JPS58154567A - チオフエノ−ル誘導体及びその製造方法 - Google Patents

チオフエノ−ル誘導体及びその製造方法

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JPS58154567A
JPS58154567A JP57037815A JP3781582A JPS58154567A JP S58154567 A JPS58154567 A JP S58154567A JP 57037815 A JP57037815 A JP 57037815A JP 3781582 A JP3781582 A JP 3781582A JP S58154567 A JPS58154567 A JP S58154567A
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JP
Japan
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compound
formula
compound represented
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reaction
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Pending
Application number
JP57037815A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Kono
河野 喬
Minoichi Takahashi
高橋 巳之一
Satoru Masuda
悟 増田
Narihiro Owaki
大脇 成紘
Yasunari Tanaka
康徳 田中
Osamu Kamota
修 加守田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Aska Pharmaceutical Co Ltd
Teikoku Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Teikoku Chemical Industry Co Ltd
Teikoku Hormone Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、新規なチオフェノール誘導体及びその製造
方法に関するものである。
本発明によって提供されるチオフェノール誘導体は鎮痛
作用を持っていることが確められたので、当該分野にお
ける治療用薬剤としての用途が期待されるものである。
本発明によって提供されるチオフェノール誘導体は次式
(Vl 〔式中R1は低級アルキル基、R8はメルカプト基との
反応により生ずる基、Xはハロゲン原子を示す。〕の化
学構造式で示される。また、この化合物は次のようKし
て合成される。その化学反応の概略は次の通りである。
(式中R8は低級アルキル基、Xはハロゲン原子を示す
。他は前記と同じ、) ここにおいて、式帽)で示される化合物は式+11で示
される化合物と適宜溶媒中、メルカプト基と反応する化
合物とを反応させることによって得られる。ここにおい
てメルカプト基と反応する化合物としては、アルコキ7
アルキルハライド、ビニールアルキルエーテル、アラル
キルハライドなどが挙げられ、例えばハロゲノメチルエ
チルエーテル、ビニールエチルエーテル、ビニールメチ
ルエーテル、ビニールブチルエーテル、ビニールイノブ
チルエーテル、ジヒドロピラ/、ジヒドロフラン、ベン
ジルハライド、トリフェニルハロゲノメタン、ハロゲノ
フランなどである。用いられる溶媒としては塩化メチレ
ン、クロロホルム、トリクロロエタン、ジクロロエタン
、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキサン
、テトラヒドロフランなどが挙げられ、反応は室温乃至
冷却下で行われる。反応をより円滑に進めるため不飽和
化合物(ジヒドロピラン、ビニールエチルエーテルなど
)を付加させる場合には、p−トルエンスルホン酸、ベ
ンゼンスルホ/酸などの有機スルホ/酸を、ベンジルハ
ライド、ハロゲノメチルエーテル、ハロゲノフランなど
ノ・ロゲノ化合物を反応させる場合には脱ノ・ロゲン化
水素剤を用いることが好ましい。
かくして得られた式(11で示される化合物を塩基とと
もに適宜溶媒中・・ロゲノ酢酸エステルと反応させる。
ここにおいて、用いられる塩基としては、ナトリウム、
カリウムリチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム
ナトリウムアミド、プルコラート、有機アミン、アルカ
リ金属炭酸塩などが挙げられ、)・ロゲノ酢酸エステル
