JPS5815539B2 - シヤシンエツチングソウチ - Google Patents

シヤシンエツチングソウチ

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Publication number
JPS5815539B2
JPS5815539B2 JP7767374A JP7767374A JPS5815539B2 JP S5815539 B2 JPS5815539 B2 JP S5815539B2 JP 7767374 A JP7767374 A JP 7767374A JP 7767374 A JP7767374 A JP 7767374A JP S5815539 B2 JPS5815539 B2 JP S5815539B2
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JP
Japan
Prior art keywords
tank
plate material
nozzle
draining
drying
Prior art date
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Expired
Application number
JP7767374A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS516662A (ja
Inventor
奥村門出
根本稔
小林善昭
清水幸夫
浅場修司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP7767374A priority Critical patent/JPS5815539B2/ja
Publication of JPS516662A publication Critical patent/JPS516662A/ja
Publication of JPS5815539B2 publication Critical patent/JPS5815539B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Weting (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、写真エツチング装置に関する。
写真エツチング法は、人別して、感光液塗布、露光、現
像、バーニング、腐蝕の各工程からなっている。
そして、この写真エツチング法における従来の現像シス
テムは、保護膜を塗布するとともにパターンを焼付けた
帯状の鉄板をアンワインダ−から繰出して垂直状態で送
り、スプレィノズルを有する現像槽を通1−て温水現像
し、ついで、スプレィノズルを有する水切り槽を通(7
て界面活性剤リンスを行って水切りを行い、さらに乾燥
炉およびベーキングオーブンを通してワインダーに巻取
るようにしている。
ところで、写真エツチング法によって製品を製造する場
合、現像状態が製品の品質に非常に大きな影響を与える
たとえば、カラーブラウン管のシャドウマスクなどは写
真エツチング法によって多く製造されているが、現像状
態がむら品位に大きな影響を与える。
そして、現像工程で製品の品質上要求されることは、現
像むらのないこと、現像パターンがシャープであること
、乾燥が均一に行えることである。
第9図は帯状の鉄板からなを板材1を垂直状態で送った
ときの現像パターンを示したもので、第10図は板材1
の両面における保護膜2,3がパターン部分において完
全に欠除し、理想的な現像状態を示している。
しかし、実際には、第11図および第12図に示すよう
に、いわゆる薄膜といわれるごく薄し・保護膜2,3が
パターン上に残る。
第11図は第9図のA−A断面であり、第12図はB
、−、、、−B断面を示している。
すなわち第12図は現像液の流れ方向の断面を取ってい
るが、ここで重要なのは現像後のパターンすなわち保護
膜の残りかたが非対称となることにある。
この保護膜の状態が製品むらに微妙に影響する。
したがって、保護膜の生成状態が全てのパターンを通し
て均一であることが望ましいが、従来の現像方式では液
流れなどの影響で第11図および第12図の状態になる
のが通當であり、シャープな現像が望めない上、板材の
下部と下部とでは現像状態が異なり、次工程のエツチン
グの制御を困難に1〜でいる。
本発明は、このような点にかんがみてなされたもので、
現像液の液流れの影響を減少させることにより、シーヤ
ープなかつ均一な現像を行い、さらに、水切り乾燥を均
一に一定状態に行い、また、次工程のエツチング゛との
連続一体化ができるようにしたものである。
本発明の一実施例を図面について説明する。
第1図および第2図において、11はアンワインダ−で
、このアンワインダ−11に帯状の鉄板からなる板材1
2のロールが軸架される。
上記アンワインダ−11にローラ装@13が連設されて
℃・る。
このローラ装置13は、フレーム14に上下=一対の口
・−ラ15,16が軸架されている。
上記ローラ装置13に現像槽1γが連設されている。
この現像槽17内の上下部に複数個のマニホールド18
,19が詔勅自在に設けられ、これらの上下部のマニホ
ールド18.19に複数個のスプレィノズル20.21
が上下相対向t〜て取付けられている1−1そI〜で、
上記各マニホールド18゜19に導管22、バルブ23
、ポンプ24を介して現像液タンク25が連結されてい
る。
上記現像槽17に水切り槽26が連設されている。
この水切り槽26内の上下部にノズノし27゜28が対
向して設けられている。
この上部のノズル27は、第4図および第5図に示すよ
うに、ノズル体29の下面に複数個のスリット状の噴出
孔30が穿設されているとともに、下部のノズル28は
、第6図および第7図に示1ように、ノズル体31の土
面に約60度程度f鴫斜した方向に向って複数個の円形
の噴出孔32が穿設されている、。
そして、第3図に示すように、上記下部のノズル27に
導管33およびバルブ34を介して上部タンク35が接
続されているとともに、水切り槽26の中央下部に連通
管36を介して収納タンク37が設けられ、この収納タ
ンク37の一側部に連通管38を介して下部タンク39
が連設され、このタンク39にポンプ40、導管41お
よびバルブ42を介して上記上部タンク35が連結され
、上記導管41の途中と上記下部ノズル28とが導管4
3およびバルブ44を介して連結されている。
上記水切り槽26に乾燥炉45が連設され、この乾燥炉
45内の上下部に複数個のヒータ46゜47が取伺げら
れている。
さらに、上記乾燥炉45の入口部の両側位置にローラ4
8が約60度程度内側方に向って傾斜してかつ両側のロ
ーラ48間の間隔を板材120幅寸法より小さくして軸
架されているとともに、乾燥炉45の出口部にローラ4
9が水平状に軸架されている。
上記乾燥炉45にベーキングオーブン50が連設され、
このベーキングオーフン50の上下部に複数個のヒータ
51,52が取付けられている。
