JPS58153767A - 化学銅めつき浴用安定化混合物 - Google Patents
化学銅めつき浴用安定化混合物Info
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- JPS58153767A JPS58153767A JP58025442A JP2544283A JPS58153767A JP S58153767 A JPS58153767 A JP S58153767A JP 58025442 A JP58025442 A JP 58025442A JP 2544283 A JP2544283 A JP 2544283A JP S58153767 A JPS58153767 A JP S58153767A
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/38—Coating with copper
- C23C18/40—Coating with copper using reducing agents
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- Materials Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本づ６明は第二銅・リイオン源、ヒドロキシルイオン源
、還元剤およびアルカリ千＋媒賀中の第二卸１イλンを
口Ｊ鹸化する量の卸Ａｌｌを言む無電解自触媒鋼めっき
用水浴液に１丙する。
、還元剤およびアルカリ千＋媒賀中の第二卸１イλンを
口Ｊ鹸化する量の卸Ａｌｌを言む無電解自触媒鋼めっき
用水浴液に１丙する。
無籍、ｍ１触媒銅めっき浴は６化学餉浴″とも叶ばれ、
外部源の電子の補助なしに触媒支釣体 □上にシト
Ｉｊノ冑を析出することができるものである。
外部源の電子の補助なしに触媒支釣体 □上にシト
Ｉｊノ冑を析出することができるものである。
一般に、こ上しらの計は銅塩、銅鰯角Ｉ」、廠ノロ剤お
よびｐＨ調巖ｆすを古刹する水浴液で栴成される。
よびｐＨ調巖ｆすを古刹する水浴液で栴成される。
銅は（ｌｌ’ｌｃ敵化物、ハロケン化骸八硝酸塩、フル
オロホウ酸塩、酢酸塩の形で、または他の無機もしくは
有機教場の形で使用できる。一般に、肝済的理由かも、
銅は五水什、 （＋＋１ｃ酸塩の形で通用−ｒることか
好よしい。
オロホウ酸塩、酢酸塩の形で、または他の無機もしくは
有機教場の形で使用できる。一般に、肝済的理由かも、
銅は五水什、 （＋＋１ｃ酸塩の形で通用−ｒることか
好よしい。
晶剤の作用はセ［出反応に必安なアルカリ性！保買にお
ける浴液中の蛇を保持することである。
ける浴液中の蛇を保持することである。
このためにロツシュル塩（１有酸ナトリウムおよび酒石
１汐カリ）もしくはグルコン眼もしくはグルコンハ堪、
ニトリロトリ酢酸ま１こはそのアルカリ塩、トリエタノ
ールアミンの利用、またはエチレンジアミン四酢敗およ
びそのす） ＩＪウム塩、Ｎ−ヒドロキシーエチルーエ
ナレンージアミン三酔ｌ＆塚、Ｎ、Ｎ、Ｎ”、Ｎ’、テ
トラ（２−ヒドロキシゾロビル）−エチレンジアミン等
のような九創の利用が可能である。
１汐カリ）もしくはグルコン眼もしくはグルコンハ堪、
ニトリロトリ酢酸ま１こはそのアルカリ塩、トリエタノ
ールアミンの利用、またはエチレンジアミン四酢敗およ
びそのす） ＩＪウム塩、Ｎ−ヒドロキシーエチルーエ
ナレンージアミン三酔ｌ＆塚、Ｎ、Ｎ、Ｎ”、Ｎ’、テ
トラ（２−ヒドロキシゾロビル）−エチレンジアミン等
のような九創の利用が可能である。
化学銅浴に通常便用される銅還元剤はパラホルムアルデ
ヒド、トリオキサン等のようなホルムアルデヒドまたは
その肪導体または先駆体である。速ノＣ痢としては水酸
化ホウ木酸ナトリウム、またはジメテルアミノゼランタ
イプ等の４？シンのようなアルカリ金属の水ば化ホウ累
酸塩も利用できろ。これによりアルカリ全駒の次亜・１
ｂｉｃ赦塙もまた使用し得る。
ヒド、トリオキサン等のようなホルムアルデヒドまたは
その肪導体または先駆体である。速ノＣ痢としては水酸
化ホウ木酸ナトリウム、またはジメテルアミノゼランタ
イプ等の４？シンのようなアルカリ金属の水ば化ホウ累
酸塩も利用できろ。これによりアルカリ全駒の次亜・１
ｂｉｃ赦塙もまた使用し得る。
ｐＨ−・・ｉ童剤の作用は触媒支持体上に銅ル１の伯出
