JPH09216330A - スクリーンマスクの製造方法 - Google Patents
スクリーンマスクの製造方法Info
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- JPH09216330A JPH09216330A JP2632396A JP2632396A JPH09216330A JP H09216330 A JPH09216330 A JP H09216330A JP 2632396 A JP2632396 A JP 2632396A JP 2632396 A JP2632396 A JP 2632396A JP H09216330 A JPH09216330 A JP H09216330A
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- screen mesh
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 スクリーンマスクの印刷初期段階の伸びを少
なくして、印刷パターンの寸法精度を向上させる。 【解決手段】 スクリーンメッシュ１１をスクリーン版
枠１２に紗張りした後、平坦な基台１３上にスペーサ１
４を介してスクリーン版枠１２をセットする。その後、
ゴム製のローラ部材１５を上方からスクリーンメッシュ
１１に押し付けて該スクリーンメッシュ１１を基台１３
まで撓ませながら、該ローラ部材１５をＸ方向とＹ方向
にそれぞれ３回程度ずつ平行移動させて、スクリーンメ
ッシュ１１のほぼ全面にまんべんなくテンションを付加
することで、メッシュの交差部を締め付けて伸ばす。そ
の後、スクリーンメッシュ１１に感光乳剤を塗布し、乾
燥させて感光膜を形成した後、この感光膜にフォトマス
クを密着させて露光・現像を行ってレジストパターンを
形成する。
なくして、印刷パターンの寸法精度を向上させる。 【解決手段】 スクリーンメッシュ１１をスクリーン版
枠１２に紗張りした後、平坦な基台１３上にスペーサ１
４を介してスクリーン版枠１２をセットする。その後、
ゴム製のローラ部材１５を上方からスクリーンメッシュ
１１に押し付けて該スクリーンメッシュ１１を基台１３
まで撓ませながら、該ローラ部材１５をＸ方向とＹ方向
にそれぞれ３回程度ずつ平行移動させて、スクリーンメ
ッシュ１１のほぼ全面にまんべんなくテンションを付加
することで、メッシュの交差部を締め付けて伸ばす。そ
の後、スクリーンメッシュ１１に感光乳剤を塗布し、乾
燥させて感光膜を形成した後、この感光膜にフォトマス
クを密着させて露光・現像を行ってレジストパターンを
形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、導体パターン等の
スクリーン印刷に使用するスクリーンマスクの製造方法
に関するものである。
スクリーン印刷に使用するスクリーンマスクの製造方法
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、基板上に導体パターンを形成
する手段として、スクリーン印刷法が広く使用されてい
る。このスクリーン印刷法は、スクリーン版枠に張られ
たスクリーンマスクを基板上に僅かな距離を離してセッ
トし、該スクリーンマスク上にペーストを供給し、スキ
ージの圧力によりスクリーンマスクを基板に押し付けな
がら、スクリーンマスクの開口部からペーストを基板上
面に押し出すことで、ペーストのパターンを基板上面に
転写するものである。
する手段として、スクリーン印刷法が広く使用されてい
る。このスクリーン印刷法は、スクリーン版枠に張られ
たスクリーンマスクを基板上に僅かな距離を離してセッ
トし、該スクリーンマスク上にペーストを供給し、スキ
ージの圧力によりスクリーンマスクを基板に押し付けな
がら、スクリーンマスクの開口部からペーストを基板上
面に押し出すことで、ペーストのパターンを基板上面に
転写するものである。
【０００３】近年の高密度実装化されたセラミック基板
等に微細なパターンをスクリーン印刷する場合には、非
常に高い印刷精度が要求される。このような印刷精度が
要求されるスクリーンマスクは、直接製版法によって次