としては、クロル酢酸エチルエステル(又はメチルエス
テル)、ブロム酢酸エチルエステル(又はメチルエステ
ル)が挙げられ、溶媒としては、ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキッド、ベンゼントルエン、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、イソプロピルエーテル、アセ
トンなどが挙げられる。
かくして得られ九式+11で示される化合物を式tlV
lで示される化合物と溶媒の存在又は不存在で反応させ
る。
溶媒を使用する場合において用いられる溶媒としては、
テトラヒドロ7ラン、ジオキサン、インプロ♂ルエーテ
ルベンゼン、トルエンなどが挙げられ、反応を好適に進
めるために触媒量の塩基の存在が好ましく、かかる塩基
としては、ナトリウム、カリウム、リチウムなどのアル
カリ金属、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化
リチウムなどのアルカリ金属水素化物ナトリウムアミド
、カリウムアミドなどのアルカリ金属アミド化物、ナト
リウムエトキンドナトリウムメトキシド、カリウムブト
キシドなどのアルカリ金属アルコキサイド、ピリジン、
トリエチルアミ/、ンメチルアニリンなどの有機アミン
などが挙げられる。反応は、室温乃至冷却下2〜8時間
攪拌することにより進められる。
かくして得られ九式(Vlで示される新規化合物は、鎮
痛作用を有する化合物であることが確められだので、当
該分野における治療用薬剤としての用途が期待される物
質である。乙の物はまだ常套手段で尚、本発明化合物の
合成に用いられ九式+11で示される化合物は、発明者
らの知る限9新規な化合物であって、参考側記載の方法
に拠り造られる。
以下、本発明を更に具体的に説明するために実施例を記
述する。
実施例1 +1)5−クロロ−N−エトキシカルボニル−2−(1
−メチル−1−エトキン)メチルチオアニリンの製造=
(式fl)に含まれる化合物)5−クロロ−N−エトキ
シ力ルゲニルー2−メルカプトアニリン7gを塩化メチ
レン7011に溶解し、水冷下、P−)ルエンスルホン
酸0.28gヲ加工た。エチルビニルエーテル2.5f
を滴下し、5℃前後で1時間、そのあと室温で一夜攪拌
反応させた。反応液を炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ
、有機層を分離し、水洗、乾燥、濃縮した。
残渣をカラムクロマト精製して、油状の前記化合物を得
た。湯量6.59 (75%) IRスペクトル=1−1 3350(−NH−)、1735(−C=0)NMRス
ペクトル:ppm 1.0−1.5m(9HCHs ×5 )3.0〜5.
0m(5H,aH,−X2.7cH−)6.8−8.5
m(4H1−NH−1芳香環水素)(2)5−クロロ−
N−エトキ7カルゲニルーN−メトキシカルボメチル−
2−(1−メチル−1−エトキン)メチルチオアニリ/
の製造=(式圏に含まれる化合物) 048gの水素化ナトリウムをジメチルホルムアミド2
0g+/に分散し、これに(1)で得た化合物6gをト
ルエン20g/に溶解した溶液を少しづつ滴下した。次
いで、5〜10℃の温度で、ブロム酢酸メチルエステル
168gを滴下し、約4時間反応を続けた。反応液を水
にあけトルエンで3回抽出し、トルエン層を合せて水洗
、晩燥、濃縮したのち、カラムクロマト精製して、油状
の前記化合物を得た。湯量3.511 (93%) 1 1Rスペクトル:1 1750(=C−0)、1710(=C−0)NMRス
ペクトル:ppm 10〜17m(9H−CH8×3) 5.3−5.25m(10H−CH2−X3、−CH−
1O−CH37,2−7,75m(58芳香環水素)+
3)N−(エトキシカルボニル)−N−(4−(2−ヒ
ドロキゾエチル)−1−ピペラジニル)カルボメチル−
2−(1−メチル−1−エトキシ)メチルチオ−5−ク
ロロアニリンの製造:(式(Vlに含まれる化合物) ビメラジンエタノール0.80 fと水素化ナトリウム
(50%ヌジョール)03gをテトラヒドロフラン20
m1中窒素雰囲気下反応させた。この中へ(2)で得た
化合物2.Ofとテトラヒドロフラン1011とからな
る溶液を滴下した。約2時間室温で攪拌反応を続け、薄
層クロマトグラフィーにて、原料化合物である(2)で
得た化合物がもはや存在しないことを確認したのち、反
応液を氷水中に注ぎ、クロロホルムで抽出した。クロロ
ホルム層ヲ水洗。
乾燥、濃縮したのち、カラムクロマト精製して、油状の
前記化合物を得た。
湯量2. Of (79,5%) IRスペクトル=1−1 1450(OH)、1710(−CO))      
 1660(アミド−C−0)NMRスペクトル:pp