をもたらす敗北Ｍ７ｃ反応にとって最適のアルカリ度を
抹十〇・することである、通常、処理は１０〜１４の同
のｐＨ値で実施され、これらのｐＨ値を維持するために
水酸化ナトリウムまたは水酸化カリか１史川される。
をもたらす敗北Ｍ７ｃ反応にとって最適のアルカリ度を
抹十〇・することである、通常、処理は１０〜１４の同
のｐＨ値で実施され、これらのｐＨ値を維持するために
水酸化ナトリウムまたは水酸化カリか１史川される。
これら基本的成分の他に、化学銅糸は安定剤、湿潤剤そ
の他のような少量成分として存在する生成物なも宮むも
のである。
の他のような少量成分として存在する生成物なも宮むも
のである。
安定化作用を及ぼし、通例として使用される生成物には
一般に水銀塩、アルカリ金属のシアン化物、封槻二）
ＩＪルまたは二価の形で饋黄を営む化付物、例えば２−
メルカゾトペンゾトリアゾール、ナオ尿素、アルカリ金
への硫化物のような無根の硫化物、またはチオシアネー
トもしくはアルカリ金属のジチオネートがもまれる。
一般に水銀塩、アルカリ金属のシアン化物、封槻二）
ＩＪルまたは二価の形で饋黄を営む化付物、例えば２−
メルカゾトペンゾトリアゾール、ナオ尿素、アルカリ金
への硫化物のような無根の硫化物、またはチオシアネー
トもしくはアルカリ金属のジチオネートがもまれる。
−藪に、これら安定剤は触媒毎であり、セしてそｈらの
多（は析出速度を太いに敵じろ性買欠慣し、極端な場合
には扇を元金にＩｔ’ｌｌカ巳化、１なわち非自触媒１
生に１−る。
多（は析出速度を太いに敵じろ性買欠慣し、極端な場合
には扇を元金にＩｔ’ｌｌカ巳化、１なわち非自触媒１
生に１−る。
金、−次面を金シ・島化するためにこれらの化Ｐｆ−鋼
府を使用するには六ｆｉｌｌの脱脂を夾施１−るたけで
街も・。しかしながら、非る２編成面を更札化すること
か望まれる場合には、その佐の化学銅析出について触媒
化および受答性と１−ることか必要である。
府を使用するには六ｆｉｌｌの脱脂を夾施１−るたけで
街も・。しかしながら、非る２編成面を更札化すること
か望まれる場合には、その佐の化学銅析出について触媒
化および受答性と１−ることか必要である。
このため、一般に、表面を入念に脱脂し、その俊の触媒
化工程にて貞金緘の薄く均一な増の伺漸を促進する作用
をなす処理が来施される。Ｊ継絖的保作は前ｉ己表囲を
）ｔｉμ媒浴准浴液触されることを含み、この乃忠媒俗
歌昏工通宮はＨＣｌの存在により敵性化した浴液または
ＮａＣｌもしくはＬｉ Ｃ１を官む塩潴准中の堪１ヒバ
ラジウムおよび塩化第一スズに基づ（ものである。この
毎次はコロイド状のパラジウムおよびスズの間の化合物
を言む。その彼、促進化工程が行われ、その作用はりｌ
／織化された基体に伺殆しない粗い触媒粒子か化学銅浴
中へ移行−するのを阻止することである。さらに、この
浴はその触媒Ｔｉｔ力の増加のためにコロイド状混合物
中のパラジウム／スズ比率を増加させる作用を有する。
化工程にて貞金緘の薄く均一な増の伺漸を促進する作用
をなす処理が来施される。Ｊ継絖的保作は前ｉ己表囲を
）ｔｉμ媒浴准浴液触されることを含み、この乃忠媒俗
歌昏工通宮はＨＣｌの存在により敵性化した浴液または
ＮａＣｌもしくはＬｉ Ｃ１を官む塩潴准中の堪１ヒバ
ラジウムおよび塩化第一スズに基づ（ものである。この
毎次はコロイド状のパラジウムおよびスズの間の化合物
を言む。その彼、促進化工程が行われ、その作用はりｌ
／織化された基体に伺殆しない粗い触媒粒子か化学銅浴
中へ移行−するのを阻止することである。さらに、この
浴はその触媒Ｔｉｔ力の増加のためにコロイド状混合物
中のパラジウム／スズ比率を増加させる作用を有する。
一敗に、この行き赦はフルオロホウ酸、過塩糸岐等の存
在により＠性化した俗歌、またはＮａＯＨまたは他の物
質の存在によりアルカリ性化した浴液であ４）。
在により＠性化した俗歌、またはＮａＯＨまたは他の物
質の存在によりアルカリ性化した浴液であ４）。
銅の無’ｒ４＋：解析出は製飾分野および化学銅の析出
によって春休化したプラスチックの支持体上への電鋳技
術に適用され、他の処理技術では得ることのできない形
状を呈し得る適当な身さの金ノ出’ｔ ’ｋＪ’ｉ、
７ｉ’ｒイる。無創：解組析出はすべてのエレクトロニ
クス分野にその適用が見い出されるが、猶７！Ａ１化し
た穴を具えたプリント回路の製鎖に特に、ｉＩ凌してい
