JPS58130107A - ホスホニトリルクロライド類の精製方法 - Google Patents
ホスホニトリルクロライド類の精製方法Info
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- JPS58130107A JPS58130107A JP57011765A JP1176582A JPS58130107A JP S58130107 A JPS58130107 A JP S58130107A JP 57011765 A JP57011765 A JP 57011765A JP 1176582 A JP1176582 A JP 1176582A JP S58130107 A JPS58130107 A JP S58130107A
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- tri
- phosphonitrile
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/082—Compounds containing nitrogen and non-metals and optionally metals
- C01B21/097—Compounds containing nitrogen and non-metals and optionally metals containing phosphorus atoms
- C01B21/098—Phosphonitrilic dihalides; Polymers thereof
- C01B21/0986—Phosphonitrilic dichlorides; Polymers thereof
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は純度の高いトリ（ホスホニトリルクロッイド）
およびテトラ（ホスホニトリルクロ２イド）を高収率で
簡便に製造することを目的とするものであって、トリ（
ホスホニトリルクロライド） （ｙｐｃｔ２’＞ｓ とテトラ（ホスホニトリルクロライド）（ＮＰｃｔｚ）
４ または／およびホスホニトリルクロライドオリゴマー （ＮＰＣｌ２ ）ｍ （式中ｍは５以上の整数を表わす）との混合物に沸点１
５０〜４００℃の不活性有機溶媒を加えて蒸留してトリ
（ホスホニトリルクロライド）と該溶媒との混合物を留
出させることを特徴とするトリ（ホスホニトリルクロラ
イド）とテトラ（ホスホニトリルクロライドまたは／お
よびホスホニトリルクロライドオリゴマーとの分離方法
であり、留出したトリ（ホスホニトリルクロライド）と
溶媒との混合物およびテトラ（ホスホニトリルクロライ
ド）を含有する残留物を後に記載するような方法で処理
することによって極めて高純度のトリ（ホスホニトリル
クロライド）およびテトラ（ホスホニトリルクロライド
）を容易に製造することができるものである。
およびテトラ（ホスホニトリルクロ２イド）を高収率で
簡便に製造することを目的とするものであって、トリ（
ホスホニトリルクロライド） （ｙｐｃｔ２’＞ｓ とテトラ（ホスホニトリルクロライド）（ＮＰｃｔｚ）
４ または／およびホスホニトリルクロライドオリゴマー （ＮＰＣｌ２ ）ｍ （式中ｍは５以上の整数を表わす）との混合物に沸点１
５０〜４００℃の不活性有機溶媒を加えて蒸留してトリ
（ホスホニトリルクロライド）と該溶媒との混合物を留
出させることを特徴とするトリ（ホスホニトリルクロラ
イド）とテトラ（ホスホニトリルクロライドまたは／お
よびホスホニトリルクロライドオリゴマーとの分離方法
であり、留出したトリ（ホスホニトリルクロライド）と
溶媒との混合物およびテトラ（ホスホニトリルクロライ
ド）を含有する残留物を後に記載するような方法で処理
することによって極めて高純度のトリ（ホスホニトリル
クロライド）およびテトラ（ホスホニトリルクロライド
）を容易に製造することができるものである。
ホスホニトリルクロライドオリゴマー
ＣＮＰＣＬ２）ｔ
（式中ｔは３以上の整数を表わす）、あるいはそれらを
原料とする各種誘導体およびそれらの重合体は耐熱性、
耐寒性、難燃性、電気絶縁性などに優れておシ、各種工
業材料としての用途の開発が広く行われている。これら
のオリゴマーのうちトリ（ホスホニトリルクロライド）
またはテトラ（ホスホニトリルクロライド）の誘導体を
重合して得られるポリマーは特に医療用高分子として近
年脚光を浴びている。
原料とする各種誘導体およびそれらの重合体は耐熱性、
耐寒性、難燃性、電気絶縁性などに優れておシ、各種工
業材料としての用途の開発が広く行われている。これら
のオリゴマーのうちトリ（ホスホニトリルクロライド）
またはテトラ（ホスホニトリルクロライド）の誘導体を
重合して得られるポリマーは特に医療用高分子として近
年脚光を浴びている。
このようなポリマーの製造に当っては、その原料となる
モノマーすなわちトリ（ホスホニトリルクロライド）あ
るいはテトラ（ホスホニトリルクロライド）の純度が得
