JPS5813573A - γ−ブチロラクトンの製造方法 - Google Patents
γ−ブチロラクトンの製造方法Info
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- JPS5813573A JPS5813573A JP56113170A JP11317081A JPS5813573A JP S5813573 A JPS5813573 A JP S5813573A JP 56113170 A JP56113170 A JP 56113170A JP 11317081 A JP11317081 A JP 11317081A JP S5813573 A JPS5813573 A JP S5813573A
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、r−ブチロラクトンの製造方法に関するもの
である・ 本発明の方法によれば、極めて高い収率で1,4−ブタ
ンジオールからr−ブチロラクトンを製造することがで
きる。
である・ 本発明の方法によれば、極めて高い収率で1,4−ブタ
ンジオールからr−ブチロラクトンを製造することがで
きる。
従来、r−ブチロラクトンは、無水マレイン酸の水添、
又h1.4−ブタンジオールの脱水素により工業的に製
造されている。後者の方法は、原料の1.4−ブタンジ
オールが、アセチレンとホルマリンとの反応生成物を水
添することにより生産されている為、価格が高くなり、
必ずしも有利な方法ではなかった。しかし、近年ブタジ
ェンから1゜4−ブタンジオールを合成する方法が、工
業的レベルに到達し九ことで安価な1.4−ブタンジオ
ールを入手することができ、前者よ抄有利な方法として
注目されている。しかしながら、後者は、気相で鋼を含
有する担持曽媒を用い反応を行わせるが、反応温度が高
温である(例えに英国特許第1.066,979号参照
)為に触媒が経時劣化する・この為、触媒の再生操作が
必要とな抄工業プロセスとして操業上問題となる。この
問題点を解決する方法として、1.4−ブタンジオール
を温和な条件で接触的に酸化脱水素して、T−ブチロラ
クトンを製造する方法が提案されている0例えば、触媒
としてパラジウムまたは白金を用い先方法<tn開@5
5−44107号公報参照)、パラジウムと鉛を含む特
定の元素からなる金属間化合物を用いる方法(特開18
5B−153740号公報参照)が開示されている。し
かし、これらの方法では、r−ブチロラクトンの収率が
実用的レベルとは言い難いものであった・ また、l、4−ブタンジオールから1−ブチロ2タトン
を接触酸化脱水素により得る方法においては、原料01
.4−ブタンジオールのコストが、製造;ストの大半を
占めると予想されるので、特に高い選択率を与える触媒
が要求される。
又h1.4−ブタンジオールの脱水素により工業的に製
造されている。後者の方法は、原料の1.4−ブタンジ
オールが、アセチレンとホルマリンとの反応生成物を水
添することにより生産されている為、価格が高くなり、
必ずしも有利な方法ではなかった。しかし、近年ブタジ
ェンから1゜4−ブタンジオールを合成する方法が、工
業的レベルに到達し九ことで安価な1.4−ブタンジオ
ールを入手することができ、前者よ抄有利な方法として
注目されている。しかしながら、後者は、気相で鋼を含
有する担持曽媒を用い反応を行わせるが、反応温度が高
温である(例えに英国特許第1.066,979号参照
)為に触媒が経時劣化する・この為、触媒の再生操作が
必要とな抄工業プロセスとして操業上問題となる。この
問題点を解決する方法として、1.4−ブタンジオール
を温和な条件で接触的に酸化脱水素して、T−ブチロラ
クトンを製造する方法が提案されている0例えば、触媒
としてパラジウムまたは白金を用い先方法<tn開@5
5−44107号公報参照)、パラジウムと鉛を含む特
定の元素からなる金属間化合物を用いる方法(特開18