る。
によって春休化したプラスチックの支持体上への電鋳技
術に適用され、他の処理技術では得ることのできない形
状を呈し得る適当な身さの金ノ出’ｔ ’ｋＪ’ｉ、
７ｉ’ｒイる。無創：解組析出はすべてのエレクトロニ
クス分野にその適用が見い出されるが、猶７！Ａ１化し
た穴を具えたプリント回路の製鎖に特に、ｉＩ凌してい
る。
Ｎｉ谷される時間内にＥ和したハメさを得るためには、
一般（ｃｉ妬温度で操業する市析出速度酌またはかなり
の濃度の第二銅イオン源および還）Ｃ剤のような油成分
を含有する浴を使用する必要がある。実際には、これら
操業特性を有する浴の尋人は、これらの浴によりもたら
される高い不安定さ、その結果として槽底部の納めつき
および制御不可能な分解のために極めて困難なものであ
る。
一般（ｃｉ妬温度で操業する市析出速度酌またはかなり
の濃度の第二銅イオン源および還）Ｃ剤のような油成分
を含有する浴を使用する必要がある。実際には、これら
操業特性を有する浴の尋人は、これらの浴によりもたら
される高い不安定さ、その結果として槽底部の納めつき
および制御不可能な分解のために極めて困難なものであ
る。
本発明はこの分野での適用を見い出し、その目的は析出
速度の操業特性および、得られる析出物の光沢および延
性のような物理的性買の危険性なしに浴の最逸安定性を
Ｗ＋てことにある１つ本発明の目的は全体として相剰的
にしかも特に効果的な手段で作用する安定剤の混合物を
使用することによって銅の無ｌｌｌ１．解自触媒析出川
浴な安定化させることにある。
速度の操業特性および、得られる析出物の光沢および延
性のような物理的性買の危険性なしに浴の最逸安定性を
Ｗ＋てことにある１つ本発明の目的は全体として相剰的
にしかも特に効果的な手段で作用する安定剤の混合物を
使用することによって銅の無ｌｌｌ１．解自触媒析出川
浴な安定化させることにある。
この目的は、第二銅イオン源、ヒドロキシルイオン源、
還元剤およびアルカリ性媒質中の第二銅１ｊイオンを可
溶化する量の詰剤を言有する無電ｍ１触媒銅めっき水浴
畝において、アリルチオ尿素、少くともアルカリ金属ま
たはアンモニウムイオンのフェロシアン化物、および少
（ともオクチルフェノール１モルにつき９〜１０モルの
エチレンオギサイドのエチレンポリオキサイドのオクチ
ルフェニルエーテルで形成された安定化混合物を言有し
、これら三袖の汝冗化成分が相判作用を及ばすことを％
徴と１゛る本考ら明にまり魚成される。
還元剤およびアルカリ性媒質中の第二銅１ｊイオンを可
溶化する量の詰剤を言有する無電ｍ１触媒銅めっき水浴
畝において、アリルチオ尿素、少くともアルカリ金属ま
たはアンモニウムイオンのフェロシアン化物、および少
（ともオクチルフェノール１モルにつき９〜１０モルの
エチレンオギサイドのエチレンポリオキサイドのオクチ
ルフェニルエーテルで形成された安定化混合物を言有し
、これら三袖の汝冗化成分が相判作用を及ばすことを％
徴と１゛る本考ら明にまり魚成される。
アリルチオ尿素は、夕■の不規則な析出効果をもたらす
チオ尿素とは反対に、しみもしくは輩を示さないψ」る
（、鮮明な析出物を得ることを１１′１′。アリルチオ
尿素は極く微量から数ミリグラム／リットルの磯度範囲
で効果的なその作用を及ぼし、１べての二価の硫黄化合
物が触媒毎であるために浴を固定化しその結果として銅
の析出を抑制することがない。その最適譲度範いは０．
１〜２．５ｐｐｍである。
チオ尿素とは反対に、しみもしくは輩を示さないψ」る
（、鮮明な析出物を得ることを１１′１′。アリルチオ
尿素は極く微量から数ミリグラム／リットルの磯度範囲
で効果的なその作用を及ぼし、１べての二価の硫黄化合
物が触媒毎であるために浴を固定化しその結果として銅
の析出を抑制することがない。その最適譲度範いは０．
１〜２．５ｐｐｍである。
フェロシアン化物はアルカリ金属またはアンモニウムイ
オンの塩の形で存在することができ、好ましくはカリウ
ム塩の形である。フェロシアン化物は１００〜３０００
ｐｐｍに旦る十分に広い皺度範凹で作用する。本発明
の１的をなす他の２桶の安定剤と共働して相剰的な安定
化作用を光分に及ぼすための最適範囲は５００〜１５０
０ ｐｐｍである。
オンの塩の形で存在することができ、好ましくはカリウ
ム塩の形である。フェロシアン化物は１００〜３０００
ｐｐｍに旦る十分に広い皺度範凹で作用する。本発明