られるポリマーの性能に大きな影響を及ぼすものであり
、これらのモノマーの純度を極力高めることが要望され
ている。
モノマーすなわちトリ（ホスホニトリルクロライド）あ
るいはテトラ（ホスホニトリルクロライド）の純度が得
られるポリマーの性能に大きな影響を及ぼすものであり
、これらのモノマーの純度を極力高めることが要望され
ている。
現在トリ（ホスホニトリルクロライド）およびテトラ（
ホスホニトリルクロライド）の単独合成方法は知られて
おらず、それらは五塩化燐と塩化アンモニウムとの反応
によって式％式％（１） （式中ｔは５以上の整数を表わす）で表わされるホスホ
ニトリルクロライドのオリゴマー（以下例えばｔ−５の
オリゴマーと記せば、式（１）においてｔ−５であるオ
リゴマーを意味する）の混合物として得られるものであ
シ、その混合物の組成はｔ−３であるトリ（ホスホニト
リルクロライド）とｔ−４であるテトラ（ホスホニトリ
ルクロ２イド）との合計とｔ≧５であるオリゴマーの割
合が約７０：３０〜８５：１５である。
ホスホニトリルクロライド）の単独合成方法は知られて
おらず、それらは五塩化燐と塩化アンモニウムとの反応
によって式％式％（１） （式中ｔは５以上の整数を表わす）で表わされるホスホ
ニトリルクロライドのオリゴマー（以下例えばｔ−５の
オリゴマーと記せば、式（１）においてｔ−５であるオ
リゴマーを意味する）の混合物として得られるものであ
シ、その混合物の組成はｔ−３であるトリ（ホスホニト
リルクロライド）とｔ−４であるテトラ（ホスホニトリ
ルクロ２イド）との合計とｔ≧５であるオリゴマーの割
合が約７０：３０〜８５：１５である。
かかるオリゴマー混合物は、それをｎ−ヘキサンで処理
するととくよシ、ｎ−ヘキサンに可溶なｔ≦１１のオリ
ゴｉ−とそれに不溶なｔ≧１２のオリゴマーとを分離す
ることができ、ｎ−へキサン溶液からｎ−ヘキサンを減
圧で留去するとトリ（ホスホニトリルクロライドとテト
ラ（ホスホニトリルクロライド）とは結晶となって析出
し、ｎ−５〜１１のオリゴマーは油状になっているので
、結晶をｐ取して適当な有機溶媒で洗浄することによっ
てトリ（ホスホニトリルクロライド）とテトラ（ホスホ
ニトリルクロライド）との混合物をｔ−５〜１１のオリ
ゴマーから分離することができる。ｔたｔ≧３のオリゴ
マー混合物を例えばトルエンあるいはモノクロロベンゼ
ンの如き溶媒で処理することによってもトリ（ホスホニ
トリルクロライド）とテトラ（ホスホニトリルクロライ
ド）の混合した結晶をｔ≧５のオリゴマー混合物から分
離することができる。
するととくよシ、ｎ−ヘキサンに可溶なｔ≦１１のオリ
ゴｉ−とそれに不溶なｔ≧１２のオリゴマーとを分離す
ることができ、ｎ−へキサン溶液からｎ−ヘキサンを減
圧で留去するとトリ（ホスホニトリルクロライドとテト
ラ（ホスホニトリルクロライド）とは結晶となって析出
し、ｎ−５〜１１のオリゴマーは油状になっているので
、結晶をｐ取して適当な有機溶媒で洗浄することによっ
てトリ（ホスホニトリルクロライド）とテトラ（ホスホ
ニトリルクロライド）との混合物をｔ−５〜１１のオリ
ゴマーから分離することができる。ｔたｔ≧３のオリゴ
マー混合物を例えばトルエンあるいはモノクロロベンゼ
ンの如き溶媒で処理することによってもトリ（ホスホニ
トリルクロライド）とテトラ（ホスホニトリルクロライ
ド）の混合した結晶をｔ≧５のオリゴマー混合物から分
離することができる。
このようにしてトリ（ホスホニトリルクロライド）とテ
トラ（ホスホニトリルクロライド）との混合物をｎ≧５
のオリゴマーから分離することは比較的容易に行われる
のであるが、トリーおよびテトラ（ホスホニトリルクロ
ライド）の混合物からそれぞれの成分を高純度かつ高収
率で分離する方法が従来見出されていなかった。
トラ（ホスホニトリルクロライド）との混合物をｎ≧５
のオリゴマーから分離することは比較的容易に行われる
のであるが、トリーおよびテトラ（ホスホニトリルクロ
ライド）の混合物からそれぞれの成分を高純度かつ高収
率で分離する方法が従来見出されていなかった。
すなわち一般的分離方法として再結晶、蒸留あるいは昇
華などが考えられるが、再結晶による方法は操作が煩雑
でロスが多く、且つそれぞれの成分の純度においても満
足な結果が得られない。昇華には工業的な困難が伴なう
。蒸留によって両成分を完全に分離するには精密な分留
を行わなければならず、両成分がかなシの高沸点化合物
〔トリ（ホスホニトリルクロライド）の沸点１２４℃／
１０ ｍｍＨｇ 、テトラ（ホスホニトリルクロライ
ド）の沸点１８５℃／ １０ ｍｍＨｇ ）であり且つ
あまり安定な物質でないために精密な分留に際して分解
および重合が起りやすく、高収率で純品を得ることが困
難である。発明者等はこれらの難点を克服すべく本発明
を完成した亀のである。
華などが考えられるが、再結晶による方法は操作が煩雑
でロスが多く、且つそれぞれの成分の純度においても満
足な結果が得られない。昇華には工業的な困難が伴なう
。蒸留によって両成分を完全に分離するには精密な分留
