JPS58119642A - 電子線自動焦点装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、電子線リングラフィ、特に、焦点（像品質
に影響する）を狂わせ、偏向倍率を悪くし、回転ケ悪く
する（登録されていない書込みをする）ウェハまたはマ
スクの表面の高さの変化を打ち消す電子線自動焦点装置
に関する。

従来より、焦点の合わされた電子線の照射によるリソグ
ラフィ装置が、集積回路製造技術においてよく知られて
いる。このようなりソグラフイ照射装置は、焦点の合わ
された一ｉ線や電子ｉｋ用い、そして非常に波ら五た焦
点範囲内でのみ最高の像品質ケ持つ。この焦点範囲は、
元レンズ・システムまたは電子／ンズ・システムの焦点
深度として定義される。普通、電子線装置の場合、電子
線は高速度に加速され、電子レンズ・システムにより細
いビームに収束式れ、そして、ここで同時に走査コイル
により偏向され、２方向に走査される１、このような走
査装置において、電子線は偏向の特性により標的（ター
ゲット）に直角に照射しない。

この結果、このような走置装置においては、対向する光
学系の基準と漂的面との間の距離が変化するような場合
、標的上のスポットの位置誤差を生ずる。このＺ一方向
のずれは、製造中のウェハを走査する時、重大になる。

このようなウェハは多くのチップ・サイトを有し、各チ
ップ・サイトは、拡牧、酸化、アニーリングや他の製造
工程により生ずるウニ・・の表面変化のため、僅かに異
なった冒さになっている。電子線リングラフィ装置内に
おいて、ウェハは真空環境内に置かれる。このため、真
空チャックを、全ての照射チップ・サイトが平らな面に
なるように用いることはできない。

従来υこおいて、電子線の焦点を合わせるために種々の
技術が提案されている。米国特許第３８７６８８３月、
米国特許第５９０１８１４号および米国特許第４１９９
６８８号には、電子線自身により発生される信号を用い
て最適の焦点を得る技術が記載されている。このような
システムによれば、例えば位置合せ印（レジストレーシ
ョン・マーク）、または焦点が最適条件にある時に電子
線が指向する開孔が設け、られた特別なターゲットを有
する標本（すなわち、ウェハやクロム・マスク）が必要
である。これｆｄ特に米国特許第４１９９６８８号に詳
細に示されている。その他の技術は、ウェハ上にマスク
を電子光学的に投影する電子縁投射システムを利用して
いる。したがって、焦点はマスク投影の概念から決定さ
れる。このようなシステムは、標本の準備に余計な工程
を必要とするため、電子線リソグラフィ工程を煩雑なも
のとする。さらに、このような技術は、電子、線処理工
程中に付加的な工程を付は加え、このため、システムの
照射サイクルを遅らせる傾向がある。したがって、スル
ープツ）７５ｉ悪くなる傾向がある。

−例えば、米国特許第３９６７１０９号および米国特許
第４０３９８２４号に記載されるような光学イメージン
グ装置を用いた従来のシステムも知られている。このよ
うなシステムにおいて、光学的な焦点が、例えばスライ
ドや写真やその他のように焦点が合わされた対象物の光
学的特性が生ずるコントラス）［基づいて得られる。正
しい焦点からずれた場合に生ずる像およびコントラスト
の変化が利用される。このような光学システムや投射の
ために用いられるリピート・カメラにおいては、Ｚ誤差
を検出するセンサが、普通サーボループ内に組込まれて
いる。このようなりローズ・ループ内において、もし２
誤差が検出されると、対応策、すなわち、対象物または
焦点システムの動作が、誤差が最小になるまで行なわれ
る。

これら従来のシステムは、白地のウェハやマスクが用い
られる場合、コントラストを発生する特性を一般に利用
できないため、多くの欠点を有する。これらのウェハや
マスクは、十分なコントラストを生ずることができる表
面を持っていない。