の１的をなす他の２桶の安定剤と共働して相剰的な安定
化作用を光分に及ぼすための最適範囲は５００〜１５０
０ ｐｐｍである。
この第三の安定剤はオフナルフェノールｌセルにつき９
〜ｌＯモルのエチレンオキサイトラ有スルエチレンポリ
オキサイドオクチルフェニルエーテルであり、約６５０
の半均分子量を有する。この物はトリトン（Ｔｒｉｔｏ
ｎ ） Ｘ −１００（Ｊ）部品名で知られており、ロ
ーム アンド ハース社（Ｒｏｈｍ ａｎｄ Ｈａｍｓ
Ｃｏ、 ）で製造される。トリトンＸ−１００は竹に
効果的な次面活性化ハリであり、既に銅の無′亀解析出
用浴の調製等に利用されている。しかしながら本発明に
よれば、トリトンＸ−１００は８１Ｊ述した他の２釉の
安定剤と共合４した安定剤として特に利用されるもので
あり、その人…１活性作用について、利用するものでは
ない。このことはトリトンＸ’−１００にＴｈ似する化
学類にＪｆ４する他の表面活性★１」を利用した場せに
安定化剤の相刺作用が消失する秘米を下す以下の実施例
からも指摘し得る。トリトンＸ−１００は０１〜５９／
ｅの濃度範囲で存在しりするが、０４〜ｏ、ｓｙ／、ｅ
の濃度で本発明の目的に使う最適の作用を及はす。０．
４ ｇ／ｌより低礫度では浴の析出込ｌＷが光分に増大
１−るか、その安定性は十分に信頼できるものではない
。ｏ、 ｓ ｙ／ｌを越えた場合には、析出速ｊ隻は浴
の安定性の適当な改善をなすことなしにかなり減少１°
６゜Ａｉｌ配Ｗ ａＩの成分は、それらの混合物であっ
て本発明の碇度で予期し得ない相刺作用を７Ｊ＜ずもの
であり、それぞれの両度で極めて効果的であり、これら
３ａ！成分のうちいずれかが欠けた場合には安定化の相
ｍｊ作用はより多く制約される紹米となる。
〜ｌＯモルのエチレンオキサイトラ有スルエチレンポリ
オキサイドオクチルフェニルエーテルであり、約６５０
の半均分子量を有する。この物はトリトン（Ｔｒｉｔｏ
ｎ ） Ｘ −１００（Ｊ）部品名で知られており、ロ
ーム アンド ハース社（Ｒｏｈｍ ａｎｄ Ｈａｍｓ
Ｃｏ、 ）で製造される。トリトンＸ−１００は竹に
効果的な次面活性化ハリであり、既に銅の無′亀解析出
用浴の調製等に利用されている。しかしながら本発明に
よれば、トリトンＸ−１００は８１Ｊ述した他の２釉の
安定剤と共合４した安定剤として特に利用されるもので
あり、その人…１活性作用について、利用するものでは
ない。このことはトリトンＸ’−１００にＴｈ似する化
学類にＪｆ４する他の表面活性★１」を利用した場せに
安定化剤の相刺作用が消失する秘米を下す以下の実施例
からも指摘し得る。トリトンＸ−１００は０１〜５９／
ｅの濃度範囲で存在しりするが、０４〜ｏ、ｓｙ／、ｅ
の濃度で本発明の目的に使う最適の作用を及はす。０．
４ ｇ／ｌより低礫度では浴の析出込ｌＷが光分に増大
１−るか、その安定性は十分に信頼できるものではない
。ｏ、 ｓ ｙ／ｌを越えた場合には、析出速ｊ隻は浴
の安定性の適当な改善をなすことなしにかなり減少１°
６゜Ａｉｌ配Ｗ ａＩの成分は、それらの混合物であっ
て本発明の碇度で予期し得ない相刺作用を７Ｊ＜ずもの
であり、それぞれの両度で極めて効果的であり、これら
３ａ！成分のうちいずれかが欠けた場合には安定化の相
ｍｊ作用はより多く制約される紹米となる。
本発明によれは、その特有な性質として編速でしかも１
ｌｌＪ側１された速度の析出を有する無電解銅めっき浴
の厳適な、：：利用を達成することか可能である。
ｌｌＪ側１された速度の析出を有する無電解銅めっき浴
の厳適な、：：利用を達成することか可能である。
本発明のよりよい理解のために、ｎＩＪ記安定剤を同時
にオリ用する場合に及ぼされる相刺的作用の有効性を強
両する実施例を示す。
にオリ用する場合に及ぼされる相刺的作用の有効性を強
両する実施例を示す。
実施例１
下記にかす通常の基本組成を有し、適用される安定化シ
ステムが互いに異なる数糊の浴を調製した： ＣｕＳＯ４−５Ｈ！Ｏｌ ２ Ｍ／Ｉ ＨＣＨＯ５１／Ｉ Ｎ 、 Ｎ 、 Ｎ’、 Ｎ’、テトラ（２−ヒドロキ
シゾロビル）−エチレンジアミン
２０ ＆／ｌＮａＯＨ８，５，１／／、ｅ これらの浴は安定性の効果的な相違を強調するために促
進された分解処理に供した。このためにこれら浴は７０
℃で加熱され、事前に触媒を含浸し活性化した口承の平
静な光面で処理した。次の衣１には使用した安定剤の異