を行わなければならず、両成分がかなシの高沸点化合物
〔トリ（ホスホニトリルクロライド）の沸点１２４℃／
１０ ｍｍＨｇ 、テトラ（ホスホニトリルクロライ
ド）の沸点１８５℃／ １０ ｍｍＨｇ ）であり且つ
あまり安定な物質でないために精密な分留に際して分解
および重合が起りやすく、高収率で純品を得ることが困
難である。発明者等はこれらの難点を克服すべく本発明
を完成した亀のである。
本発明において使用する沸点１５０〜４００℃の不活性
有機溶媒としては例えば、２ラフイン系炭化水素類およ
びそのノ・ロゲン置換体、芳香族炭化水素類およびその
ノ・ロゲン置換体などを挙げることができるが、とくに
好ましいのは沸点２００〜３００℃のノルマル−または
イソ−ノミラフイン系炭化水素混合物または単環芳香族
炭化水素類と多環芳香族炭化水素類との混合物であり、
これらの溶媒は単独でもあるいは２種以上を混合しても
使用可能である。
有機溶媒としては例えば、２ラフイン系炭化水素類およ
びそのノ・ロゲン置換体、芳香族炭化水素類およびその
ノ・ロゲン置換体などを挙げることができるが、とくに
好ましいのは沸点２００〜３００℃のノルマル−または
イソ−ノミラフイン系炭化水素混合物または単環芳香族
炭化水素類と多環芳香族炭化水素類との混合物であり、
これらの溶媒は単独でもあるいは２種以上を混合しても
使用可能である。
本発明におけるこれら有機溶媒の使用量はホスホニトリ
ルクロライドオリゴマー混合物の１重量部に対してα５
〜５重量部が好ましく、とくに好ましくは１〜２重量部
である。
ルクロライドオリゴマー混合物の１重量部に対してα５
〜５重量部が好ましく、とくに好ましくは１〜２重量部
である。
本発明は次のようにして行う。すなわち対象となるホス
ホニトリルクロライドのオリゴマー混合物がトリ（ホス
ホニトリルクロライド）とテトラ（ホスホニトリルクロ
ライド）とのみからなっている場合にはその混合物の１
重畳部に対しておよそ１５〜５重量部の不活性有機溶媒
を加えて混合し蒸留を行う、蒸留は常圧でもよいが、２
０喚以下の減圧蒸留が好ましい。蒸留によりトリ（ホス
ホニトリルクロライド）は溶媒と共に留出する。この留
出物中にはテトラ（ホスホニトリルクロライド）は混入
しておらず、また蒸留を充分に行えば蒸留喪中にトリ（
ホスホニトリルクロライド）はほとんど残留し々い。
ホニトリルクロライドのオリゴマー混合物がトリ（ホス
ホニトリルクロライド）とテトラ（ホスホニトリルクロ
ライド）とのみからなっている場合にはその混合物の１
重畳部に対しておよそ１５〜５重量部の不活性有機溶媒
を加えて混合し蒸留を行う、蒸留は常圧でもよいが、２
０喚以下の減圧蒸留が好ましい。蒸留によりトリ（ホス
ホニトリルクロライド）は溶媒と共に留出する。この留
出物中にはテトラ（ホスホニトリルクロライド）は混入
しておらず、また蒸留を充分に行えば蒸留喪中にトリ（
ホスホニトリルクロライド）はほとんど残留し々い。
留出液を再び蒸留して溶媒を留去するか、または冷却し
て析出しているトリ（ホスホニトリルクロライド）の結
晶なテ取し、例えばトルエンのような溶媒で洗浄して乾
燥すれば純度１００慢のトリ（ホスホニトリルクロライ
ド）が高収率で得られる。また蒸留喪中に析出している
結晶を溶媒とＦ別し、モノクロロベンゼンのような溶媒
で洗浄して乾燥すればテトラ（ホスホニトリルクロライ
ド）の純度１００％の結晶力（高収率で得られる。
て析出しているトリ（ホスホニトリルクロライド）の結
晶なテ取し、例えばトルエンのような溶媒で洗浄して乾
燥すれば純度１００慢のトリ（ホスホニトリルクロライ
ド）が高収率で得られる。また蒸留喪中に析出している
結晶を溶媒とＦ別し、モノクロロベンゼンのような溶媒
で洗浄して乾燥すればテトラ（ホスホニトリルクロライ
ド）の純度１００％の結晶力（高収率で得られる。
処理しようとするホスホニトリルクロライドのオリゴマ
ーがｔ−３〜１１の混合物である場合は、さきに述べた
ようにまず結晶となって析出しているトリ（ホスホニト
リルクロライド）とテトラ（ホスホニトリルクロライド
）の結晶を炉取して洗浄し、その結晶混合物を上記のよ
うに処理すればよく、あるいはｔ−３〜１１の混合オリ
ゴマーに不活性有機溶媒を加えて蒸留によってトリ（ホ
スホニトリルクロライド）を留出させて分離してもよい
。
ーがｔ−３〜１１の混合物である場合は、さきに述べた
ようにまず結晶となって析出しているトリ（ホスホニト
リルクロライド）とテトラ（ホスホニトリルクロライド
）の結晶を炉取して洗浄し、その結晶混合物を上記のよ
うに処理すればよく、あるいはｔ−３〜１１の混合オリ
ゴマーに不活性有機溶媒を加えて蒸留によってトリ（ホ
スホニトリルクロライド）を留出させて分離してもよい
。
処理しようとするホスホニトリルクロライドのオリゴマ
ーの混合物がｔ−３〜１１の他にｔ≧１２のオリゴマー
をも含んでいる場合にもその混合物に不活性有機溶媒を
加えて蒸留することによって有機溶媒と共にトリ（ホス
ホニ） ＩＪルクロライド）を留出させてｔ≧４のオリ
ゴマー混合物から分離することは可能であるが、混合物
