JPS58123792A - プリント配線板の製造方法 - Google Patents

プリント配線板の製造方法

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JPS58123792A
JPS58123792A JP571482A JP571482A JPS58123792A JP S58123792 A JPS58123792 A JP S58123792A JP 571482 A JP571482 A JP 571482A JP 571482 A JP571482 A JP 571482A JP S58123792 A JPS58123792 A JP S58123792A
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JP
Japan
Prior art keywords
printed wiring
wiring board
manufacturing
layer
etched
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Pending
Application number
JP571482A
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English (en)
Inventor
三ツ井 久三
光男 山下
手塚 正寛
黒沢 啓治
川俣 晴男
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (1)  発明の技術分野 本発明はプリント配線板の製造方法に関し、時に絶縁i
板上に形成された金属層を選択エツチングする方法に関
する。
(2)  発明のW承 電子1tAmrはじめとする電子機器にあってtよ、早
導体集積回路装置(IC) 41の電子部品を実機し収
容するためにプリント配線板が適用されている。
そして前記半導休業積回路装置の集積度の同ヒとともに
、プリント配線板上における実裟密にの向上を図り、電
子+IA器の小型化、^性−化を図る努力がなされてい
る。
(3)  従来技術と間趙点 前記プリント配線板の形成にあたっては、列えばガラス
繊維織布にエポキシ樹脂t−1浸して形成され九絶縁基
板の表面に鋼箔からなる導′−ノー會形成し、かかる絶
縁基板t−我面に予め4(ノーパターンが形成された中
間層絶縁基板とともに、/リプレグを介して所望数構I
n L、次いで層関績絖用孔(スルーホール)を穿孔し
、次いで前記スルーホール内にめっき法により導蝋層を
形成し、かがるスルーホールめっきと同時に前記表面尋
域層とに厚めっき層を全面めるいは選択的に形成し、し
かる後前肥厚めつき層及び/あるいは前記鋼T′6↓9
なる表面導鴫層を選択的にヱッチ/グ泳去して六面導電
層パターンを形成する方法がとられる。
かかる製造工程において、中間Ill 44パター/並
びに表面1−導電パターンの形成に−しては、鴫気めっ
き法により形成され良導電層、一般的には綱1−をフォ
ト・エツチングして所望の導電層パターンを形成するこ
とが行なわれる。
ところがプリント配線板形成用の前記絶縁基板が大きな
面積を有するものである場合、めっき厚は絶縁基板の中
央部で薄く周辺部で薄くなる傾向にめる。これはめっき
用電解液中における電流分布の不拘−並びに被めっき処
理体と電解液との接触状−による。
かかるめっき厚の不均一性の丸め、めっき導電層會遇択
工、チングする際に、例えば周辺部の導′It−パター
ンのパターン精度を尚めようとすると中央部の導電層が
過剰にエツチングされてしまい、また中央部の4電層パ
ターンのパターン精度を高めよりとすると周辺部の導電
層パターンは所望幅まで工、チングされずに残ってしま
う。
このようなエツチング処理や不均一は、尚該プリント配
線板の製造歩留りの低下を招く一因となる。
(4)  発明の目的 本発明は、前述の如く不均一な厚さにめっき導電層が形
成されたプリント配線用絶縁基板に対して、壬ツチング
処理を施す際に、前記めっき導電層七当紋絶縁基板の表
面全面において高精度にエツチング処理することかで自
る方法を提供しようとするものである。
(6)@明の構成 このため、本発明によればt1面に被エツチング導体層
が形成され前記導体層上に工、チングマスク層が配設さ
れてなる絶縁基板を、中央部が密。
周辺部が祖の綱目を有する綱体からなる被処理基板保持
体に挾持してエツチング液に接触せしめる工程を有する
プリント配線板め製造方法が提供される。
(6)発明の実施例 以下本発dAt実施例tもりて詳細(説明する。
本発1j1vCよれば、−工、チング処理絶縁基板は第
1図に示される被処理基板保持体に収容保持されて工、
チンダ液に接触される。
第1図において、101ム、 l0IBはそれぞれ例え
ばステンレススチールからなる枠11にステンレススチ
ール貞金網12が張られ九綱体であり、該網体101A
、l0IBは蝶番102A、 l0IBにて開閉自在に
連結されて構成される。
かかる被処理基板保持体において、前記金網12は、そ
の中央部で密(例えばSOOメッシ、程度)こされ、周
辺部でIl(例えば60メッノjL楊度)とされる。か
かる綱目密度の変化は対数的変化とされるのが好ましい
従って、かかる被処理基板保持体に、表面にフォト・レ
ジスト、ドライフィルム等のエツチング用マスクが形成
され九砿エツチング処理絶縁基板を収容(iII4体l
Oλムと101mとの間に挾持)し、例えば第2図に示
される矢印の如くシャワ一式のエツチング鍼置内を通過
させれば、ノズル21から噴出するエラ、チ、ング液2
2は綱体101A、l0IB′?:通して櫨エツチング
処理基板Kll触する。この時、かかる網体1olム、
l0IBはそれぞれ綱目密FIt′に不均一としている
ために、被エツチング処理基板の周辺部はその中央部に
比較して多量のエツチング液に接触することとな〉、該
被エツチング処理基板表面の導体層はその中央部並びに
周辺部とも高精度にエツチングされる。
(η 発明の効果 以上のように本発明によれば、プリント配線板を形成す
る際に、絶縁基板上に形成され九めりき導電層を選択エ
ツチングして所望の導体層パターンを形成する際に、前
記めっき導電層の膜厚の不均一を補正しつつエツチング
処理を行って、被エツチング処理基板の全面において^
種変の導体層パターンを形成することができる。
し九がってプリント配線板、轡によシ大型のプリント配
線板の製造歩留りを高めることができる。
【図面の簡単な説明】

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 戊−に被エツチング導体1−が形成され前記導体I−ヒ
    にエツチングマスク!−が配設されてなる絶縁盾+IL
    で、中央部が密1周辺部が祖の網目を有する一体からな
    る仮処at基板保持体に挾持してエッチ7ノ漱に盾融せ
    しめる工種t−aすることt−n黴とrるプリント配線
    板の製造方法。
JP571482A 1982-01-18 1982-01-18 プリント配線板の製造方法 Pending JPS58123792A (ja)

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