なるシステムおよび３回の実験データを平均して得られ
る対応する分解時間を示す。
ステムが互いに異なる数糊の浴を調製した： ＣｕＳＯ４−５Ｈ！Ｏｌ ２ Ｍ／Ｉ ＨＣＨＯ５１／Ｉ Ｎ 、 Ｎ 、 Ｎ’、 Ｎ’、テトラ（２−ヒドロキ
シゾロビル）−エチレンジアミン
２０ ＆／ｌＮａＯＨ８，５，１／／、ｅ これらの浴は安定性の効果的な相違を強調するために促
進された分解処理に供した。このためにこれら浴は７０
℃で加熱され、事前に触媒を含浸し活性化した口承の平
静な光面で処理した。次の衣１には使用した安定剤の異
なるシステムおよび３回の実験データを平均して得られ
る対応する分解時間を示す。
（以下余白）
表 １
衣１のデータから、本発明により形成される３櫨の安定
剤の同時利用か化学鋼浴の安定性の全く予ル」し得ない
増加をもたらすことがわかる。
剤の同時利用か化学鋼浴の安定性の全く予ル」し得ない
増加をもたらすことがわかる。
同時に駕（べきはトリトンＸ−１００をランクロ（Ｌａ
ｎｋｒｏ ）により装造されたエチレン−２０の部品名
で知られており、化学銅浴に普通に使用される吹回活性
剤で置き換えた（９）命目のテークである。
ｎｋｒｏ ）により装造されたエチレン−２０の部品名
で知られており、化学銅浴に普通に使用される吹回活性
剤で置き換えた（９）命目のテークである。
エチレン−２０はトリトンＸ−１００と同一の化学類に
鵜し、すなわち非イオン性のポリオギシレンの底面活性
剤であってノニルフェノール１モルにつき約２０モルの
エチレンオギサイドケ有するエチレンポリオキ１Ｊイド
ノニルフエニルエーテルであり、仮ってトリトンＸ〜１
００よりほんのわ１”かｌく、より親水性である。この
場合、三成分系安定化混合物の使用による安定性の増加
は全く消失し、かくしてトリトンＸ−１００は表面粘性
剤としてもっばら作用するものではなく、従って他の表
面を占１生角りでＩｋｔき換えることができないもので
ある。９゜ 実施例２ 実施例１と同様にして実施例１の（１）〜（９）の谷場
合に対応する安定化の異なる９梢の階を調製したが、そ
の通常の基本組成は次に示すようにした。
鵜し、すなわち非イオン性のポリオギシレンの底面活性
剤であってノニルフェノール１モルにつき約２０モルの
エチレンオギサイドケ有するエチレンポリオキ１Ｊイド
ノニルフエニルエーテルであり、仮ってトリトンＸ〜１
００よりほんのわ１”かｌく、より親水性である。この
場合、三成分系安定化混合物の使用による安定性の増加
は全く消失し、かくしてトリトンＸ−１００は表面粘性
剤としてもっばら作用するものではなく、従って他の表
面を占１生角りでＩｋｔき換えることができないもので
ある。９゜ 実施例２ 実施例１と同様にして実施例１の（１）〜（９）の谷場
合に対応する安定化の異なる９梢の階を調製したが、そ
の通常の基本組成は次に示すようにした。
ＣｕＳＯ４・５ Ｈ２Ｏ２０１１／１
ＨＣＨＯｌ Ｏｙ／１ｌ
ＥＤＴＡ ３０ ＆／１１Ｎ
ａＯＨ１５１１／ ｌ 実施例と全く同様にして分解処理を実施した。
ａＯＨ１５１１／ ｌ 実施例と全く同様にして分解処理を実施した。
得られた結果を衣２に示−１０
六 ２
この表２に示されるテークを分析することかられかるよ
うに、考慮される浴の安定性は実施例１の対応する各場
合と全く同様であり、１−なわち本発明により三成分系
安定化混合物の相閑」特性が雑誌される。
うに、考慮される浴の安定性は実施例１の対応する各場
合と全く同様であり、１−なわち本発明により三成分系
安定化混合物の相閑」特性が雑誌される。
実施例３
Ｐ１ｉｊ運の来に山側におけるように、実施例１および
２に記載した柚々の安定化システムを適用し、基本組成
は次のようにして種々の浴を調製した：ＣｕＳＯ４−５
Ｈ，Ｏｌ Ｏ＆／Ｉ ＨＣＨＯａ ＆／ＩＩ ロツシュル塩 ３ｏＭ、ＱＮ＾Ｏ
Ｈ９１／７３ これらの浴を前述実施例に記載したと同一の促進した分
解処理に供したところ、衣３に示すような結果を侍た。
２に記載した柚々の安定化システムを適用し、基本組成
は次のようにして種々の浴を調製した：ＣｕＳＯ４−５
Ｈ，Ｏｌ Ｏ＆／Ｉ ＨＣＨＯａ ＆／ＩＩ ロツシュル塩 ３ｏＭ、ＱＮ＾Ｏ
Ｈ９１／７３ これらの浴を前述実施例に記載したと同一の促進した分
解処理に供したところ、衣３に示すような結果を侍た。
（以下余白）
表 ３
再び１噸々の安定化システムの挙動が確認され、アリル