P−記ベーキングオーブン50にローラ装置53が連設
されている。
このローラ装置53は、フレーム54の上下部に一対の
駆動ローラ55,56が軸架されて℃・る。
そうして、−ト記アンワインダ−11、ローラ装置13
、ローラ48、ローラ49およびローラ装置53によっ
て送り装置が構成されて(・る。
つぎに作動を説明する。
アンワインダ−11に保護膜を塗布するとともにパター
ンを焼付けた板材12のD・−Aを軸架し、板材12を
ローラ装置13の上−1・のローラ15゜16間を通し
、現像槽17内および水切り槽26内を通し、乾燥炉4
50人口部における両側のローラ48に板材12の両側
のエツジを当接して板材12を上方に向って彎曲させた
状態で保持するとともに乾燥炉45内を通し、さらにロ
ーラ49−1−を介してベーキングオーブン50内を通
し、ローラ装置53の上下のローラ55.56間を通す
そして、前方のローラ55,56を駆動し、後方のロー
ラ15,16との間でバックテンションをかけながら板
材12を水平状態で連続的に搬送する。
そl−で、板材12が現像槽17内を通過するとき、タ
ンク25からポンプ24によって導管22およびマニホ
ールド18.19を介して導かれた現像液が上下のノズ
ル20.21から板材12の両面にスゲレイされ、温水
現像される。
この際、図示しない揺動機構によってノズル20.21
を毎分30回程度揺動し、板材12の保護膜面での現像
液の循環をよくする。
また、現像槽17の先部において純水のスプレィノズル
を−L下に設けて純水のスィーパ−ゾーンを設けること
により、パターン士に現像処理によって浮し・た保護膜
を完全に洗い流すことができる。
ついで、現像された板材12は水切り槽26内を通過す
るどき、上部タンク35から導管33を介して導かれた
水切り剤としての界面活性剤が下部のノズル27からス
ゲレイされ、自然水頭の低圧リンスを行うとともに、下
部タンク39からポンプ40により導管41および導管
43を介して導かれた界面活性剤が下部の人スル28か
ら高圧。
リンスを行い、均一な乾燥および乾燥時間の短縮をはか
る。
この際、下部のノズル28の噴出孔32を 一方向に傾
斜して液の衝突をさけ、界面活性剤を板材12に沿って
流して発泡を防止する。
これとともに、上部タンク35、導管33、水切り槽2
6、連通管36、収納タンク37、連通管38、下部タ
ンク39および導管41を介し7て界面活性剤を循環す
る。
ついで、この水切り処理された板材12は乾燥炉45を
通過するとき、ヒータ46,47によって乾燥される1
oこの際、板材12は現像槽17、水切り槽26および
乾燥炉45を通して板材12は約2度程度の下降勾配を
附されていることにより、現像液および界面活性剤は常
に 一定方向に流れるとともに、両1則のローラ48に
よって−1−力゛に彎曲していることにより乾燥が均一
に行われる1、すなわち、一度乾燥したところに再度水
切り剤が流れた場合、保護膜の収縮状態が変り、製品に
むら、じみとなってあられれるが、板材12の全体的な
下降状態および一ト一方への彎曲で水切り剤の乾燥が均
一に行われる。
ついで、この乾燥の終った板材12はベーギングオーブ
ン50を通過するとき、ヒータ51゜52によってパタ
ーンの焼込みが行われ、川び巻きとられる。
本発明によれば、板材を水平状態で送りつつ現像、水切
りおよび乾燥を行うことにより、現像液の液流れの影響
を減少させることにより、シャープなかつ均一な現像を
行うことができるとともに、水切り乾燥を均一に一定状
態に行うことができ、また、次工程のエツチングとの連
続一体化ができ、作業を円滑に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の装置の側面図、第2図はその平面図、
第3図は水切り槽の縦断面図、第4図は上部ノズルの下
面図、第5図はその縦断面図、第6図は下部ノズルの半
面図、第7図はその縦断面図、第8図は乾燥炉の縦断面
図、第9図は板材の平面図、第10図はその断面図、第
11図は第9図A−A断面図、第12図は第9図B−B
断面図である。 12・・・・・・版イオ、17・・−・・−現像槽、2
0,21・・・・・ノズル、26・・・・・・水切り槽
、2γ、28・・・・・ノズル、45・・・・・−乾燥
装置、11,13,48゜49.53・・−・・・送り
装置としてのアンワインダ−、ローラ装置、ローラ、ロ
ーラ装置。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 帯状の板材を水平状態で連続的に送る送り装置と、
    この送り装置によって送られる板材の移動部に設けられ
    板材面に対して現像液をスプレィするノズルを有する現
    像槽と、上記送り装置によって送られる板材の移動部に
    上記現像槽に連続して設けられ板材面に対して水切り剤
    をスプレィするノズルを有する水切り槽と、上記送り装
    置によって送られる板材の移動部に上記水切り槽に連続
    して設けられ板材を乾燥する乾燥装置とを具備したこと
    を特徴とする写真エツチング装置。
JP7767374A 1974-07-05 1974-07-05 シヤシンエツチングソウチ Expired JPS5815539B2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP7767374A JPS5815539B2 (ja) 1974-07-05 1974-07-05 シヤシンエツチングソウチ

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JP7767374A JPS5815539B2 (ja) 1974-07-05 1974-07-05 シヤシンエツチングソウチ

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JPS516662A JPS516662A (ja) 1976-01-20
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ID=13640388

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JP7767374A Expired JPS5815539B2 (ja) 1974-07-05 1974-07-05 シヤシンエツチングソウチ

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH051168B2 (ja) * 1985-07-15 1993-01-07 Mitsubishi Motors Corp
JPH0512182B2 (ja) * 1985-01-30 1993-02-17 Mitsubishi Motors Corp
JPH0529137Y2 (ja) * 1987-02-12 1993-07-27

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