ＧＥＣコーポレーション　システム３６００．３６９６
および４８００カメラ内に、異なった自動焦点方法を用
いた光学ステップおよび反復照射システムか知られてい
る。これらシステムは、標的の表面から反射するスリッ
トの光像を有する光テコ技術を利用している。したがっ
て１．プレート表面は、ホト・マスク像面にプレート表
面の不規則性を生ずる標準的なプレートの製造の厚さの
変動や公差を補整するのに役立つ基準面として用いられ
ている。検出回路は、縮写レンズが装着されてい８るプ
リンタ・チューブの高さを変えるため、２軸ドライブを
駆動する。

このようなシステムにおいて、光学部分は、普通、交互
に起動されるＬＥＤの列を有する光源を使用し、この光
は、スリットを経て鏡で４５°屈折されて標的へ送られ
る。標的表面から反射された後、光は軸に枢動可能に取
付けられた平行平面ガラスを通り、標的表面から反射さ
れる時、スリットの見かけの位置を変え、そして受信側
の反射角を標的面が対物レンズから名目の距離にある場
合に生ずる名目の角度に変える。受光側は、一般にスリ
ットを経て、バレル・レンズにより走査される表面から
もう１つの４５°の鏡を経て、自動焦点レチクルへ反射
される光を受信する。自動焦点ドライブ機構は、受光器
がレチクルの両半分の内に光を検出するまでいずれかの
方向へ、駆動される。受光器、すなわち、ホト・ダイオ
ードは信号を受け、これを増幅し、サーボ・モータを駆
動するサーボ増幅器へ送る。サーボ・　モータはシステ
ムを焦点位置に動かす。このシステムは、枢動自在な平
行平面ガラス板に機械的連結されている。

レート・センサが自動焦点機構をホーム位置に安定させ
るために使用されており、また、この位置からモータが
オーバドライブを生ずるのを防いでいる。このため、こ
のようなシステムは、焦点位置付近で絶え間のない振動
を生ずる。アクチュエータが直接的にセンサにフィード
バックされるこのようなシステムはクローズ・ループま
たはフィードバック・システムとして知られている。

このようなシステムにおいて、光を単純に電子線に置き
換えることはできないため、上述のような装置は、電子
線システムに簡単に使えるものでない。対応する要素と
効果は、光と電子とでは全く異なる。特に、標的表面上
に衝突する電子線は、細い線のま１で反射されるよりは
大きい角度で散乱される。さらに、これら電子はレジス
トを露光する。しかし、たとえ、置き換えができたとし
ても、上述のような装置は、照射サイクルの遅れを避け
れるほど十分に早くないであろう。したがって、電子線
照射装置において、フィードバック技術は用いられ−な
い。処理速度に加えて、いくつかの間；但が従来技術の
適用を制限している。標的、たとえば、マスクまたはウ
エノ・の表面の２位置を測定するシステムは、電子線ま
たはそのセンサ、バック・スキャツタ・ダイオードと干
渉してはい・けない。また、測定に用いられる光は、レ
ジストが不感であるスペクトルの部分になければならな
い。

さらに、システムは電子線装置と物理的に両立できなけ
ればならない。たとえば、装置が動作される高真空の要
求と両立しなければならず、また、不要な渦電流を発生
する導体や強磁性材を含んではならない。また、電子線
装置内の与えられた空間内に、Ｚ方向焦点装置が収納で
きなければならない。

高速度な正確さく２μｍまたはそれ以下に）でもって、
自動焦点装置は反復操作ができなければならない。さら
に、処理されるウエノ・装置やマスク装置が多種類のた
め、標的表面の反射率の多様さを自動的に補整しなけれ
ばならない。さらに加うる１１こ、システムは位置合せ
印や標的表面の他の補助的な特徴なしでも使用できなけ
ればならない。

以上説明してきたように、これらの多様な要求のため、
フィードバック装置は簡単に使用できない３、むしろ、
標的表面のＺ位置の測定のための装置は、Ｚ位置の測定
位置を焦点信号、たとえば磁気レンズに対する電流また
は電気レンズに対する筆圧、の修正に変換する変換技術
を利用しなければならない。しかも、計算回路の利用に
よりリアルタイムでの偏向補正がなされなければならな
い。