チオ尿素、フェロシアン化カリおよびトＩＪ ）ンＸ−
１００の二成分系混合物に対応する（８）の−合は例外
としてＭｉＪ記混記動合物む浴の促進した分触に長時間
必要なことが強調された。
チオ尿素、フェロシアン化カリおよびトＩＪ ）ンＸ−
１００の二成分系混合物に対応する（８）の−合は例外
としてＭｉＪ記混記動合物む浴の促進した分触に長時間
必要なことが強調された。
本発明による足安化システムによりかなりの安定特性が
浴に伺与される以外にも、次の実施例に５虫調されるよ
うに得られる析出物の物理的性質１判、に光沢および延
性が最適になる。
浴に伺与される以外にも、次の実施例に５虫調されるよ
うに得られる析出物の物理的性質１判、に光沢および延
性が最適になる。
夾施例４
フッ化水木アンモニウムで処理して粗面化したカラスプ
ラーク（ｇｌａｓａ ｐｌａｑｕｅｓ ）で形成した互
いに等しい檀々の試料を調製した。これら試料を次のザ
イクルに従って触媒化した：脱 脂
５′ ６５℃洗 ＃
２’ ２０℃触媒反応（
ＰｄＣｌ２＋５ｎＣ４−１−）ｆｃｌ ５／ ５
０℃洗 浄 ２′
２０℃促進化（３チＨＢＦ４） ５’
２０℃これらの試料はその後、冥施例１の浴により、３
時間の接触時間で連続攪拌しつつ５５℃にて金属化した
。加工は２ ｄｍｑ／７の負荷で実施した。
ラーク（ｇｌａｓａ ｐｌａｑｕｅｓ ）で形成した互
いに等しい檀々の試料を調製した。これら試料を次のザ
イクルに従って触媒化した：脱 脂
５′ ６５℃洗 ＃
２’ ２０℃触媒反応（
ＰｄＣｌ２＋５ｎＣ４−１−）ｆｃｌ ５／ ５
０℃洗 浄 ２′
２０℃促進化（３チＨＢＦ４） ５’
２０℃これらの試料はその後、冥施例１の浴により、３
時間の接触時間で連続攪拌しつつ５５℃にて金属化した
。加工は２ ｄｍｑ／７の負荷で実施した。
下記に示す結果は少（とも３−の実験データの平均値を
示すものである： 表 ４ 延性はカラス基体から析出物を剥離し、１８０゜まで繰
返し曲げ、それにより曲げ縁を平らにするために毎回若
干の圧力をかけることにより訓電した。析出物の庫さは
予め知られているプラークの六面績に基づき、＝＊測測
定より測定し１こ。
示すものである： 表 ４ 延性はカラス基体から析出物を剥離し、１８０゜まで繰
返し曲げ、それにより曲げ縁を平らにするために毎回若
干の圧力をかけることにより訓電した。析出物の庫さは
予め知られているプラークの六面績に基づき、＝＊測測
定より測定し１こ。
衣４に７］べされるデータから、本発明による浴によっ
て得られる析出速度および延性と光沢との！＋８／Ｉ埋
的性質は特に有益であり、それ自体でもたらされるかな
りの実際的妙味あるものである。
て得られる析出速度および延性と光沢との！＋８／Ｉ埋
的性質は特に有益であり、それ自体でもたらされるかな
りの実際的妙味あるものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、第二銅イオン源、ヒドロキシルイオン弥。 還元剤、およびアルカリ注媒質甲の第二銅イオンを可若
１ヒする重の殆剤を含有する無峨解目′ＩｆｆＬ媒銅め
つき水浴故において、前記水浴故がアリルチオ床梁、少
くともアル刀り玉槁まγこはアンモニウムイ万ンの７エ
ロシアン（Ｉｓ Ｗ。 次ヨび少くとも万りテルフェノール１モルにつき９〜１
０モルのエチレンオキサイドのエチレンポリオキサイド
のオクチルフェニルエーテルで形成さｎた女足化混合！
ｍを含有し。 罰記三握の安定化取分か相剰ｉ′ｆｌ：用を及は丁無′
酸解目月丸媒Ａｐｌめっき水浴柩。 ２、 アリルチオ床梁の峡度範ヒか０．１〜ｌｏｐｐｍ
である吋許趙不の範囲第１項記載の浴液０３、 アリル
チオ尿系の践度軛−２０，５〜１．５ｐｐｍである愕吐
鋼釆の一１ρ囲第２項記載の蒸成。 ４ フェロシアン化物がフェロシアン化カリの形で１０
０〜３０００ ｐｐｍの咲度軛囲で存−（Ｊ−する特許
１４）４氷の範囲第１項記載の浴液。 ５、 フェロシアン化カリか５００〜１５００ ｐｐｍ
のα龜ハ〔申１．し１１ で存イ辷す る伸子的・ｉ
ぼ刃〈の転出」しｉ ４ 項目１戦の浴数。 ６ オクチルフェノール１モルにつき９〜１０モルのエ
チレンオキサイドのエチレンポリオキサイドのオクチル
フェニルエーテルが１００〜５０００ｐｐｍの磯度範囲
で存在する喝許珀求の範囲第１項記載の浴液。 ７ 前記エチレンポリオキサイドのオクチルフェニルエ