中にｔ≧１２のオリゴマーが存在すると減圧蒸留時にゲ
ル化が起る傾向があシ、トリ（ホスホニトリルクロライ
ド）およびテトラ（ホスホニトリルクロライド）の収率
が低下するので、かかる場合にはさきに述べ念ようにオ
リゴマー混合物をｎ−ヘキサンで処理することによって
ｎ≧１２のオリゴマーをまず除去するかまたはトルエン
のような溶媒を使用してｔ≧５のオリゴマーを除去する
。
ーの混合物がｔ−３〜１１の他にｔ≧１２のオリゴマー
をも含んでいる場合にもその混合物に不活性有機溶媒を
加えて蒸留することによって有機溶媒と共にトリ（ホス
ホニ） ＩＪルクロライド）を留出させてｔ≧４のオリ
ゴマー混合物から分離することは可能であるが、混合物
中にｔ≧１２のオリゴマーが存在すると減圧蒸留時にゲ
ル化が起る傾向があシ、トリ（ホスホニトリルクロライ
ド）およびテトラ（ホスホニトリルクロライド）の収率
が低下するので、かかる場合にはさきに述べ念ようにオ
リゴマー混合物をｎ−ヘキサンで処理することによって
ｎ≧１２のオリゴマーをまず除去するかまたはトルエン
のような溶媒を使用してｔ≧５のオリゴマーを除去する
。
以上詳細に述べたように本発明はホスホニトリルクロラ
イドオリゴマーの混合物に沸点１５０〜４００℃の不活
性な有機溶媒を加えて蒸留することにより従来困難であ
ったトリ（ホスホニトリルクロライド）とテトラ（ホス
ホニトリルクロライド）との分離を極めて容易に行ない
得る著しく改善されるものであシ、工業的にみても極め
て経済的である。
イドオリゴマーの混合物に沸点１５０〜４００℃の不活
性な有機溶媒を加えて蒸留することにより従来困難であ
ったトリ（ホスホニトリルクロライド）とテトラ（ホス
ホニトリルクロライド）との分離を極めて容易に行ない
得る著しく改善されるものであシ、工業的にみても極め
て経済的である。
次に実施例をあげて本発明の詳細な説明するが本発明は
、以下の実施例のみに限定されるものではない。
、以下の実施例のみに限定されるものではない。
実施例 １
五塩化燐と塩化アンモニウムとの反応にょシ常法に従っ
て合成したホスホニトリルクロライドオリゴマーの混合
物１２５ｔ（トリ（ホスホニトリルクロライド）５４．
６％、テトラ（ホスホニトリルクロライド）１５．１係
、その他のホスホニトリルクロライドオリゴマー３０．
３ ％の含有物）とインパラフィン系溶媒〔商品名「ア
イソパーＭ」、沸点２０７〜２５７℃、エクンン化学■
製品〕２５０ｆとを混合し減圧蒸留を行なった。１１０
〜ｂ 白色固形物と溶媒との混合物が得られ、この白色固形物
をＦ取し、トルエン２０ｍで洗浄した後、乾燥を行なっ
て精製ホスホニトリルクロ２イド５２．２ｆを得喪。こ
のものはＧ、Ｌ、Ｃ，分析の結果より、純度１００−の
トリ（ホスホニトリルクロライド）であり回収率は７６
．５ｇ６であった。
て合成したホスホニトリルクロライドオリゴマーの混合
物１２５ｔ（トリ（ホスホニトリルクロライド）５４．
６％、テトラ（ホスホニトリルクロライド）１５．１係
、その他のホスホニトリルクロライドオリゴマー３０．
３ ％の含有物）とインパラフィン系溶媒〔商品名「ア
イソパーＭ」、沸点２０７〜２５７℃、エクンン化学■
製品〕２５０ｆとを混合し減圧蒸留を行なった。１１０
〜ｂ 白色固形物と溶媒との混合物が得られ、この白色固形物
をＦ取し、トルエン２０ｍで洗浄した後、乾燥を行なっ
て精製ホスホニトリルクロ２イド５２．２ｆを得喪。こ
のものはＧ、Ｌ、Ｃ，分析の結果より、純度１００−の
トリ（ホスホニトリルクロライド）であり回収率は７６
．５ｇ６であった。
また蒸留残留物にトルエン１００ｔＲｔを加えて溶解し
、この溶液よシ加えたトルエン量の８０９６を留去して
冷却し、析出し喪白色結晶を戸別し、トルエン２０−で
洗浄した後乾燥を行なって精製ホスホニトリルクロライ
ド１１．４ｆを得た。このものはＧ、Ｌ、Ｃ，分析によ
れば純度１００チのテトラ（ホスホニトリルクロライド
）であシ、回収率は６１５１１であった。
、この溶液よシ加えたトルエン量の８０９６を留去して
冷却し、析出し喪白色結晶を戸別し、トルエン２０−で
洗浄した後乾燥を行なって精製ホスホニトリルクロライ
ド１１．４ｆを得た。このものはＧ、Ｌ、Ｃ，分析によ
れば純度１００チのテトラ（ホスホニトリルクロライド
）であシ、回収率は６１５１１であった。
実施例 ２
実施例１で使用したホスホニトリルクロライドオリゴマ
ー混合物２００ｆをモノクロロベンゼン５００ｔに溶解
した。この溶液よシ仕込量の４０−のモノクロロベンゼ
ンを減圧留去して濃縮した後、−１０℃まで冷却した。
ー混合物２００ｆをモノクロロベンゼン５００ｔに溶解
した。この溶液よシ仕込量の４０−のモノクロロベンゼ
ンを減圧留去して濃縮した後、−１０℃まで冷却した。
析出した結晶をＦ取シ、モノクロロベンゼン３０−で洗
浄しそして減圧乾燥して白色結晶１２５ｆを得九。この
も（７） ｉ 、Ｇ、Ｌ、Ｃ，分析によればトリ（ホス
ホニトリルクロライド）７ａ５Ｊ、テト２（ホスホニト
リルクロライド）１″１１％、その他のホスホニトリル