この発明の１つの目的は、従来技術の欠点を克服するた
め、電子線リソグラフィ・システムのために、このシス
テムへ直接に焦点信号を与えるために直接的に２位置を
測定する電子線自動焦点装置を提供することである。

この発明のもう１つの目的は、電子線装置の限られた空
間や環境と十分Ｃ（両立できる電子線自動焦点装置を提
供することである。

この発明の他の目的は、標的のＺ位置の測定をフィード
バック零回路を使用せずに行うことのできる装置を提供
することである。

この発明のさらに他の目的は、異なる標的の高さの違い
を補正する電子線の焦点信号を自動的に発生する装置を
提供することである３、この発明は、電子線リソグラフ
ィに用いられる自動焦点装置に関し、詳細には、この装
置は、３つのサブシステムの要素を使用している。第１
は、ウニ・・やマスクなどの標的表面の２位置を測定す
るためのサブシステムである。この高さ測定を、達成す
るために、狭いビーム発散を持つＬＥＤ元源が、水平な
スリットヲ照射するために用いられる。このスリット像
は標的の表面の中央に照射される。可能ならば、赤色の
ＣＷレーザ・ダイオードが用いられる。光線は垂直方向
の空間の占有を最小にするため、標的の表面と平行にさ
れる。標的表面の２位置の変化は、スリット像の横方向
の移動を生じさせる。

プリズムを使用して再び水平面内に反射された像は、第
２のザブシステム、光信号を焦点信号の修正のために用
いられる電気信号に変換するトランステユーサーＬに収
束される。

すなわち、この発明によれば、光像は線形のダイオード
・アレイに送られ、ビデオ・タイプの出力信号全発生す
る。この信号は、第３サブシステムの自動焦点電子サブ
システムにより、電子線の焦点をシステムの微小焦点コ
イルを通じて修正するため、アナログ修正信号に変換さ
れる。

最後ケこ、この装置は、電子線の照射サイクルをＪらす
ことなく、倍率や像回転を維持するためにリアル・タイ
ムの偏向修正を行なうコンピュータ全便用する。コンピ
ュータで制御された回路は、リソグラフィが「テーブル
移動」のような不使用モードにある処理工程の時間中に
、自動焦点装置（こ信号を送り、微小焦点コイルに焦点
修正信号を加えるようにする。ビデオ・タイプの出力信
号は、筐た、電子線の倍率および回転を修正するために
使用されるディジタル高さ信号に変換される。

以下、この発明を図示の実施例に基づいて詳細に説明す
る。

第１図ないし第３図は、この発明の一実施例による電子
線自動焦点装置を示すものである。

第１図を参照すると、標的表面のＺ位置を測定するため
に用いられる光学サブシステムが示されている。このサ
ブシステムは、電子線照射装置の独特な特別条件に特に
適合するような元テコの技術を基本的に組入れている。

例えば、光学システムは、電子線または電子線センサと
干渉してはいけなく、また、放出する元はマスク上のレ
ジストが不感なスペクトルの部分の内になければならな
い。１だ、このシステムは、高真空に耐えることができ
なければならず、さらに、渦電流を生ずるような導体ま
たは強磁性体を含んではならない。

決定的に重要なことは、この光学システムは、２μｍま
たけそれ以下で反復可能な正確さを持たなければならな
い。第１図に示されるこの発明の光学システムは上述の
電子線に対する規準を満足する。

発光源１０は、好ましくは、一般に波長λが６００μｍ
以上の単色の赤色光を発するＬＥＤである５、また、発
光源１０は小さなビーム拡散、好ましくは、５°以内に
５０チの強度を有する。発光源１０はコンデンサ・レン
ズ１３により水平スリット１２を照射する。放出された
元１４は、電子線コラム内の垂直方向に占める空間を最
小にするために、標的面１５に対して平行になっている
。

標的面１５は、ウェハの上表面またはマスクの上表面の
どちらであってもよい。普通、工程の初期の段階におい
ては、ウェハは白紙の状態におり、そして、マスクはク
ロムを使用しているため、コントラストの発生は事実上
、不可能である。したがって、この発明は基準点に対す
る標的表面の高さの測定全行なうにおいて、標的のコン
トラスト発生特性に依存しない。

