JPS5826629B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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Publication number
JPS5826629B2
JPS5826629B2 JP51105325A JP10532576A JPS5826629B2 JP S5826629 B2 JPS5826629 B2 JP S5826629B2 JP 51105325 A JP51105325 A JP 51105325A JP 10532576 A JP10532576 A JP 10532576A JP S5826629 B2 JPS5826629 B2 JP S5826629B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnet
mounting table
rotary mounting
heating chamber
cover
Prior art date
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Expired
Application number
JP51105325A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5330053A (en
Inventor
年雄 甲斐
淳三 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP51105325A priority Critical patent/JPS5826629B2/ja
Publication of JPS5330053A publication Critical patent/JPS5330053A/ja
Publication of JPS5826629B2 publication Critical patent/JPS5826629B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は加熱室内に回転載置台を回転自在に設置したい
わゆるターンテーブル方式の高周波加熱装置に関するも
のである。
均一加熱性能の良い高周波加熱装置、いわゆる電子レン
ジとして、ターンテーブルと呼ばれる回転載置台が回転
する方式のものが普及している。
しかしながら、従来のターンチーフル方式は第1図に示
すように、モータ1′の回転を加熱室2′の底部中央付
近に設けた軸穴3′を通して設けられた駆動軸4′によ
って加熱室内の回転載置台5′に伝達しこれによって回
転載置台5′を回す方式が一般的であった。
しかるにこの構成だと、加熱室の底面に駆動軸4′を通
す軸穴3%があるため構成が非常に複雑であるとともに
、料理した汁が流れてモータ等にその汁が流れ故障の原
因となったり、1駆動軸等が加熱室内に位置しているた
め、掃除が行ないにくくなったりするなどの欠点があっ
た。
このため磁気的駆動手段により回転載置台を回転させる
方式が提案されているが、この磁気駆動による場合、回
転載置台の下面に複数の磁石が位置しており、これらの
磁石の保持を確実に行なわなければ次のような問題が発
生していた。
すなわち、複数の磁石の保持が確実に行なわれないと、
これらの磁石と加熱室の底板下の磁石との距離が不均一
になってし昔い、この結果各磁石間の吸引力が1ち捷ち
になってし1うのである。
そして、この結果吸引力が強い部分はさらにその距離を
近づける力が働き、この力によって回転載置台が傾いた
り、変形したりしてこの回転載置台がスムーズに回転さ
れなくなるのであった。
筐た、このように磁石の保持位置がずれ7ると回転載置
台を回転させるトルクは低下してし1う傾向にあり、こ
の点からも上記磁石の保持は確実に行なわなければなら
ない。
本発明は上記従来の欠点を除去するもので、以下本発明
の一実施例を添付図面を参照して説明する。
第2図にむいて、1は高周波加熱装置本体、2は本体1
内に設けた加熱室で、少なくとも底板り部分は非磁性金
属体で構成している。
3は加熱室2の前面開口部を開閉自在に覆う扉、4は加
熱室2内の高周波エネルギーを供給するマグネトロンで
、加熱室2の上面に設置している。
5は加熱室内の加熱ムラを少なくするために回転自在に
設けたスタラー羽根、6は加熱部とスタラー羽根装着、
部を区画する仕切板、7は加熱室2の内底部に回転自在
に設置した回転載置台で、この回転載置台7は支持枠8
によって位置決めされた複数のローラ9によって支持さ
れている。
10は食品11を収容した受皿、12は加熱室外底面の
中央に固定した軸13に回転自在に装備したプーリを兼
ねる回転体で、上面には第1の磁石14が複数個が装備
しであると共に、加熱室外底面に当接するローラ15が
装備しである。
16は加熱室2の上面壁に取付けたマグネトロン冷却用
のファンモータ、11フアンモータ16の回転力を90
°変換するウオームギヤーで、上記回転体12はとのウ
オームギヤー17と、軸18と、プーリ19と、ベルト
20を介して上記ファンモータ16によって回転駆動さ
れるようになっている。
また、上記回転載置台7の下面には第2の磁石21が設
けられており、この磁石21と上記第1の磁石14との
間には吸引力が働くようになっている。
したがって、上述のとと〈回転体12が回転すれば磁石
14.21の吸引力によって上記回転載置台7がスムー
ズに回転されるように女っているが、上記磁石21の保
持を確実に行わなければ従来のようにこの回転載置台7
はスムーズに回転されなくなってし1う。
そこで本発明はこの磁石21の保持を第3図に示すよう
な構造によって行なっている。
つ1す、この第3図に示すように上記磁石21は樹脂製
のケース22に収納され、このケース22の上面を強磁
性金属板23で覆い、さらにこれらを非磁性金属よりな
るカバー24で覆い、そしてこのカバー24を上記回転
載置台7の下面にスポット溶接した構成により保持して
いるのである。
さらに詳しくのべると、上記磁石21の一角21aは切
落された形状になっており、また上記ケース22の内周
はこの磁石21を同じ形状で同じ大きさになっている。
したがって、ケース22内に磁石21の極性を間違うこ
となく収納することができ、しかもこのケース22内で
は上記磁石21は前後左右にがたつくことはない。
また、ケース22の外周には2枚の突起片22a22b
と、1枚の保持片22cが設けられており、このケース
22を上記カバー24で覆えば上記突起片22a、22
bはカバー24の内面に密接臥さらに保持片22cはカ
バー24に設けた孔244Lから外部に突出するように
なっている。
したがって、このカバー24内で上記ケース双が前後、
左右にがたつくことはなく、結果として上記磁石21が
カバー24内で前後、左右にがたつくことはない。
また、この磁石21と上記磁石14との間には上述のご
とく吸引力が働くようになっており、したがってこの磁
石21はカバー24の内底面に密接した状態になって上
下にがたつかず、この結果この磁石21は確実に保持さ
れた状態になる。
なか、突起片22cは第4図に示すように上記ローラ9
の位置決め用の支持枠8を保持するものであり、その肉
厚は先端は薄く、根本は厚くなっている。
したがって、この支持枠8を上記カバー24の孔24a
から突出させやすく、また突出させた場合にはその根本
が孔24aを密封するのでこの孔24aからカバー24
内に水分等が侵入して磁石21を劣化させることはない
さらに、上記強磁性金属板23は磁石21の磁力が回転
載置台7の上面に漏洩するのを防止するために設けたも
のであり、この結果回転載置台7の上面近傍の電界がこ
の磁力によってみだされることはない。
また、上記回転載置台7には第1図、第4図に示すよう
に、その外周部には環状ローラ溝7aが設けられ、さら
に内周部には円形の絞り部7bが設けられており、上記
カバーはこの環状ローラ溝7aと絞り部7bとの間で位
置決めされて固定されている。
上記実施例から明らかなように本発明は回転載置台に装
備する磁石を樹脂ケースに収納するとともに、この樹脂
ケースを非磁性金属で形成されたカバーで覆ったもので
ある。
したがって、この磁石は確実に保持された状態になり、
この結果この磁石ががたついたり、輸送時の衝撃により
磁石われが起きたりしない。
したがって、回転載置台が従来のように傾いたり、変形
したすせず、またこの回転載置台を回転させるトルクも
低下せず、この結果回転載置台は常にスムーズに回転さ
れるのである。
さらに回転載置台を支持するローラの位置決め用支持枠
を樹脂製のケースに突設された保持片で保持するので、
構成が簡単である。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の高周波加熱装置の断面図、第2図は本発
明の一実施例を示す高周波加熱装置の断面図、第3図は
同装置の要部を拡大した分解斜視図、第4図は同装置の
回転載置台の下面を示す拡大正面図である。 2・・・・・・加熱室、7・・・・・・回転載置台、7
a・・・・・・ローラ溝、7b・・・・・・絞り部、8
・・・・・・支持枠、9・・・・・・ローラ、14・・
・・・・第1の磁石、21・・・・・・第2の磁石、2
2・・・・・・ケース、22c・・・・・・保持片、2
3・・・・・・強磁性金属板、24・・・・・・カバー