クロライドオリゴマー４．４慢を含有する混合物であっ
た。このホスホニトリルクロライドオリゴマーの混合物
１００ｔと、ｎ−／”ラフイン系［ＮＩｔ（商品名［ノ
ルマルパラフィン８ＨＮ’Ｐｊ、沸点範囲２４５〜２７
０℃、日鉱油化■製品〕１００ｔとを混合し、減圧蒸留
を行なう。１１８〜ｂ物とｎ−パラフィン系溶媒との混
合物が得られた。これよシ白色固形物を炉取し、トルエ
ン２゜−で洗浄した後乾燥を行って精製ホスホニトリル
クロライド６２．８ ｆを得た。このものは（）、Ｌ、
Ｃ０分析によれば純度１００−のトリ（ホスホニトリル
クロライド）であシ、回収率は８０１１であった◎なお
モノクロロベンゼン、ノルマルパラフィン８ＨＮＰおよ
びトルエン中に残ったトリ（ホスホニトリルクロライド
）の量との全合計はほぼ１００％であった。また蒸留残
留物にトルエン１００−を加え、これを溶解し、不溶物
を炉別した後、溶液から仕込量の８Ｃ１のトルエンを減
圧留去し、この濃縮液を冷却し九。析出した白色結晶を
枦取し、トルエン２０−で洗浄した後、乾燥して精製テ
トラ（ホスホニトリルクロライド）１２．８ｔを得た。
浄しそして減圧乾燥して白色結晶１２５ｆを得九。この
も（７） ｉ 、Ｇ、Ｌ、Ｃ，分析によればトリ（ホス
ホニトリルクロライド）７ａ５Ｊ、テト２（ホスホニト
リルクロライド）１″１１％、その他のホスホニトリル
クロライドオリゴマー４．４慢を含有する混合物であっ
た。このホスホニトリルクロライドオリゴマーの混合物
１００ｔと、ｎ−／”ラフイン系［ＮＩｔ（商品名［ノ
ルマルパラフィン８ＨＮ’Ｐｊ、沸点範囲２４５〜２７
０℃、日鉱油化■製品〕１００ｔとを混合し、減圧蒸留
を行なう。１１８〜ｂ物とｎ−パラフィン系溶媒との混
合物が得られた。これよシ白色固形物を炉取し、トルエ
ン２゜−で洗浄した後乾燥を行って精製ホスホニトリル
クロライド６２．８ ｆを得た。このものは（）、Ｌ、
Ｃ０分析によれば純度１００−のトリ（ホスホニトリル
クロライド）であシ、回収率は８０１１であった◎なお
モノクロロベンゼン、ノルマルパラフィン８ＨＮＰおよ
びトルエン中に残ったトリ（ホスホニトリルクロライド
）の量との全合計はほぼ１００％であった。また蒸留残
留物にトルエン１００−を加え、これを溶解し、不溶物
を炉別した後、溶液から仕込量の８Ｃ１のトルエンを減
圧留去し、この濃縮液を冷却し九。析出した白色結晶を
枦取し、トルエン２０−で洗浄した後、乾燥して精製テ
トラ（ホスホニトリルクロライド）１２．８ｔを得た。
このものはＧ、Ｌ、Ｃ’、分析によれば純度１００９１
のテトラ（ホスホニトリルクロライド）であシ、回収本
社７５．０％であった。なおモノクロロベンゼンおよび
トルエン中に残ったテトラ（ホスホニトリルクロライド
）の量との全合計は＃１ぼ１００饅であった。
のテトラ（ホスホニトリルクロライド）であシ、回収本
社７５．０％であった。なおモノクロロベンゼンおよび
トルエン中に残ったテトラ（ホスホニトリルクロライド
）の量との全合計は＃１ぼ１００饅であった。
実施例 ３
実施例２におけるモノクロロベンゼン処理によって得ら
れたトリ（ホスホニトリルクロライド）７ａ５％、テト
ラ（ホスホニトリルクロライド）１７．１９１およびそ
の他のホスホニトリルオリゴマー４．４−よりなる混合
物１０（ｌにアイソパーＭ １５Ｃ１を混合し、減圧蒸
留して１００〜１３０’／ １４ ｍｍＨｇの留分を採
取した。その他の操作は実施例２とほぼ同様にしてそれ
ぞれ純度１００−のトリ（ホスホニトリルクロライド）
６４．４Ｆおよびテトラ（ホスホニトリルクロ２イド）
１２．７Ｆを得た。
れたトリ（ホスホニトリルクロライド）７ａ５％、テト
ラ（ホスホニトリルクロライド）１７．１９１およびそ
の他のホスホニトリルオリゴマー４．４−よりなる混合
物１０（ｌにアイソパーＭ １５Ｃ１を混合し、減圧蒸
留して１００〜１３０’／ １４ ｍｍＨｇの留分を採
取した。その他の操作は実施例２とほぼ同様にしてそれ
ぞれ純度１００−のトリ（ホスホニトリルクロライド）
６４．４Ｆおよびテトラ（ホスホニトリルクロ２イド）
１２．７Ｆを得た。
実施例 ４
トリ（ホスホニトリルクロライド）７Ｑｆおよびテトラ
（ホスホニトリルクロライド）３０ｔよりなる混合物に
芳香族炭化水素系混合溶媒〔商品名「ＴＨＯ」、沸点範
囲２５３〜３５７℃、東洋合成工業■製品１１００ｆを
添加し、減圧蒸留を行なった。１１０℃／９ｍｍＨｇ
〜１５０℃／ １２ ｍｍＨｇの留分を採取して受器内
に白色固形物と添加した溶媒との混合物が得られた。こ
れよシ白色固形物をＦ取し、トルエン２０ｍｇで洗浄し
た後乾燥して精製ホスホニトリルクロライド５＆７ｆを
得た。
（ホスホニトリルクロライド）３０ｔよりなる混合物に
芳香族炭化水素系混合溶媒〔商品名「ＴＨＯ」、沸点範
囲２５３〜３５７℃、東洋合成工業■製品１１００ｆを
添加し、減圧蒸留を行なった。１１０℃／９ｍｍＨｇ
〜１５０℃／ １２ ｍｍＨｇの留分を採取して受器内
に白色固形物と添加した溶媒との混合物が得られた。こ
れよシ白色固形物をＦ取し、トルエン２０ｍｇで洗浄し