5B−153740号公報参照)が開示されている。し
かし、これらの方法では、r−ブチロラクトンの収率が
実用的レベルとは言い難いものであった・ また、l、4−ブタンジオールから1−ブチロ2タトン
を接触酸化脱水素により得る方法においては、原料01
.4−ブタンジオールのコストが、製造;ストの大半を
占めると予想されるので、特に高い選択率を与える触媒
が要求される。
本発明者らは、工業的見地から満足できる触媒を見い出
すべく、鋭意検討した結果、特定の調製法によ1調製し
たパラジウム及び鉛を含有する触媒を使用すると、極め
て高い収率及び選択率で1−ブチロラクトンが得られる
ことを見出し本発明を完成し九・ 即ち、本発明紘、パラジウム及び鉛を含有する触媒O存
在下、1.4−ブタンジオールを分子状酸素によ抄接触
酸化脱水素してr−ブチロツクトンを製造する方法にお
いて、該触媒が次の工程によ#)II造され友ものであ
ることを特徴とする方法(1) 担体にパラジウム化
合物を担持する過程で又はその終了後還元処理を行なう (2) これに鉛化合物を担持する を提供するにある・ 本発明の方法で調製した触媒は、極めて高い活性及び選
択性を示し、その構造は、x11回折による測定による
と、殆ど非晶質であ抄、パラジウム金属自身の又はパラ
ジウム酸化物(PdO)の弱い回折儂が得られる場合も
あるが、パラジウムと鉛を含む金属間化合物の生成は認
められない・本発明の方法は、溶媒を使用せずに1.4
−ブタンジオール単独で液相或いは気相で反応させるこ
とで実施できるが1反応に無関係な有機溶媒を使用する
こともできる。
すべく、鋭意検討した結果、特定の調製法によ1調製し
たパラジウム及び鉛を含有する触媒を使用すると、極め
て高い収率及び選択率で1−ブチロラクトンが得られる
ことを見出し本発明を完成し九・ 即ち、本発明紘、パラジウム及び鉛を含有する触媒O存
在下、1.4−ブタンジオールを分子状酸素によ抄接触
酸化脱水素してr−ブチロツクトンを製造する方法にお
いて、該触媒が次の工程によ#)II造され友ものであ
ることを特徴とする方法(1) 担体にパラジウム化
合物を担持する過程で又はその終了後還元処理を行なう (2) これに鉛化合物を担持する を提供するにある・ 本発明の方法で調製した触媒は、極めて高い活性及び選
択性を示し、その構造は、x11回折による測定による
と、殆ど非晶質であ抄、パラジウム金属自身の又はパラ
ジウム酸化物(PdO)の弱い回折儂が得られる場合も
あるが、パラジウムと鉛を含む金属間化合物の生成は認
められない・本発明の方法は、溶媒を使用せずに1.4
−ブタンジオール単独で液相或いは気相で反応させるこ
とで実施できるが1反応に無関係な有機溶媒を使用する
こともできる。
本発明の製造法−・□用いられる有機溶媒としては、]
1.4−ブタンジオールを溶解若しくは分散させるもの
であればよく、−えばジエチルエーテル、ジエチレンク
リコールジエチルエーテル、アニソール、テトラヒドロ
7ラン、ジオキサンなどのエーテル類、プルビオニトリ
ルなどのニトリル類、N−メチルピロリドン等のア2ド
類、酢酸エチルなどのエステル類、r−ブチロラクトン
等のラクトン類、ケトン類、ニトク化合物、炭化水素化
合物などが用いられる。また、アルコール類を溶媒とし
て用いることもできるが、溶媒自身O酸化反応が起き、
を丸目的生成物以外のエステルなどの副生物が増加する
ので好ましいものではない、なお、上記溶媒は、混合し
て用いるとともできる。
であればよく、−えばジエチルエーテル、ジエチレンク
リコールジエチルエーテル、アニソール、テトラヒドロ
7ラン、ジオキサンなどのエーテル類、プルビオニトリ
ルなどのニトリル類、N−メチルピロリドン等のア2ド
類、酢酸エチルなどのエステル類、r−ブチロラクトン
等のラクトン類、ケトン類、ニトク化合物、炭化水素化
合物などが用いられる。また、アルコール類を溶媒とし
て用いることもできるが、溶媒自身O酸化反応が起き、
を丸目的生成物以外のエステルなどの副生物が増加する