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 加熱室の外底面に近接して回動自在に複数個の第1
    の磁石を設け、一方前記加熱室の内底面には前記磁石の
    回転により駆動される金属製の回転載置台を設け。 前記回転載置台には前記加熱室の内底面に近接して第2
    の磁石を設け、前記第2の磁石は樹脂製のケースに収納
    されかつ位置決めされるとともに前記樹脂製のケースを
    非磁性金属で形成されたカバーで覆い、前記回転載置台
    を支持するローラの位置決め用支持枠を前記樹脂製のケ
    ースに突設された保持片で保持する構成とした高周波加
    熱装置。
JP51105325A 1976-09-01 1976-09-01 高周波加熱装置 Expired JPS5826629B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP51105325A JPS5826629B2 (ja) 1976-09-01 1976-09-01 高周波加熱装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP51105325A JPS5826629B2 (ja) 1976-09-01 1976-09-01 高周波加熱装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5330053A JPS5330053A (en) 1978-03-20
JPS5826629B2 true JPS5826629B2 (ja) 1983-06-03

Family

ID=14404552

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP51105325A Expired JPS5826629B2 (ja) 1976-09-01 1976-09-01 高周波加熱装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3834454B2 (ja) * 2000-04-20 2006-10-18 株式会社フジマック 調理用オーブンのターンテーブル駆動機構

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52107655A (en) * 1976-03-04 1977-09-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd High-frequency heating device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS52107655A (en) * 1976-03-04 1977-09-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd High-frequency heating device

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JPS5330053A (en) 1978-03-20

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