m 1.0−145m(6H) 1.45d(3H−CH,) 2.5−26m(6H) 50s (I HOH) D20添加で消失3.15−
4.25m(12H) 4.75m(IH=CH−) 7.0−7.6rn(3H芳香環水素)本化合物は、酢
酸ライジング法による鎮痛効果測定(r c nマウス
雄209前後=100ダ/kg投与)において、対照区
に比し、548%の抑制率を示した。これは鎮痛消え剤
として販売されている塩酸チアラミドのそれが同実験で
37%の抑制率を7、/′ / 実施例2〜8 実施例1に倣って次の化合物を合成した。
参考例 (155−10ローN−エトキシカルボニル−2−メル
カプトアニリンの製造: トルエン50冨l中に、4−4′−ジクロロ−27ジア
ミノ一ジフエニルジスルフ4ド16g、ピリジン5 m
lを加え室温で、クロル戻酸エチル1.39を滴下した
反応終了後氷水中に、反応液をあけ、塩化メチレンで抽
出し、水洗乾燥し、減圧上塩化メチレンを留去し、油状
残渣を得た。得られた残渣をジオキサン50m1Kとか
し、40℃に加温して、水75耐を加えた。ついでトリ
フェニルホスフィン144yを加え、塩酸2滴を加えた
。反応終了後塩化メチジ/で抽出した。塩化メチレン層
を合わせ、水洗乾燥し、減圧上塩化メチレンを留去し、
残渣を精製して、油状の題記化合物を得た。
湯量11g +2)5−10ローN−エトキンカルボニル−2−メル
カプトアニリンの製造: 5−クロロ−2−エトキンカルボニルチオアニリ720
gを800g+/のメタノールに分散し、窒素気流中圧
下メタノールを留去して、油状の題記化合物を得た。
湯量20p IRスペクトル二国−1 3380(−NH−) 2530(−8H) 1730(−C−(1) NMRスペクトル: ppm(co Cl8)1、′5
t  3H−CH3 5,0s  IHSHDsO添加で消失4.2  q 
 2H−0−CH,−C6,7−8,3m  4H−N
H芳香環出願人 帝国化学産業株式会社 手続補正書(方式) %式%) 1 事件の表示 昭和57年特許願第57815号 2発明の名称 チオフェノール誘導体及びその製造方法5 補正をする
者 事件との関係  特 許 出 願 人 任   所  大阪市西区北堀江1丁目1番18号4、
補正命令の日付 昭和57年6月29日(発送日) 2)明細書の浄書(内容に変更なし) 手続補正書(自発) 昭和57年7月バ日 特許庁長官殿 1、 事件の表示 昭和57年特許願第57815号 2、 発明の名称 チオフェノール誘導体及びその製造方法3 補正をする
者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市西区北堀江1丁目1番18号「カリウム
、ナトリウムアミド、・・・・・」K訂正2)同ページ
14行 [・・・・ベンゼントルエン、」トアルヲ[・ベンゼン
、トルエン、・・・・・・J K訂正3)10ページ4
行 [ピペラジンエタノール・」とあるを [ピペラジンエタノール・・」と訂正

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1式 で示されるチオフェノール誘導体 〔式中、R1は低級アルキル基、R2はメルカプト基と
    の反応により生ずる基、Xはハロゲン原子を示す。〕 2(a)式Fl] で示される化学物を、メルカプト基と反応する化合物と
    反応させ、式(II) で示される化合物を得る工程 tbl  式fUlで示される化合物をハロゲノ酢酸エ
    ステルと反応させ 式(■) で示される化合物を得る工程 (c)  式(組で示される化合物を、式(IVIで示
    される化合物と反応させ、式(V)で示される化合物を
    得る工程 以トの工程から成るチオフェノール誘導体の製造方法。 〔式中、R1は低級アルキル基、R2はメルカプト基と
    の反応により生ずる基、R3は低級アルキル基、Xはハ
    ロゲン原子を示す。〕
JP57037815A 1982-03-09 1982-03-09 チオフエノ−ル誘導体及びその製造方法 Pending JPS58154567A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009544676A (ja) * 2006-07-24 2009-12-17 ユセベ ファルマ ソシエテ アノニム 置換されたアニリン誘導体

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009544676A (ja) * 2006-07-24 2009-12-17 ユセベ ファルマ ソシエテ アノニム 置換されたアニリン誘導体
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