ので好ましいものではない、なお、上記溶媒は、混合し
て用いるとともできる。
溶媒の使用貴社、反応一度、触媒量、反応時間などによ
り異なるが、1.4−ブタンジオールに対して重量比で
、0.5〜400倍、好ましくat〜WOO倍が使用さ
れる。
り異なるが、1.4−ブタンジオールに対して重量比で
、0.5〜400倍、好ましくat〜WOO倍が使用さ
れる。
本IIW140触媒は、反応面及び経済的見地から担体
O使用が好ましい・担体としては、活性炭、黒鉛、アル
2す、シリカ、炭酸〃ルシウム等が使用できるが、殊に
アル2す及び活性炭が好ましい。
O使用が好ましい・担体としては、活性炭、黒鉛、アル
2す、シリカ、炭酸〃ルシウム等が使用できるが、殊に
アル2す及び活性炭が好ましい。
本発明の方法に使用する触媒の原料として用いられるパ
ラジウム化合物は、塩化パラジウム表どOハーゲン化パ
ラジウム、酢酸パラジウムなどの有機−虐、硝酸パラジ
ウム、酸化パラジウムなどが有利であるが、塩化パラジ
ウムナトリウム、硫酸パラジウムなどの他のパラジウム
化合物の使用も可能である。また鉛化合物としては、鉛
の塩類例えば硝酸、硫酸、塩酸、ホウ酸などの無機酸塩
またはギ酸、酢酸、プロピオン酸、マロン酸tコハク酸
、グルタル酸、マレイン酸、安息香酸などの有機酸塩、
あるいは酸化物、水酸化物などが使用可能でら抄、添加
される鉛の量はノ(ツジウ五にまた本発明の触媒は、パ
ラジウム及び鉛の他に白金、銅、ゲルマニウム、すず、
ナトリウムなどのアルカリ金属、マグネシウムなどのア
ルカリ土類金属などの元素を一種又はそれ以上含有して
もよい。
ラジウム化合物は、塩化パラジウム表どOハーゲン化パ
ラジウム、酢酸パラジウムなどの有機−虐、硝酸パラジ
ウム、酸化パラジウムなどが有利であるが、塩化パラジ
ウムナトリウム、硫酸パラジウムなどの他のパラジウム
化合物の使用も可能である。また鉛化合物としては、鉛
の塩類例えば硝酸、硫酸、塩酸、ホウ酸などの無機酸塩
またはギ酸、酢酸、プロピオン酸、マロン酸tコハク酸
、グルタル酸、マレイン酸、安息香酸などの有機酸塩、
あるいは酸化物、水酸化物などが使用可能でら抄、添加
される鉛の量はノ(ツジウ五にまた本発明の触媒は、パ
ラジウム及び鉛の他に白金、銅、ゲルマニウム、すず、
ナトリウムなどのアルカリ金属、マグネシウムなどのア
ルカリ土類金属などの元素を一種又はそれ以上含有して
もよい。
本発明の触媒の調製法は、先ず前記)くラジウム化合物
を担体に公知の含浸、混線、蒸発乾固などの方法で担持
する過程又はその後に公知O還元方法、例えばホルマリ
ン又はヒドラジンで還元処理を行なうか、乾燥後水素ガ
スなどの還元剤で還元処理を施す、その後、これに鉛化
合物を前記の公知の担持法で担持する。鉛化合物を担持
した後は、乾燥して触媒として使用するか、空気、酸素
又は窒素などの不活性ガス、又は水素などの還元性ガス
中で加熱操作を行なった後、触媒として使用する・加熱
温度は150℃〜600Cが好ましい。
を担体に公知の含浸、混線、蒸発乾固などの方法で担持
する過程又はその後に公知O還元方法、例えばホルマリ
ン又はヒドラジンで還元処理を行なうか、乾燥後水素ガ
スなどの還元剤で還元処理を施す、その後、これに鉛化
合物を前記の公知の担持法で担持する。鉛化合物を担持
した後は、乾燥して触媒として使用するか、空気、酸素
又は窒素などの不活性ガス、又は水素などの還元性ガス
中で加熱操作を行なった後、触媒として使用する・加熱
温度は150℃〜600Cが好ましい。
市販6パラジウムー活性炭、又はパラジウム−アル2す
触媒などに必要ならば上記の方法で還元処理を行なった
後、鉛化合物を担持した触媒も、同様に本発明の方法と
して使用することができる・前述の白金などの元素社、
上記oysaa法のいかなる段階で担持してもよい。
触媒などに必要ならば上記の方法で還元処理を行なった
後、鉛化合物を担持した触媒も、同様に本発明の方法と
して使用することができる・前述の白金などの元素社、
