス表面に近い程Ｎａ２Ｏ含有量が減少してい
ることがわかる。
軸にＮａ２Ｏの含有量が示してある。この図から明らか
なように、ガラス内部は本来のＮａ２Ｏ含有値を示して
おり、ガラス表面に近い程Ｎａ２Ｏ含有量が減少してい
ることがわかる。
イオン交換処理後、ガラス表面を１〜１０μｍまで軽く
研磨して清浄な平滑な面にした。
研磨して清浄な平滑な面にした。
上記、本発明の方法により、■珪酸ガラスの表面層から
酸化ナトリウム成分を減少若しくは除去したガラス基板
を用いてフォトマスクを製作したところ、クロム膜のパ
ターンに部分的な欠けの問題のない良好なフォトマスク
が得られることを確認された。
酸化ナトリウム成分を減少若しくは除去したガラス基板
を用いてフォトマスクを製作したところ、クロム膜のパ
ターンに部分的な欠けの問題のない良好なフォトマスク
が得られることを確認された。
本発明方法は、上記のフォトマスク用ガラス基板の実施
例に限定されることなく、太陽電池、各種表示素子等、
フォトマスクと同様に酸化ナトリウム成分を含有する■
珪酸ガラスの基板蒸に金属薄膜、酸化物薄膜等を設けた
もので、同種の問題を引きおこす虞れのあるものにも適
用できて大きな効果を発揮する。
例に限定されることなく、太陽電池、各種表示素子等、
フォトマスクと同様に酸化ナトリウム成分を含有する■
珪酸ガラスの基板蒸に金属薄膜、酸化物薄膜等を設けた
もので、同種の問題を引きおこす虞れのあるものにも適
用できて大きな効果を発揮する。
本発明の方法で処理したガラス板の表面層におけるＮａ
２Ｏｎｏ分布状態を示す説明図である。 特許出願人 日本電気硝子株式会社 代表者 長崎準■
２Ｏｎｏ分布状態を示す説明図である。 特許出願人 日本電気硝子株式会社 代表者 長崎準■
Claims (3)
- （１）酸化かトリウム成分を含有し、熱膨張係数が３０
〜６０×１０−７／℃（３０〜３８０℃）の■珪酸ガラ
スをイオン交換処理し、表面層の酸化ナトリウムの含有
量を減少させたことを特徴とするガラス表面の処理方法
。 - （２）イオン交換する前に、■珪酸ガラスを加熱処理し
、ガラス構造の緊密化を行う特許請求の範囲第１項に記
載のガラス表面の処理方法。 - （３）■珪酸ガラスは、重量％でＳｉＯ２６５〜７５、
Ｂ２Ｏ３７〜１５、Ａｌ２Ｏ３３〜８、ＣａＯ０〜３、
ＢａＯ０〜５、Ｎａ２Ｏ３〜１０、Ｋ２Ｏ０〜５の組成
を有する特許請求の範囲第１項に記載のガラス表面の処
理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57039209A JPS58156554A (ja) | 1982-03-11 | 1982-03-11 | ガラス表面の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57039209A JPS58156554A (ja) | 1982-03-11 | 1982-03-11 | ガラス表面の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58156554A true JPS58156554A (ja) | 1983-09-17 |
Family
ID=12546739
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57039209A Pending JPS58156554A (ja) | 1982-03-11 | 1982-03-11 | ガラス表面の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58156554A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6065746A (ja) * | 1983-09-20 | 1985-04-15 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 透明電極用ガラス板の製造方法 |
| JPS60129294A (ja) * | 1983-12-16 | 1985-07-10 | Hoya Corp | 光記録媒体用基板と光記録媒体 |
| EP0838723A1 (en) * | 1996-10-24 | 1998-04-29 | Agfa-Gevaert N.V. | A material comprising a layer on a glass support |
| EP0839772A1 (de) * | 1996-10-30 | 1998-05-06 | Schott Glaswerke | Verwendung eines Glaskörpers zur Erzeugung eines chemisch vorgespannten Glaskörpers |
| WO1999015471A1 (en) * | 1997-09-23 | 1999-04-01 | Glaverbel | Thermal dimensional stability treatment of vitreous sheet material by contacting with a molten alkali metal salt |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5157165A (ja) * | 1974-11-14 | 1976-05-19 | Tokyo Shibaura Electric Co | |
| JPS5575944A (en) * | 1978-11-29 | 1980-06-07 | Toshiba Corp | Glass surface treating method |
-
1982
- 1982-03-11 JP JP57039209A patent/JPS58156554A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5157165A (ja) * | 1974-11-14 | 1976-05-19 | Tokyo Shibaura Electric Co | |
| JPS5575944A (en) * | 1978-11-29 | 1980-06-07 | Toshiba Corp | Glass surface treating method |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH0423639B2 (ja) * | 1983-12-16 | 1992-04-22 | Hoya Corp | |
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| JPH10182182A (ja) * | 1996-10-30 | 1998-07-07 | Carl Zeiss:Fa | 化学的にプリテンションされたガラス本体を製造するためのガラス本体の使用 |
| US5876472A (en) * | 1996-10-30 | 1999-03-02 | Schott Glaswerke | Method for producing a chemically pretensioned glass body |
| WO1999015471A1 (en) * | 1997-09-23 | 1999-04-01 | Glaverbel | Thermal dimensional stability treatment of vitreous sheet material by contacting with a molten alkali metal salt |
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