ーテルが４００〜８００ｐｐｍの磯度範囲で存在するｔ
＋−ｙ粁請求の範囲第６項記載の俗−０ ８第二銅イオン源が五水化憾酸餉である竹許ｈＰｉ求の
範囲第１項記載の溶液。 ９ 五水化佃Ｃ酸銅か１１１／１４から飽相までの一度
軛囲で存在する特許８１１（氷の範囲第８狽記載の俗ｆ
′区１、 １０、 五水化値瞭銅が５１／ｌ〜１５ ｇ／１１の
礫度範囲で存在１−る特許請求の範囲第９項記載の俗？
げ。 １１、 ヒドロキシルイオン源が水酸化ナトリウムで
ある％ｉｆｆ珀求の範囲第１項記載の１し１２ 水数
化す） ＩＪウムか１９／ｌかも飽和までの龜展乾ｌで
イｒ仕１−る特１−趙求の範囲第１１唄Ｈ己載の浴液。 １３ 水酸化ナトリウムが２．５ ＆／ｌ〜１５ｉ／
ｌの践度範囲で有−在する特許請求の範囲第１項記載の
浴液。 １４ 還元剤がホルムアルデヒドまたはその肪導俸も
しくは先駆体である特許ｄＨ求の範囲第１項記載のｆ６
准。 １５、 ホルムアルデヒドかｌｖ／１７Ｊ−ら飽和ま
での鍼度−１１囲で在任する特許請求の範囲第１４唄６
己載の存す ６タ。 １６、 ホルムアルデヒドが２９／ｌ〜ｌｏｇ／ｌｊ
のＱ熾Ｉ支事０．囲で存在する慣許６盲氷の範囲第１５
狽６己載のａ浴。 １７ 鉛★りがＮ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ１．テトラ（２−ヒ
ドロキシゾロビル）エチレンジアミンである特計り肖オ
（の１９巳囲紀１項ｎ己載の浴液。 １８、 Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’、テトラ（２−ヒドロキ
シプロピル）エチレンジアミンと五水化値敵銅とのセル
比が１〜１０の範囲である特ｉ珀求の範囲第１７項ｉ１
ル伸の浴ｊＫ。 １９、 Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’、テトラ（２−ヒドロキ
シゾロビル）エチレンジアミンと五水化硫酸餉とのモル
比か１〜１５の範囲である特許請求の範囲第１８唄記載
の浴液。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT67272-A/82 | 1982-03-09 | ||
| IT67272/82A IT1157006B (it) | 1982-03-09 | 1982-03-09 | Miscela stabilizzante per un bagno di rame chimico |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58153767A true JPS58153767A (ja) | 1983-09-12 |
| JPH0237430B2 JPH0237430B2 (ja) | 1990-08-24 |
Family
ID=11301028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58025442A Granted JPS58153767A (ja) | 1982-03-09 | 1983-02-16 | 化学銅めつき浴用安定化混合物 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4443257A (ja) |
| EP (1) | EP0088465B1 (ja) |
| JP (1) | JPS58153767A (ja) |
| CA (1) | CA1188056A (ja) |
| DE (1) | DE3364305D1 (ja) |
| IT (1) | IT1157006B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0726518A (ja) * | 1993-01-22 | 1995-01-27 | Nippon Kikai Kogyo Kk | 防雪柵 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6070183A (ja) * | 1983-09-28 | 1985-04-20 | C Uyemura & Co Ltd | 化学銅めっき方法 |