た後乾燥して精製ホスホニトリルクロライド５＆７ｆを
得た。
このものＦｉＧ、Ｌ、Ｃ，分析によれば純度１００俤の
トリ（ホスホニトリルクロライド）であった。また蒸留
残留物にトルエン１００１１Ｉｔを加え溶解し、この溶
液よシ加えたトルエン量の８０−を減圧留去した。析出
した白色結晶を炉取し、トルエン２０−で洗浄した後乾
燥して精製ホスホニトリルクロライド２２．５Ｆを得た
。このものはＧ、Ｌ、Ｃ。
トリ（ホスホニトリルクロライド）であった。また蒸留
残留物にトルエン１００１１Ｉｔを加え溶解し、この溶
液よシ加えたトルエン量の８０−を減圧留去した。析出
した白色結晶を炉取し、トルエン２０−で洗浄した後乾
燥して精製ホスホニトリルクロライド２２．５Ｆを得た
。このものはＧ、Ｌ、Ｃ。
分析によれば純度１００９Ｉのテトラ（ホスホニトリル
クロライド）であった。
クロライド）であった。
実施例 ５
実施例１で使用したホスホニトリルクロライドオリゴマ
ーの混合物２０Ｏｆｔ５００ｆのｎ−ヘキサンに溶解し
た。不溶物を沖別し、溶液よりｎ−ヘキサンを留去して
白色固形物と油状物質との混合物１３５ｖを得た。との
混合物よシ白色固形物をＦ取し、トルエン３０ｗＩｔで
洗浄後乾燥して白色結晶１２Ｂ、５ｔを得た。このもの
はＧ、Ｌ、Ｃ。
ーの混合物２０Ｏｆｔ５００ｆのｎ−ヘキサンに溶解し
た。不溶物を沖別し、溶液よりｎ−ヘキサンを留去して
白色固形物と油状物質との混合物１３５ｖを得た。との
混合物よシ白色固形物をＦ取し、トルエン３０ｗＩｔで
洗浄後乾燥して白色結晶１２Ｂ、５ｔを得た。このもの
はＧ、Ｌ、Ｃ。
分析によればトリ（ホスホニトリルクロライド）８５５
嗟とテトラ（ホスホニトリルクロライド）１６．５９１
とからなる混合物であつ走。この混合物１００ｔにアイ
ツノ’ニーｍ１ｏｏｒを混合し減圧蒸留で１０９〜１５
０℃／ １４〜１５ｍｍＨｇの留分を採取した。その他
の操作は実施例２とほぼ同様に行いそれぞれ純度１００
チのトリ（ホスホニトリルクロライド） ６ ａ４ Ｆ
およびテトラ（ホスホニトリルクロライド） １９．３
ｆを得喪。
嗟とテトラ（ホスホニトリルクロライド）１６．５９１
とからなる混合物であつ走。この混合物１００ｔにアイ
ツノ’ニーｍ１ｏｏｒを混合し減圧蒸留で１０９〜１５
０℃／ １４〜１５ｍｍＨｇの留分を採取した。その他
の操作は実施例２とほぼ同様に行いそれぞれ純度１００
チのトリ（ホスホニトリルクロライド） ６ ａ４ Ｆ
およびテトラ（ホスホニトリルクロライド） １９．３
ｆを得喪。
実施例 ５
トリ（ホスホニトリルクロライド）７ａ２ｆとｔ−５〜
１１のホスホニトリルクロライドオリゴマー２１．８Ｆ
とからなる混合物にイソパラフィン系溶媒（商品名［Ｎ
ＡＢ−４４、日本油脂株式会社製品、沸点範囲２１４５
〜２５７．０℃）１５（ｌとイソ・ぞラフイン系溶媒（
商品名ｒ ＮＡＢ−５ＨＪ 、日本油脂株式会社製品、
沸点範囲２７５．０〜３５１．０℃）５０ｆとを加えて
減圧蒸留を行い、１００〜ｂ媒を得た。この白色固形物
を炉取し、トルエンで洗浄した後乾燥して純度１０（ｌ
のトリ（ホスホニトリルクロライド）７Ｑ、４ｆを得た
。この得量は処理前の混合物中のトリ（ホスホニトリル
クロライド）の量の９０１ｓであり、イソパラフィン系
溶媒混合物とトルエンの中に残ったトリ（ホスホニトリ
ルクロライド）の量との全合計曽出願人 新註１化工株
式余社 手続補正書 昭和５７年３月１９日 特許庁長官 島 １）春 樹殿 １、事件の表示 昭和５７年特許願第 １１７４５ 号２、発明の名称 ホスホニトリルクロライド類の精製方法３、補正をする
者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都北区浮関３丁目１番６０号名称 新日１化
工株式会社 ４、代理人 ５、補正命令の日付（自発） 昭和 年 月 日（発送日 昭 ）
ｔｌｌ正ｃｌ＆ 、、Ｉ、書。発明の詳細な説明。欄
ｌ補正の内容 １）第１４頁下から第４行の「減圧蒸留を行なう、」を
「減圧蒸留を行なつ九、」と補正します。
１１のホスホニトリルクロライドオリゴマー２１．８Ｆ
とからなる混合物にイソパラフィン系溶媒（商品名［Ｎ
ＡＢ−４４、日本油脂株式会社製品、沸点範囲２１４５
〜２５７．０℃）１５（ｌとイソ・ぞラフイン系溶媒（
商品名ｒ ＮＡＢ−５ＨＪ 、日本油脂株式会社製品、
沸点範囲２７５．０〜３５１．０℃）５０ｆとを加えて
減圧蒸留を行い、１００〜ｂ媒を得た。この白色固形物
を炉取し、トルエンで洗浄した後乾燥して純度１０（ｌ
のトリ（ホスホニトリルクロライド）７Ｑ、４ｆを得た
。この得量は処理前の混合物中のトリ（ホスホニトリル
クロライド）の量の９０１ｓであり、イソパラフィン系
溶媒混合物とトルエンの中に残ったトリ（ホスホニトリ
ルクロライド）の量との全合計曽出願人 新註１化工株
式余社 手続補正書 昭和５７年３月１９日 特許庁長官 島 １）春 樹殿 １、事件の表示 昭和５７年特許願第 １１７４５ 号２、発明の名称 ホスホニトリルクロライド類の精製方法３、補正をする
