JPS58126988A - シヤドウマスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はシャドウマスクの製造方法に係り、特に長尺の
シャドウマスク部材の両面に被着形成されたフォトレジ
スト膜のごみを除去しながら所望のネガ、ｆｆｉターン
の形成された乾板を有する露光装置に送〉込み、露光焼
付、現儂工程を経て品位の良好な電子ビーム通過孔部の
穿設されたフラットマスクを得ることが可能なシャドウ
マスクの製造方法に関する本のである。

〔発明の技術的背景と問題点〕

カラー受偉管に装着されるシャドウマスクは通常機の諸
工程を経て製造される。

即ち長尺のシャドウマスク素材例えば０．１５〜０．１
８１１１１厚の軟鉄板をクリーニングしたのち、フォト
レジスト液を両面に均一に塗布する工程と、このフォト
レジスト液を乾燥してフォトレジスト膜とする工程と、
所定のネガ２ターンの形成された乾板を有する露光装置
に送シ込み、露光する露光工程と、未露光部の７オトレ
ジスト膜を除去する現偉工程と、露光部のフォトレジス
ト膜を硬化後両面よシスプレイ方法などによυエツチン
グ液をかけ、所定の電子ビーム通過孔部を穿設するエツ
チング工程と、水洗工程を経てフラットマスクを形成す
る工程と、フラットマスクをプレス成形して所定の球面
に仕上げる工程とから構成されている。

前述したシャドウマスクの製造方法において、フォトレ
ジスト膜を形成したシャドウマスク素材を露光装置に送
シ込み露光焼付する工程において、フォトレジスト膜に
被着するごみ対策は極めて重要であシ、例えば３０μ以
上のごみが電子ビーム通過孔部の穿設される部位に被着
されたまま露光装置で焼付けられ、エツチングされると
、電子ビーム通過孔部が極大、径小、変形、目づｔシな
どを起し、完成されたシャドウマスクは不良になってし
まうことになる。

このようにシャドウマスクを不良とするごみは通常フォ
トレジストのかす、シャドウマスク素材からでる屑、塵
、製造設備などから発生する塗料、金属などの屑、セラ
ミック類、耐火部材、セメント類の屑、雰囲気中のわた
ごみなどからなり、これらとみはフォトレジスト液の塗
布工程やフォトレジスト膜とする乾燥工程や乾燥工程か
ら露出工程迄の間に被着する。

このうち乾燥工程から露出工程間に７オトレジスト膜に
被着したごみは特に露光装置のネガパターンの形成され
た乾板に転写して付着し易く、このようなごみの付着し
た乾板を使用して多数のフラットマスクが焼き付けられ
ると、これらフラットマスクは全部が不良になる問題点
がある。従ってフォトレジスト膜の形成されたシャドウ
マスク素材のごみを除去することがシャＦり１スクの製
造工程においては極めて重要である。

〔発明の目的〕

本発明は前述した問題点に鑑みなされたものであシ、シ
ャドウマスク素材に被着形成されたフォトレジスト膜上
のごみを効果的に除去し、品位の良好な電子ビーム通過
孔部の穿設されたフラットマスクを得ることが可能なシ
ャドウマスクの製造方法を提供することを目的としてい
る。

〔発明の概要〕

即ち、本発明は長尺のシャドウマスク素材の両面にフォ
トレジスト液を塗布、乾燥させてレジスト膜を形成した
後から露光焼付までの関に粘着性を有するポリウレタン
を主成分とする部材をロー　　□う状に加工した粘着ロ
ールをフォトレジスト膜に接触させながら移動させこの
粘着ロールにょ９ごみを除去した後、露出装置に送り込
むようになされたことを特徴とし、この粘着ロールとし
てはポリウレタンを主成分とする測定方法Ｊ　Ｉ　８　
Ｋ　６３０１−５を使用し硬さをＪＩＳ　ｅ±３の部材
を使用することを特徴としている。

〔発明の実施例〕

次に本発明の一実施例を第１図及び第２図により説明す
る。

即ち両面にフォトレジスト膜が形成されたシャドウマス
ク素材（１）は１対の粘着ロール（２）間を加圧接触さ
れながらそれぞれ抜き取９線（３）及び電子ビーム通過
孔部（４）のネガパターンが形成された１対の乾板（５
）間に送り込まれ、図示しない真空密着機構によりシャ
ドウマスク素材の両面に密着され、やはり図示しない露
光光源により均一な霧光が行なわれ、前述した抜き取９
線（３）及び電子ビーム通過孔部（４）のネガ７１ター
ンに対設するフォトレジスト膜の部分以外を感光硬化し
矢印（６）方向に送られ現像工程で抜き取り線（３）及
び電子ビーム通過孔部（４）のみのフォトレジスト膜が
除去されるようになっている。