| DE3622090C1 (ja) * | 1986-07-02 | 1990-02-15 | Blasberg-Oberflaechentechnik Gmbh, 5650 Solingen, De | |
| CN1679154A (zh) * | 2002-05-16 | 2005-10-05 | 新加坡国立大学 | 晶片级无电镀铜法和凸块制备方法,以及用于半导体晶片和微芯片的渡液 |
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| CN108777915B (zh) * | 2017-05-30 | 2021-07-23 | 杨军 | 在多孔基底上制造高导电特性铜-纤维混合物的方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US3361580A (en) * | 1963-06-18 | 1968-01-02 | Day Company | Electroless copper plating |
| CH490509A (de) * | 1966-02-01 | 1970-05-15 | Photocircuits Corporations | Bad zum stromlosen Abscheiden von Metallschichten |
| US3485643A (en) * | 1966-05-06 | 1969-12-23 | Photocircuits Corp | Electroless copper plating |
| FR1522048A (fr) * | 1966-05-06 | 1968-04-19 | Photocircuits Corp | Dépôt non galvanique de métaux |
| BE757573A (fr) * | 1969-10-16 | 1971-04-15 | Philips Nv | Depot sans courant de cuivre flexible |
| US4138267A (en) * | 1976-12-28 | 1979-02-06 | Okuno Chemical Industry Company, Limited | Compositions for chemical copper plating |
-
1982
- 1982-03-09 IT IT67272/82A patent/IT1157006B/it active
-
1983
- 1983-02-15 US US06/466,658 patent/US4443257A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-02-16 JP JP58025442A patent/JPS58153767A/ja active Granted
- 1983-02-24 DE DE8383200279T patent/DE3364305D1/de not_active Expired
- 1983-02-24 CA CA000422292A patent/CA1188056A/en not_active Expired
- 1983-02-24 EP EP83200279A patent/EP0088465B1/fr not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0726518A (ja) * | 1993-01-22 | 1995-01-27 | Nippon Kikai Kogyo Kk | 防雪柵 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IT1157006B (it) | 1987-02-11 |
| EP0088465B1 (fr) | 1986-07-02 |
| DE3364305D1 (en) | 1986-08-07 |
| JPH0237430B2 (ja) | 1990-08-24 |
| US4443257A (en) | 1984-04-17 |
| CA1188056A (en) | 1985-06-04 |
| EP0088465A1 (fr) | 1983-09-14 |
| IT8267272A0 (it) | 1982-03-09 |
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