者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都北区浮関３丁目１番６０号名称 新日１化
工株式会社 ４、代理人 ５、補正命令の日付（自発） 昭和 年 月 日（発送日 昭 ）
ｔｌｌ正ｃｌ＆ 、、Ｉ、書。発明の詳細な説明。欄
ｌ補正の内容 １）第１４頁下から第４行の「減圧蒸留を行なう、」を
「減圧蒸留を行なつ九、」と補正します。
２）Ｊ１１５頁下から第５行・の「精製テトラ（ホスホ
ニトリルクロライド）」を「精製ホスホニトリルクロラ
イド」と補正します。
ニトリルクロライド）」を「精製ホスホニトリルクロラ
イド」と補正します。
３）菖１７頁下からｌｓｓ行の「留去し喪、」を「留去
し、残留物を冷却した。」と補正します。
し、残留物を冷却した。」と補正します。
４）＄１１？頁第１行の「実施例５」を「実施例６」と
補正します。
補正します。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 トリ（ホスホニトリルクロライド） （ＮＰｃｔｚ）ｇ とテトラ（ホスホニトリルクロッイド）（ＮＰＣ？Ｌ２
）４ ｔたは／およびホスホニトリルクロライドオリゴマー （ｒｃＡｆｉ ）。 （式中型は５以上の整数を表わす）との混合物に沸点１
５０〜４００ｃの不活性有機溶媒を加えて蒸留してトリ
（ホスホニトリルクロライド）と該溶媒との混合物を留
出させることを特徴とする、トリ（ホスホニトリルクロ
ッイド）とテトラ（ホスホニトリルクロライドまたは／
およびホスホニトリルクロライドオリゴマー（？ｃ’ｔ
２）ｍとの分離方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57011765A JPS58130107A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | ホスホニトリルクロライド類の精製方法 |
| DE19833302747 DE3302747A1 (de) | 1982-01-29 | 1983-01-27 | Verfahren zur abtrennung von tri(phosphonitrilchlorid) von tetra(phosphonitrilchlorid) und/oder phosphonitrilchloridoligomeren |
| GB08302284A GB2114111B (en) | 1982-01-29 | 1983-01-27 | Process for purifying phosphonitrile chlorides |
| CA000420490A CA1197067A (en) | 1982-01-29 | 1983-01-28 | Process for purifying phosphonitrile chlorides |
| FR8301393A FR2520720B1 (fr) | 1982-01-29 | 1983-01-28 | Procede pour la purification des chlorures de phosphonitrile |
| US06/658,543 US4522689A (en) | 1982-01-29 | 1984-10-09 | Process for purifying phosphonitrile chlorides |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57011765A JPS58130107A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | ホスホニトリルクロライド類の精製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58130107A true JPS58130107A (ja) | 1983-08-03 |
| JPS612608B2 JPS612608B2 (ja) | 1986-01-27 |
Family
ID=11787067
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57011765A Granted JPS58130107A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | ホスホニトリルクロライド類の精製方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4522689A (ja) |
| JP (1) | JPS58130107A (ja) |
| CA (1) | CA1197067A (ja) |
| DE (1) | DE3302747A1 (ja) |
| FR (1) | FR2520720B1 (ja) |