のように製造される。まず、スクリーンメッシュをスク
リーン版枠に紗張りし、該スクリーンメッシュに感光乳
剤（エマルジョン）を塗布し、乾燥させて感光膜を形成
した後、この感光膜にフォトマスクを密着させて露光・
現像を行い、印刷用のレジストパターンを形成するよう
にしている。
等に微細なパターンをスクリーン印刷する場合には、非
常に高い印刷精度が要求される。このような印刷精度が
要求されるスクリーンマスクは、直接製版法によって次
のように製造される。まず、スクリーンメッシュをスク
リーン版枠に紗張りし、該スクリーンメッシュに感光乳
剤（エマルジョン）を塗布し、乾燥させて感光膜を形成
した後、この感光膜にフォトマスクを密着させて露光・
現像を行い、印刷用のレジストパターンを形成するよう
にしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、スクリーン
マスクを形成するスクリーンメッシュの材料には、シル
クやナイロン、ポリエステル等の樹脂繊維、ステンレス
メッシュがあるが、印刷精度が要求される場合には、伸
び縮みが少なく、寸法精度が良いステンレスメッシュが
用いられる。
マスクを形成するスクリーンメッシュの材料には、シル
クやナイロン、ポリエステル等の樹脂繊維、ステンレス
メッシュがあるが、印刷精度が要求される場合には、伸
び縮みが少なく、寸法精度が良いステンレスメッシュが
用いられる。
【０００５】しかし、印刷工程では、スキージの圧力に
よりスクリーンマスクにテンションが加えられるため、
新品のスクリーンマスクを用いてスクリーン印刷を繰り
返す場合には、伸び縮みが少ないと言われているステン
レスメッシュのスクリーンマスクを用いても、図２に示
すように印刷初期段階（印刷回数が１０回程度まで）で
０．０３〜０．０５％程度伸びる現象が発生する。この
印刷初期段階の伸びはステンレスメッシュを形成するス
テンレス細線の交差部が締め付けられて発生するものと
考えられている。このようなスクリーンマスクの印刷初
期段階の伸びは印刷パターンの寸法精度を低下させる原
因となり、印刷パターンの微細化（ファインパターン
化）にとって好ましくない現象である。
よりスクリーンマスクにテンションが加えられるため、
新品のスクリーンマスクを用いてスクリーン印刷を繰り
返す場合には、伸び縮みが少ないと言われているステン
レスメッシュのスクリーンマスクを用いても、図２に示
すように印刷初期段階（印刷回数が１０回程度まで）で
０．０３〜０．０５％程度伸びる現象が発生する。この
印刷初期段階の伸びはステンレスメッシュを形成するス
テンレス細線の交差部が締め付けられて発生するものと
考えられている。このようなスクリーンマスクの印刷初
期段階の伸びは印刷パターンの寸法精度を低下させる原
因となり、印刷パターンの微細化（ファインパターン
化）にとって好ましくない現象である。
【０００６】本発明はこのような事情を考慮してなされ
たものであり、従ってその目的は、スクリーンマスクの
印刷初期段階の伸びを少なくすることができて、印刷パ
ターンの寸法精度を向上することができるスクリーンマ
スクの製造方法を提供することにある。
たものであり、従ってその目的は、スクリーンマスクの
印刷初期段階の伸びを少なくすることができて、印刷パ
ターンの寸法精度を向上することができるスクリーンマ
スクの製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の請求項１のスクリーンマスクの製造方法
は、スクリーンメッシュをスクリーン版枠に紗張りした
後、このスクリーンメッシュにテンションを加えること
で、メッシュの交差部を締め付けて伸ばす。その後、ス
クリーンメッシュに感光乳剤を塗布し、乾燥させて感光
膜を形成した後、この感光膜にフォトマスクを密着させ
て露光・現像を行ってレジストパターンを形成するもの
である。
に、本発明の請求項１のスクリーンマスクの製造方法
は、スクリーンメッシュをスクリーン版枠に紗張りした
後、このスクリーンメッシュにテンションを加えること
で、メッシュの交差部を締め付けて伸ばす。その後、ス
クリーンメッシュに感光乳剤を塗布し、乾燥させて感光
膜を形成した後、この感光膜にフォトマスクを密着させ
