JPS5812718B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、加熱室内に回転台を回転自在に設置したいわ
ゆるターンテーブル方式の高周波加熱装置に関するもの
である。

従来例の構成とその問題点 最近の高周波加熱装置として、加熱室内に収容された被
加熱物を均一に加熱するために、被加熱物を回転載置台
に載せて回転させながら加熱調理するターンテーブルの
もの普及しているが、実際に使用してみると２つの大き
な欠点がある。

その１つは回転載置台に被加熱物を載せた状態で回転載
置台の出し入れが非常に困難であること、回転載置台と
これを駆動させるための駆動軸とが嵌合しているので回
転台を取り出す場合には回転載置台を一度上に持ち上げ
、その状態で引き出さなければならないことである。

被加熱物が重い場合には両手を使う必要があるが、一般
に回転載置台は有効面積を太き《するため、加熱室の底
面とほぼ同等の大きさを有する。

したがって左右から手を入れに《く、また仮に手が入っ
たとしても回転載置台を上に持ち上げる分だけ加熱室の
有効体積が減少する。

とにか《、従来のターンテーブル方式は加熱室底面の中
央部に設けた駆動軸の係止片により回転載置台を回転さ
せるため回転と取り外し易すさと言う互に矛盾する働き
を同時に満たす構造は難しかった。

もう一つの欠点は掃除がしにくいことである。

高周波加熱装置は被加熱物のみが加熱せられ、加熱室が
熱《ならないなど他の調理器と違い、食品かす等が加熱
壁にこびり付《と言ったことがなく、常に清潔に保てる
と言うのがメリットの１つである。

しかしながら、従来のターンテーブルは加熱室の底面中
央に駆動軸を貫通させるための穴がありさらには回転載
置台の周辺を支える支持物が加熱室底面に植設されてい
るので掃除がしに《く、また掃除しても植設された部分
等に入り込んだものは取り除けず、最悪湯や汁等を多量
にこぼした場合には、駆動軸の貫通した穴から加熱室外
に漏れ、放置しておくと悪臭を発することもあり、清潔
な調理器としては一歩後退したものとなっていた。

また、ターンテーブルに上下の運動を加えながら回転さ
せるいわゆる波のりターンテーブルと言われる方式もあ
るが、被加熱物の出入および掃除のしにくさの点では従
来のターンテーブルと同じである。

発明の目的 本発明は上記従来の欠点を解消するもので、加熱むらの
ない加熱調理を行うことができ、しかも加熱室内の掃除
のしやすい高周波加熱装置の提供を目的とするものであ
る。

発明の構成 上記目的を達するため、本発明の高周波加熱装置は、被
加熱物を収容する加熱室と、この加熱室内へ高周波を供
給する高周波発振器と、前記加熱室の外底面に接近して
回転自在に設けられ、少な《とも３個以上の磁石を同一
円周上に有する回転体と、前記加熱室内に収容された被
加熱物を回転させる回転載置台とを備え、前記回転載置
台の下面に波状で環状の歯型レールと、この歯型レール
と対向して前記加熱室底壁に水平で環状の歯型レールと
を設け、前記回転体に設けられた磁石と磁気結合して回
転する歯車状の磁性体からなるローラーを前記歯型レー
ル間に設ける構成としたものであり、誘電加熱時に回転
載置台が上・下動しながら回転することにより、加熱室
内に生じる定在波の影響を受けることが少な《、従って
むらのない加熱調埋を行うことができ、しかも回転載置
台を加熱室内から取り出すことができるので、掃除もし
やす《なるという効果を有するものである。

実施例の説明 以下、本発明の一実施例を第１図から第５図に基づいて
説明する。

第１図において、１は高周波加熱装置の本体、２は本体
１内に設けた加熱室で、少なくとも底板部分を非磁性金
属体で構成している。

３は加熱室２の開口部を開閉自在に覆う扉、４は加熱室
２内に高周波エネルギーを供給する高周波発振器の一例
として用いたマグネトロンで、加熱室２の上面中央部に
設けられている。

５は加熱室２内に収容された被加熱物の加熱むらを少く
するため回転自在に設けたスタラー羽根、６は加熱部と
スタラー羽根５の装着部を区画する仕切板、７は加熱室
２の内底部に回転自在に設置した回転載置台で、磁石８
を内設したローラ９上に装置されている。

このローラ９は第２図に示すごと《周辺上に歯車１０状
の金属板で覆われており、この歯車１０と接する回転載
置台７の下面に波型で環状の歯型レールが、加熱室底壁
１１面には水平で環状の歯型レールが設けられている。

さらに上記ローラ９は合成樹脂製の連結環１２に一体形
成された軸１３に装着されている。

１４は被加熱物１５を載置した受皿、１６は加熱室外底
面の中央に固定した軸１７に回転自在に装備したプーり
を兼ねる回転体で、上面には永久磁石８に対向して駆動
用磁石１８を設けるとともに、この駆動用磁石１８の外
周面には摩擦抵抗を少な《するように合成樹脂１９で覆
い、加熱室２外に当接するローラの役目もはたしている
。

２０はプーり２１、ベルト２２を介して回転体１６を回
転駆動するモータである。

上記の構成においてローラ９に設けた磁石８と回転体１
６に設けた磁石１８とが吸引するように極性を異ならせ
てあり、駆動用磁石１８を有する回転体１６が回転する
と、これに追従して永久磁石８を有するローラ９が回転
する。