上記oysaa法のいかなる段階で担持してもよい。
反応に使用する分子状酸素は、純粋な酸素である必要は
なく、不活性ガスで希釈された酸素、例えば空気であっ
てもよい0反応一度は・〜250℃、奸ましくは室温〜
22Q℃が使用される・反応圧力は限定的ではないが、
沸常常圧表いし数十気圧の加圧下で行われる0反応は、
1分式あるいは連続式のいずれでも実施することが出来
る。
なく、不活性ガスで希釈された酸素、例えば空気であっ
てもよい0反応一度は・〜250℃、奸ましくは室温〜
22Q℃が使用される・反応圧力は限定的ではないが、
沸常常圧表いし数十気圧の加圧下で行われる0反応は、
1分式あるいは連続式のいずれでも実施することが出来
る。
次に、実施例及び比較例を挙げ、本発明をさらに詳細に
説明する。なお、実施例及び比較例における分析結果の
1%」はrモルラ」である。
説明する。なお、実施例及び比較例における分析結果の
1%」はrモルラ」である。
実施例1
1.4−ブタンジオール5fをジオキサン!iotに溶
解させ、これをガス吹き込み口、攪拌器、冷却器及び温
度計を備えた四つロヅラスコに仕込み、次に、この液に
アルミナ担持5型量シバラジウム触媒(S%Pd/AI
tosと略記する)(日本エンゲルハルト社製)に金属
として10重量うの酢酸鉛を、酢酸鉛水溶液を該パラジ
ウム触媒に含浸する方法で担持し、乾燥させ九触媒(5
%Pd−10%Pb/Al5o婁と略記する)を2.5
を加え、空気を15011//分の流速で咳液に導入し
、常圧下、80℃、3時間反応させた。なお上記5%P
d /ムl雪0m触媒社、市販品であるが予め還元され
ているものである。反応終了後、ガスクロマトグラフイ
二によ抄分析し糾結果を表−IK示し九・なお、本触媒
のX線回折測定で紘、パラジウムと鉛を含む金属間化合
物の生成は認められなかつえ。
解させ、これをガス吹き込み口、攪拌器、冷却器及び温
度計を備えた四つロヅラスコに仕込み、次に、この液に
アルミナ担持5型量シバラジウム触媒(S%Pd/AI
tosと略記する)(日本エンゲルハルト社製)に金属
として10重量うの酢酸鉛を、酢酸鉛水溶液を該パラジ
ウム触媒に含浸する方法で担持し、乾燥させ九触媒(5
%Pd−10%Pb/Al5o婁と略記する)を2.5
を加え、空気を15011//分の流速で咳液に導入し
、常圧下、80℃、3時間反応させた。なお上記5%P
d /ムl雪0m触媒社、市販品であるが予め還元され
ているものである。反応終了後、ガスクロマトグラフイ
二によ抄分析し糾結果を表−IK示し九・なお、本触媒
のX線回折測定で紘、パラジウムと鉛を含む金属間化合
物の生成は認められなかつえ。
比較例1
S%I’d/A1.O,触媒(日本エンゲルハルト社調
、予め還元されている)を用いた他は実施例1と同様に
反応を行なり九、結果をl!−IK示した。
、予め還元されている)を用いた他は実施例1と同様に
反応を行なり九、結果をl!−IK示した。
実施例2及び3
表−重に示しえ添加する鉛の含量が異なる以外は、実施
例1と同様にして触媒を調製し、これを用いて反応を行
った。結果を1!−I K示した拳なお、これらの触媒
についてもX線回折測定を行なつえ結果1両触媒共に金
属間化合物は生成していなかつ九。
例1と同様にして触媒を調製し、これを用いて反応を行
った。結果を1!−I K示した拳なお、これらの触媒
についてもX線回折測定を行なつえ結果1両触媒共に金
属間化合物は生成していなかつ九。
実施例4
実施例1で調製した5%Pd−10%Pb/Altos
触媒を、空気流通下、SOO℃で3時間焼成した。
触媒を、空気流通下、SOO℃で3時間焼成した。
この触媒を用い九傭は、実施例1と同様に反応を行なり
九、結果を表−IK示した。なお、xiui折一定り結
果、本触媒には金属間化合物の生成は認めもれなかつえ
。
九、結果を表−IK示した。なお、xiui折一定り結
果、本触媒には金属間化合物の生成は認めもれなかつえ
。
比験例!