| GB (1) | GB2114111B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6191009A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-09 | エシル コーポレーション | 環状ホスホニトリルクロライド三量体の精製方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0177370A3 (en) * | 1984-10-05 | 1987-05-27 | Ethyl Corporation | Process for phosphazene trimer purification |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2862799A (en) * | 1955-06-20 | 1958-12-02 | Ethyl Corp | Separation of tri-(phosphonitrilic chloride) |
| NL295896A (ja) * | 1962-08-14 | |||
| FR1382129A (fr) * | 1962-08-14 | 1964-12-18 | Hooker Chemical Corp | Procédé de récupération de tri- et tétramères de chlorure de phosphonitrile |
| NL295897A (ja) * | 1962-08-14 | |||
| NL295895A (ja) * | 1962-08-14 | |||
| NL298823A (ja) * | 1962-10-04 | |||
| GB1213716A (en) * | 1968-03-15 | 1970-11-25 | Albright & Wilson Mfg Ltd | Purification of phosphonitrilic chloride polymers |
| US3694171A (en) * | 1970-02-02 | 1972-09-26 | Hooker Chemical Corp | Method for purifying cyclic phosphonitrilic chlorides |
| US3669633A (en) * | 1970-08-19 | 1972-06-13 | Continuous process for the preparation of phosphonitrilic chloride cyclic polymers | |
| US3974261A (en) * | 1974-11-06 | 1976-08-10 | Ethyl Corporation | Process for purification of phosphonitrilic chloride polymers |
-
1982
- 1982-01-29 JP JP57011765A patent/JPS58130107A/ja active Granted
-
1983
- 1983-01-27 DE DE19833302747 patent/DE3302747A1/de not_active Withdrawn
- 1983-01-27 GB GB08302284A patent/GB2114111B/en not_active Expired
- 1983-01-28 FR FR8301393A patent/FR2520720B1/fr not_active Expired
- 1983-01-28 CA CA000420490A patent/CA1197067A/en not_active Expired
-
1984
- 1984-10-09 US US06/658,543 patent/US4522689A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6191009A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-09 | エシル コーポレーション | 環状ホスホニトリルクロライド三量体の精製方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4522689A (en) | 1985-06-11 |
| JPS612608B2 (ja) | 1986-01-27 |
| CA1197067A (en) | 1985-11-26 |
| GB2114111B (en) | 1985-05-01 |
| FR2520720B1 (fr) | 1987-05-15 |
| GB2114111A (en) | 1983-08-17 |
| DE3302747A1 (de) | 1983-08-04 |
| GB8302284D0 (en) | 1983-03-02 |
| FR2520720A1 (fr) | 1983-08-05 |
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