て露光・現像を行ってレジストパターンを形成するもの
である。
【０００８】この方法では、スクリーンメッシュに感光
乳剤を塗布してレジストパターンを形成する前に、予め
スクリーンメッシュにテンションを加えて伸ばすため、
その後の印刷工程でのスクリーンメッシュの伸びが従来
より少なくなる。
乳剤を塗布してレジストパターンを形成する前に、予め
スクリーンメッシュにテンションを加えて伸ばすため、
その後の印刷工程でのスクリーンメッシュの伸びが従来
より少なくなる。
【０００９】また、請求項２では、スクリーンメッシュ
へのテンションの付加を、ローラ部材をスクリーンメッ
シュに押し付けながら転動させることによって行う。こ
の方法では、ローラ部材がスクリーンメッシュの面に沿
って移動すると、それに応じてローラ部材が自由に転動
するため、スクリーンメッシュが強く擦られずに済み、
スクリーンメッシュの傷付きやメッシュのずれが防止さ
れる。
へのテンションの付加を、ローラ部材をスクリーンメッ
シュに押し付けながら転動させることによって行う。こ
の方法では、ローラ部材がスクリーンメッシュの面に沿
って移動すると、それに応じてローラ部材が自由に転動
するため、スクリーンメッシュが強く擦られずに済み、
スクリーンメッシュの傷付きやメッシュのずれが防止さ
れる。
【００１０】
【発明の実施の形態】本実施形態のスクリーンマスクの
製造工程は、（１）紗張り工程、（２）スクリーンメッ
シュ伸ばし工程、（３）レジストパターン形成工程を順
に実行するものであり、従来の製造工程に対してスクリ
ーンメッシュ伸ばし工程を追加したものである。以下、
これらの工程を順に説明する。
製造工程は、（１）紗張り工程、（２）スクリーンメッ
シュ伸ばし工程、（３）レジストパターン形成工程を順
に実行するものであり、従来の製造工程に対してスクリ
ーンメッシュ伸ばし工程を追加したものである。以下、
これらの工程を順に説明する。
【００１１】（１）紗張り工程 図１（ａ）に示すように、ステンレス製のスクリーンメ
ッシュ１１をスクリーン版枠１２に紗張りする。この紗
張りは、従来と同じ方法で行えば良い。
ッシュ１１をスクリーン版枠１２に紗張りする。この紗
張りは、従来と同じ方法で行えば良い。
【００１２】（２）スクリーンメッシュ伸ばし工程 図１（ｂ）に示すように、平坦な基台１３上にスペーサ
１４を介してスクリーン版枠１２をセットする。ここ
で、スペーサ１４の高さ寸法は２ｍｍ以上に設定し、ス
クリーンメッシュ１１と基台１３との間に２ｍｍ以上の
隙間を開ける。そして、ゴム製のローラ部材１５を上方
からスクリーンメッシュ１１に押し付けて該スクリーン
メッシュ１１を基台１３まで撓ませながら、該ローラ部
材１５をＸ方向（スキージ幅方向）とＹ方向（スキージ
進行方向）にそれぞれ３回程度ずつ平行移動させて、ス
クリーンメッシュ１１のほぼ全面にまんべんなくテンシ
ョンを付加し、それによってメッシュの交差部を締め付
けて伸ばす。この際、ローラ部材１５をスクリーンメッ
シュ１１上を自由に転動させながら移動させることで、
スクリーンメッシュ１１が強く擦られることを防止す
る。尚、ローラ部材１５をＸ方向とＹ方向に移動させる
回数は、３回に限定されず、２回以下、或は４回以上で
あっても良い。
１４を介してスクリーン版枠１２をセットする。ここ
で、スペーサ１４の高さ寸法は２ｍｍ以上に設定し、ス
クリーンメッシュ１１と基台１３との間に２ｍｍ以上の
隙間を開ける。そして、ゴム製のローラ部材１５を上方
からスクリーンメッシュ１１に押し付けて該スクリーン
メッシュ１１を基台１３まで撓ませながら、該ローラ部
材１５をＸ方向（スキージ幅方向）とＹ方向（スキージ
進行方向）にそれぞれ３回程度ずつ平行移動させて、ス
クリーンメッシュ１１のほぼ全面にまんべんなくテンシ
ョンを付加し、それによってメッシュの交差部を締め付
けて伸ばす。この際、ローラ部材１５をスクリーンメッ
シュ１１上を自由に転動させながら移動させることで、
スクリーンメッシュ１１が強く擦られることを防止す
る。尚、ローラ部材１５をＸ方向とＹ方向に移動させる
回数は、３回に限定されず、２回以下、或は４回以上で
あっても良い。
【００１３】（３）レジストパターン形成工程 この工程では、スクリーンメッシュ１１を脱脂した後、