ローラ９が回転するとローラ周辺上の歯車１０と回転載
置台７の歯形２３がかみ合いローラ９の周辺速度の２倍
の速度で回転載置台は回転移動する。

第３〜４図は前記ローラ部を直線上に示したもので、ロ
ーラ９が３個の場合、Ａ−Ａ’とＢ−Ｂ’と同じ位置で
あり、第３図の如く回転載置台７の歯形部が直線状のも
のでは同一平面で回転駆動するが、回転載置台７の裏面
のローラと接する面をローラ数と同じ数の波状の凹凸２
４をもつ波形レール２３を設げたことにより、ローラ９
が回転することにより、回転載置台が波の大きさ分だけ
上・下動しながら回転駆動する。

第５図は連結環１２に高周波を攪拌する羽根２５を設け
たもので羽根２５が回転するとともに被加熱物１５との
相対位置も被加熱物に近接した所で常に変化するため、
きわめて効果的に加熱室内における高周波の分布特性を
改善できる。

このように本実施例の高周波加熱装置によれば、回転載
置台７の下面に波状で環状の歯型レール２３と、この歯
型レール２３と対向して加熱室底面に水平で環状の歯型
レール１１を設け、前記歯型レール１１，２３間に加熱
室２の外底面から磁気結合により回転駆動される歯車１
０の磁性体からなるローラ９を設けたことにより、ロー
ラ９を回転駆動して回転載置台７を上・下動させた場合
においても、磁石間距離を常に｛に保つことかり能とな
り、従来の如く加熱室底壁を伝達軸が貫通する穴を必要
とせず安定した回転駆動力が得られる。

また、誘電加熱調理時に歯型レール１１，２３間に設け
られた歯車１０状のロニラ９が回転することにより、回
転載置台７の下面に波状で環状の歯型レール２３が設け
られているため、回転載置台７は上・下動しながら回転
するので、加熱室２内に生じる定在波の影響を受けるこ
とが少な《、ほぼ均一な調理を行うことができる。

またローラ９を連結する連結環１２に攪拌羽根２５を設
けた場合においても、磁石８とローラ９とが一体となっ
ているため攪拌羽根２５を装着する空間を十分とること
ができる。

したがって被加熱物に近接した所で攪拌羽根２５を回転
でき電界の分布がきわめてよく、加熱むらのない加熱調
理を行うことができる。

また攪拌羽根２５は常に被加熱物の半分の速度で回転す
るため、回転載置台７の速度と合うことがな《電界の分
布がよい。

さらに磁石８を金属材で覆うことにより、高周波を受け
ても発熱して他部品に悪影響を与ることがない。

また回転載置台７を回転駆動する磁石８を金属材で覆っ
たことにより、容易にその周辺上に歯形を設けることが
できる。

また加熱室底壁に合成樹脂製の歯型レール１１を設ける
ことにより、ローラ９と加熱室底壁との間で放電を起す
ことがなくなるとともに摩擦抵抗が少くなり、さらに回
転載置台７を加熱室２から取り出して洗うこともできる
。

なお、第２図の回転体１６に設ける磁石１８は必ずしも
ローラ内に設ける必要はないがローラ内に入れると、上
下共通の磁石を使用することができる。

また、回転体に設けられた磁石１８が加熱室外底壁に接
しているため、磁石間距離を最低限のものにでき、伝達
トルクが太き《なるとともにローラを別に必要としない
。

また磁石１８に合成樹脂材１９を覆せると摩擦抵抗が小
さ《なるとともに騒音がな《なる。

さらに磁石１８はもろく輸送中の衝撃等で欠ける場合が
起るが合成樹脂１９を覆せておけば欠けることがない。

発明の効果 以上のように本発明の高周波加熱装置によれば誘電加熱
時に環状の疲型レール間に設けられた磁性体からなる歯
車状のローラを加熱室の外底壁から磁気結合で回転駆動
させることにより、被加熱物を載せて回転する回転載置
台が上・下動しながら回転するため、加熱室内に生じる
定在波の影響を受けることが少な《、被加熱物をほぼ均
一に加熱することができるという効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す高周波加熱装置の側断
面図、第２図は同要部の磁石を内蔵したローラ部の拡大
図、第３図、第４図は同要部の回転載置台とローラとの
関係を示す図、第５図ａ，ｂは同連結環に攪拌羽根を設
けた側面図および正面図である。 ２・・・・・・加熱室、４・・・・・・マグネトロン（
高周波発振器）、７・・・・・・回転載置台、９・・・
・・・ローラ、１１，２３・・・・・・歯型レール、１
６・・・・・・回転体。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 被加熱物を収容する加熱室と、この加熱室内へ高周
   波を供給する高周波発振器と、前記加熱室の外底面に接
   近して回転自在に設けられ、少な《とも３個以上の磁石
   を同一円周上に有する回転体と、前記加熱室内に収容さ
   れた被加熱物を回転させる回転載置台とを備え、前記回
   転載置台の下面に波状で環状の歯型レールと、この歯型
   レールと対向して前記加熱室底壁に水平な歯型レールと
   を設け、前記回転体に設けられた磁石と磁気結合して回
   転する歯車状の磁性体からなるローラーを前記歯形レー
   ル間に設ける構成とした高周波加熱装置。 ２ 加熱室底壁に設げられた歯型レールを合成樹脂材で
   構成した特許請求の範囲第１項記載の高周波加熱装置。 ３ 回転体に設けられた磁石は、加熱室の外底面に接し
   て回転する構成とした特許請求の範囲第１項記載の高周
   波加熱装置。 ４ 回転体に設けられた磁石の表面を合成樹脂材で覆う
   構成とした特許請求の範囲第１項記載の高周波加熱装置
   。 ５ 環状の歯型レール間に設けられたローラの表面を金
   属材で覆う構成とした特許請求の範囲第１項記載の高周
   波加熱装置。 ６ 環状の歯型レール間に設けられたローラを連結環に
   結合した特許請求の範囲第１項記載の高周波加熱装置。