特開昭I!−1!$3140号会報の実施例1と同じ方
法で、触媒を調製した。すなわち酢酸マグネシウム(C
HlCOOhMg・4Hx01.76 fと酢酸鉛(C
HsCOO)意pb・3HsOO,92fを約40仁の
水にとかし、シリカゲル(富士デヴイソン。
法で、触媒を調製した。すなわち酢酸マグネシウム(C
HlCOOhMg・4Hx01.76 fと酢酸鉛(C
HsCOO)意pb・3HsOO,92fを約40仁の
水にとかし、シリカゲル(富士デヴイソン。
SD)を10f加え、沸騰水浴上でかきまぜながら、含
浸、蒸発、・乾固させ、さらに空気中SOO℃で3時間
焼成したものを、60℃に加温し丸環化パラジウムPd
C1意0.83 tを含む希塩酸水溶液に加え、攪拌し
ながらパラジウムを含浸させた・次いで、ホルマリン水
溶液2−とl規定水酸化ナトリウム水溶液を添加後、得
られ九担持触媒を口別し、水洗、乾燥し九・この触媒(
Pd−Pb−Mg/81Chと略記する)のxma折は
、Pb1Pdl の金属間化合物(2畠−3L6°、4
4.8’、 65.4°、78.6°)を示し、Pd金
属の回折ピークは検出湯れなかりた。この触媒を用いて
実施例1と同様に反応を行なった。結果を表−1に示し
九・ 実施例5 活性炭担持5重量ラバラジウム触媒(日本エンゲルハル
ト社製、予め還元されている)に、金属として10重i
t%の鉛を担持し九触媒(5%Pd−10%Pb/Cと
略記する)を用いた−は、実施−1と同様に反応を行っ
た。この触媒のX@回折測定では、金属間化合物は認め
られなかった。反応終了後、実施例1と同様にして分析
した結果、r −ブチロラクトン選択率はほぼ100%
であり九。
浸、蒸発、・乾固させ、さらに空気中SOO℃で3時間
焼成したものを、60℃に加温し丸環化パラジウムPd
C1意0.83 tを含む希塩酸水溶液に加え、攪拌し
ながらパラジウムを含浸させた・次いで、ホルマリン水
溶液2−とl規定水酸化ナトリウム水溶液を添加後、得
られ九担持触媒を口別し、水洗、乾燥し九・この触媒(
Pd−Pb−Mg/81Chと略記する)のxma折は
、Pb1Pdl の金属間化合物(2畠−3L6°、4
4.8’、 65.4°、78.6°)を示し、Pd金
属の回折ピークは検出湯れなかりた。この触媒を用いて
実施例1と同様に反応を行なった。結果を表−1に示し
九・ 実施例5 活性炭担持5重量ラバラジウム触媒(日本エンゲルハル
ト社製、予め還元されている)に、金属として10重i
t%の鉛を担持し九触媒(5%Pd−10%Pb/Cと
略記する)を用いた−は、実施−1と同様に反応を行っ
た。この触媒のX@回折測定では、金属間化合物は認め
られなかった。反応終了後、実施例1と同様にして分析
した結果、r −ブチロラクトン選択率はほぼ100%
であり九。
比較例3
鉛を担持しないことの他は、実施例器と同様に反応及び
分析を行なったところ、r−ブチロラクトン選択率は5
9%であった゛。
分析を行なったところ、r−ブチロラクトン選択率は5
9%であった゛。
上記実施例及び比較例から、ボ発明の方法が優れること
は明らかである・ (以下余白)
は明らかである・ (以下余白)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 パラジウム及び鉛を含有する触媒の存在下、1゜4−ブ
タンジオールを分子状酸素によ抄接触酸化脱水素してr
−ブチロラクトンを製造する方法において、該触媒が次
め工程によ抄製造されたものであることを特徴とする方
法 (1) 担体にパラジウム化合物を担持する過程で又
はその終了後還元処理を行なう (j これに鉛化合物を担持する@
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56113170A JPS5813573A (ja) | 1981-07-20 | 1981-07-20 | γ−ブチロラクトンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56113170A JPS5813573A (ja) | 1981-07-20 | 1981-07-20 | γ−ブチロラクトンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5813573A true JPS5813573A (ja) | 1983-01-26 |
JPH0227349B2 JPH0227349B2 (ja) | 1990-06-15 |
Family
ID=14605325
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56113170A Granted JPS5813573A (ja) | 1981-07-20 | 1981-07-20 | γ−ブチロラクトンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5813573A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5210229A (en) * | 1991-07-17 | 1993-05-11 | Tonen Chemical Corporation | Process for the preparation of gamma-butyrolactone |
-
1981
- 1981-07-20 JP JP56113170A patent/JPS5813573A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5210229A (en) * | 1991-07-17 | 1993-05-11 | Tonen Chemical Corporation | Process for the preparation of gamma-butyrolactone |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0227349B2 (ja) | 1990-06-15 |
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