スクリーンメッシュ１１に感光乳剤を塗布し、乾燥させ
て感光膜を形成する。その後、この感光膜にフォトマス
クを密着させて紫外線による露光を行い、その露光部分
を硬化させる。そして、このスクリーンメッシュ１１を
水槽に浸して感光膜の未硬化部分を水に溶かし、更にこ
のスクリーンメッシュ１１にスプレー等で水を吹き付け
て感光膜の未硬化部分を完全に取り除く。これにより、
スクリーンメッシュ１１にレジストパターンが現像され
る。
スクリーンメッシュ１１に感光乳剤を塗布し、乾燥させ
て感光膜を形成する。その後、この感光膜にフォトマス
クを密着させて紫外線による露光を行い、その露光部分
を硬化させる。そして、このスクリーンメッシュ１１を
水槽に浸して感光膜の未硬化部分を水に溶かし、更にこ
のスクリーンメッシュ１１にスプレー等で水を吹き付け
て感光膜の未硬化部分を完全に取り除く。これにより、
スクリーンメッシュ１１にレジストパターンが現像され
る。
【００１４】以上のようにして製造されたスクリーンマ
スクを用いてスクリーン印刷する場合には、スクリーン
マスクを基板上に僅かな距離を離してセットし、該スク
リーンマスク上にペーストを供給し、スキージの圧力に
よりスクリーンマスクを基板に押し付けながら、スクリ
ーンマスクの開口部からペーストを基板上面に押し出す
ことで、ペーストのパターンを基板上面に転写する。
スクを用いてスクリーン印刷する場合には、スクリーン
マスクを基板上に僅かな距離を離してセットし、該スク
リーンマスク上にペーストを供給し、スキージの圧力に
よりスクリーンマスクを基板に押し付けながら、スクリ
ーンマスクの開口部からペーストを基板上面に押し出す
ことで、ペーストのパターンを基板上面に転写する。
【００１５】このようなスクリーン印刷を繰り返す場合
のスクリーンマスクの伸び率ひいては印刷パターンの伸
び率について、上記実施形態のスクリーンマスクと従来
のそれとを比較する試験を行ったので、その試験結果を
図２に示す。試験条件は下記の通りである。
のスクリーンマスクの伸び率ひいては印刷パターンの伸
び率について、上記実施形態のスクリーンマスクと従来
のそれとを比較する試験を行ったので、その試験結果を
図２に示す。試験条件は下記の通りである。
【００１６】 ［印刷条件］ スクリーン版枠のサイズ ……４５０×４５０（ｍｍ） スキージ幅 ……２５０（ｍｍ） スキージストローク ……２２０（ｍｍ） スクリーンマスクとワーク（基板）とのギャップ ……２（ｍｍ） 測定寸法 ……１００（ｍｍ） ［スクリーンメッシュ伸ばし工程の条件］ スペーサ１４の高さ寸法 ……８（ｍｍ） ローラ部材１５の寸法 ……長さ２５０（ｍｍ）、直径（３０ｍｍ） 伸ばし動作の回数 ……Ｘ方向、Ｙ方向にそれぞれ３回ずつ
【００１７】従来は、スクリーンメッシュ伸ばし工程が
ないため、印刷初期段階（印刷回数が１０回程度まで）
にスキージの圧力によりスクリーンメッシュを形成する
ステンレス細線の交差部が締め付けられ、スクリーンマ
スクがＸ、Ｙ両方向に０．０３〜０．０５％程度伸びる
現象が発生し、それによって印刷パターンがＸ、Ｙ両方
向に０．０３〜０．０５％程度伸びていた。
ないため、印刷初期段階（印刷回数が１０回程度まで）
にスキージの圧力によりスクリーンメッシュを形成する
ステンレス細線の交差部が締め付けられ、スクリーンマ
スクがＸ、Ｙ両方向に０．０３〜０．０５％程度伸びる
現象が発生し、それによって印刷パターンがＸ、Ｙ両方
向に０．０３〜０．０５％程度伸びていた。
【００１８】これに対し、本実施形態のスクリーンマス
クでは、レジストパターン形成前に予めスクリーンメッ
シュ１１をローラ部材１５で押し付けてスクリーンメッ
シュ１１にテンションを加えるため、そのテンションに
よりスクリーンメッシュ１１を形成するステンレス細線
の交差部が締め付けられ、それによってスクリーンメッ
シュ１１が伸ばされる。このため、印刷初期段階（印刷
回数が１０回程度まで）のスクリーンマスクの伸びを従
来よりも少なくできて、印刷パターンの伸び率を従来の
約１／２程度まで低減できる。これにより、印刷パター
ンの寸法精度を向上することができて、印刷パターンの
微細化（ファインパターン化）に貢献できる。