この１対の粘着ロール（２）はロール軸とがる例えばス
テンレスからなる８捧（２１）上に粘着性を持たせた高
分子材料として例えば信越化学ＫＫ製のポリウレタンを
主成分としＪＩＳに６３０１−５の測定方法で測定した
時の硬さをＪＩ８９±３としした部材（２□）を被着し
ロール状に形成しである。

通常粘着ロールの材質としてはシリコーンゴム、ウレタ
ンゴムがあるが、本発明者らの実験によると、シリコー
ンゴムはフォトレジスト膜を形成したシャドウマスク素
材に加圧接触させると油分かにじみ出てこの油分がフォ
トレジスト膜に転写され、この転写された部分のフォト
レジスト膜の現像性が劣化し、所望のレジストパターン
が得られなくなり、エツチング時に他の部分よりわずか
数μｍであるが電子ビーム通過孔部の孔径が小さくな妙
、シャドウマスク全面の視感検査において電子ビーム通
過孔部を通過する透過光の不均一性によるむらを生じ、
シャドウマスクを不良判定することになる。この油分の
にじみ出しが従来粘着ロールを使用できなかった理由で
あった。他の問題としては、この油分により粘着ローラ
がスリップを起し、シャドウマスク素材の送９が安定し
ないことである。

ま九油分の出ないポリウレタンゴムの場合も測定方法Ｊ
Ｉ８に６３０１−５による硬さが１２以上では粘着力が
弱く、ごみが取れないし、また硬さ６以下では粘着力が
強すぎてポリウレタンが破壊され、ポリウレタンに付着
していた数μｍ〜数１００μｍのごみが再度シャドウマ
スク素材に付着してしまうことと、粘着力が強過ぎてシ
ャドウマスク素材が変形するため、硬さとして９±３に
限定することにより良好な結果が得られた。

前述した第１図に示す実施例で矢印（６）方向のシャド
ウマスク素材（１）の速度は約２．５１ＥＩＩ　／　ｍ
ｉ　ｎ粘着ロール（２）のシャドウマスク素材（１）に
対する接触荷重は６Ｊｃ９／ｃＩＩｔ以下にした場合、
１対の粘着ロール（２）でも良好な結果が得られた。

次に本発明の他の実施例を第３図により説明する。図中
前の実施例と同一符号は同一部分を示し、特に説明を行
なわない。

即ち本実施例は長尺のシャドウマスク素材に７オトレジ
スト膜を形成したのち巻き取シ貯蔵する場合に好適な例
を示すものであり、フォトレジスト膜を形成したシャド
ウマスク素材（１）は１対の粘着ローラ（２）間を矢印
方向（６）に通過させた後、巻き取るようになされてい
る。

前述した実施例ではいずれも１対の粘着ローラを使用し
たがこれに限定されるものではなく、複数組の粘着ロー
ラ間を使用することによってフォトレジスト膜上のごみ
を更によく除去することが可能であるし、またシャドウ
マスク素材も軟鉄板に限定されるものではなく、例えば
ＩＮＧなど他の金属を使用しても同様である。

〔発明の効果〕

上述のように本発明のシャドウマスクの製造方法によれ
ば粘着ロールにより、シャドウマスク素材の両面に被着
形成されたフォトレジスト膜上の　　　□ごみを粘着ロ
ールにより極めて効果的に除去したのち露光工程に送シ
込むことが可能であり、品質の良好なシャドウマスクを
得ることができるのでその工業的価値は極めて大である
。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は本発明の一実施例を示す図であり、
第１図は要部斜視図、第２図は粘着ロールの斜視図、第
３図は本発明の他の実施例の要部斜視図である。 １・・・シャドウマスク素材　　　２・・・粘着ロール
３・・・抜き取り線のネガパターン ４・・・電子ビーム通過孔部のネガ／ぞターン５・・・
乾板 代理人　弁理士　井　上　−男

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 長尺のシャドウマスク素材の両面にフォトレジスト液を
   塗布、乾燥させてフォトレジスト膜を形成した後から露
   光焼付までの間に粘着性を有するポリウレタンを主成分
   とするＪＩ８に６３０１−５の測定方法による硬さが９
   ±３の部材からなる粘着ロールを前記フォトレジスト膜
   に接触させながら移動させることを特徴とするシャドウ
   マスクの製造方法。