クでは、レジストパターン形成前に予めスクリーンメッ
シュ１１をローラ部材１５で押し付けてスクリーンメッ
シュ１１にテンションを加えるため、そのテンションに
よりスクリーンメッシュ１１を形成するステンレス細線
の交差部が締め付けられ、それによってスクリーンメッ
シュ１１が伸ばされる。このため、印刷初期段階（印刷
回数が１０回程度まで）のスクリーンマスクの伸びを従
来よりも少なくできて、印刷パターンの伸び率を従来の
約１／２程度まで低減できる。これにより、印刷パター
ンの寸法精度を向上することができて、印刷パターンの
微細化（ファインパターン化）に貢献できる。
【００１９】更に、上記実施形態では、レジストパター
ン形成前にスクリーンメッシュ１１にテンションを付加
する手段としてローラ部材１５を用いているので、ロー
ラ部材１５をスクリーンメッシュ１１の面に沿って移動
させる際に、ローラ部材１５が自由に転動することで、
スクリーンメッシュ１１が強く擦られずに済み、スクリ
ーンメッシュ１１の傷付きやステンレス細線の交差部の
ずれが防止され、スクリーンマスクの品質を損なうこと
がない。
ン形成前にスクリーンメッシュ１１にテンションを付加
する手段としてローラ部材１５を用いているので、ロー
ラ部材１５をスクリーンメッシュ１１の面に沿って移動
させる際に、ローラ部材１５が自由に転動することで、
スクリーンメッシュ１１が強く擦られずに済み、スクリ
ーンメッシュ１１の傷付きやステンレス細線の交差部の
ずれが防止され、スクリーンマスクの品質を損なうこと
がない。
【００２０】この場合、スクリーンメッシュ１１の保護
の観点からローラ部材１５をゴム等の弾性変形可能な材
料で形成することが最も好ましいが、硬度の高い材料で
形成したローラ部材を用いても、自由に回転するので、
スクリーンメッシュ１１の品質低下を抑えることができ
る。
の観点からローラ部材１５をゴム等の弾性変形可能な材
料で形成することが最も好ましいが、硬度の高い材料で
形成したローラ部材を用いても、自由に回転するので、
スクリーンメッシュ１１の品質低下を抑えることができ
る。
【００２１】また、スクリーンメッシュ１１にテンショ
ンを付加する手段は、自由に回転するローラ部材に限定
されず、回転しない部材を用いても良く、また、印刷工
程と同様にスキージをスクリーンメッシュ１１に押し付
けてテンションを付加するようにしても良い。
ンを付加する手段は、自由に回転するローラ部材に限定
されず、回転しない部材を用いても良く、また、印刷工
程と同様にスキージをスクリーンメッシュ１１に押し付
けてテンションを付加するようにしても良い。
【００２２】また、上記実施形態では、スクリーンメッ
シュ１１としてステンレスメッシュを用いたが、シルク
やナイロン、ポリエステル等の樹脂繊維で形成されたメ
ッシュを用いる場合でも、同様にメッシュ伸ばし工程を
追加することで、印刷パターンの伸び率を少なくするこ
とができる。
シュ１１としてステンレスメッシュを用いたが、シルク
やナイロン、ポリエステル等の樹脂繊維で形成されたメ
ッシュを用いる場合でも、同様にメッシュ伸ばし工程を
追加することで、印刷パターンの伸び率を少なくするこ
とができる。
【００２３】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の請求項１のスクリーンマスクの製造方法によれば、レ
ジストパターン形成前に、予めスクリーンメッシュにテ
ンションを加えて伸ばすため、印刷初期段階のスクリー
ンマスクの伸びを少なくできて印刷パターンの伸び率を
大幅に低減でき、印刷パターンの寸法精度を向上するこ
とができて、印刷パターンの微細化（ファインパターン
化）に貢献できる。
の請求項１のスクリーンマスクの製造方法によれば、レ
ジストパターン形成前に、予めスクリーンメッシュにテ
ンションを加えて伸ばすため、印刷初期段階のスクリー
ンマスクの伸びを少なくできて印刷パターンの伸び率を
大幅に低減でき、印刷パターンの寸法精度を向上するこ
とができて、印刷パターンの微細化（ファインパターン
化）に貢献できる。
【００２４】更に、請求項２では、スクリーンメッシュ
へのテンションの付加を、ローラ部材をスクリーンメッ
シュに押し付けながら転動させることによって行うよう
にしたので、スクリーンメッシュが強く擦られずに済
み、スクリーンメッシュの傷付きやメッシュのずれを防
止できて、スクリーンメッシュの品質低下を抑えること
ができる。
へのテンションの付加を、ローラ部材をスクリーンメッ
シュに押し付けながら転動させることによって行うよう
にしたので、スクリーンメッシュが強く擦られずに済
み、スクリーンメッシュの傷付きやメッシュのずれを防
止できて、スクリーンメッシュの品質低下を抑えること
ができる。
【図１】本発明の一実施形態におけるスクリーンマスク
の製造工程を説明する図
の製造工程を説明する図
【図２】印刷作業回数と印刷パターンの伸び率との関係
を示す図
を示す図
１１…スクリーンメッシュ、１２…スクリーン版枠、１
３…基台、１４…スペーサ、１５…ローラ部材。
３…基台、１４…スペーサ、１５…ローラ部材。
Claims (2)
- 【請求項１】 スクリーンメッシュをスクリーン版枠に
紗張りし、該スクリーンメッシュに感光乳剤を塗布し、
乾燥させて感光膜を形成した後、この感光膜にフォトマ
スクを密着させて露光・現像を行ってレジストパターン
を形成するスクリーンマスクの製造方法において、 前記スクリーン版枠に紗張りしたスクリーンメッシュに
テンションを加えて該スクリーンメッシュを伸ばした
後、感光乳剤を塗布することを特徴とするスクリーンマ
スクの製造方法。 - 【請求項２】 前記スクリーンメッシュへのテンション
の付加は、ローラ部材を該スクリーンメッシュに押し付
けながら転動させることにより行われることを特徴とす
る請求項１に記載のスクリーンマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2632396A JPH09216330A (ja) | 1996-02-14 | 1996-02-14 | スクリーンマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2632396A JPH09216330A (ja) | 1996-02-14 | 1996-02-14 | スクリーンマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09216330A true JPH09216330A (ja) | 1997-08-19 |
Family
ID=12190207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2632396A Pending JPH09216330A (ja) | 1996-02-14 | 1996-02-14 | スクリーンマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09216330A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103240950A (zh) * | 2013-04-24 | 2013-08-14 | 昆山恒盛电子有限公司 | 碾压器 |
| JP2018500193A (ja) * | 2014-09-30 | 2018-01-11 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 広い線幅を有する導電性パターン及びその製造方法 |
-
1996
- 1996-02-14 JP JP2632396A patent/JPH09216330A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103240950A (zh) * | 2013-04-24 | 2013-08-14 | 昆山恒盛电子有限公司 | 碾压器 |
| JP2018500193A (ja) * | 2014-09-30 | 2018-01-11 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 広い線幅を有する導電性パターン及びその製造方法 |
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