スリット１２は、非常に浅い角度θでもって標的表面１
５Ｖ−投影する。もし、たとえば、標的表面が、レジス
トなどの光学的に透明な材料で被覆されている場合、投
影された元の大部分は表面から反射されるであろう。被
覆の下側の材料の反射率の影響は、結果的に減少される
。

第１図に示すように、±ΔＺ分の標的衣１ｍ１１５の２
一方向の変化は、焦点の合わされたスリット像を垂直に
位ｔ　ｑ　／まで移動させる。−万、反射の中心は表面
上を横方向に位置９まで移動し、２×ΔＺ分だけの反射
光の中心の見かけの上昇または下降を描く。

第１図に示すように、標的表面１５に平行な光線１４は
、集束レンズ１７および屈折プリズム１８により標的表
面の中心に投影される。同様の方法で、スリット像は水
平位置に同様のプリズム１１およびレンズ２５により再
投射される。プリズム１１および１８の使用は、システ
ムの垂直方向の占有空間’ｋ　最小にする。レンズ２５
は、スリット像をセンサ面２２上に投影するのに用いら
れている。

空間が、電子線コラムと室とにより制限されているため
、光線はセンサ面２２に到達するまで数回反射されなけ
ればならない。第１図に示すように、これは回転ミラー
２４および２５により行なわれる。ミラー２４および２
５は、標的表面が名目高き（すなわち、Δｚ＝０）の鳴
合、光線をセンサ面２２の中心に置くようにルＭ整する
。したがって、スリット像の位置９の像２６が、センサ
面２２上へ高さ変動に伴ない変換手段としてのダイオー
ド・アレイ２８の方向に沿って動くように投射される。

そして、この像２６はダイオード・アレイ２８と横切る
方向へ収束され、すなわち、強められ、標的表面１５に
Δ２の高さ誤差が生じた場合、ΔＺに倍率の２倍を掛け
た位置、例えば２７へ動く。

第１１シ１には、また、円筒レンズ２９および３０の一
対が示されており、これらのレンズ２９および５０ｉｄ
、ダイオードのアレイを横切る方向ヘスリット像を収束
する働きを行なう。第１図から理解されるように、集束
はダイオード・アレイを横切る方向にのみ必要である。

光線は、図に示すようｅこ真空室に設けられた元出口３
１を経て、真空゛室外へ導出される。したがって、変換
手段としてのダイオード・アレイ２８は真空の外に置か
れていて、電気的な処理を容易にしている。すなわち、
短い配線を用いることができ、壕／こ、位置の調節を行
なうことができる。

第１図に示す光テコは、サーボ・フィードバック・ルー
プを用いていないことで、従来の技術とは異なる。

従来のシステムにおいては、このようなループが光学的
要素を機械的または電気的に動がして、例えば、プリズ
ム捷たはミラーを回転して、センサ面２２に生じたスリ
ット像２７を名目的な位置２６に戻すために用いられて
いる。これに対して、纂１図に示すシステムにおいては
、線形ダイオード・アレイ２８を有するセンサ・アレイ
は、スリット像の位置を検出してこれを電気信号に変換
する。この電気信号は、ビデオ信号の出力として用いら
れる。線形ダイオード・アレイ２８の重要な点は、従来
技術の装置の場合のように電子線コラムの真空内に必要
とされるアクチュエータを除去できるということである
。さらに、フィードバック・ループ内に必要とされる機
械的要素かなく、この発明のシステムは大変早い速さで
動作する。

第１１ン１において、第１光学手段７１がコンデンサレ
ンズ１３、スリット１２、レンズ１７、プリズム１８に
より構成されており、第２光学手段がプリズム１１、レ
ンズ２３、ミラー２４、レンズ５０、ミラー２５、レン
ズ２９によ多構成されている。

第２図を参照すると、ダイオード・プレイ２８の典型的
なビデオ出力信号が示されている。第３図シζ関して以
下に説明されるように、ダイオード・アレイ２Ｂからの
出力は、光線の立上りエツジに対応するアレイ２８内の
ダイオード、例えばダイオードＮ１に決定し、また、光
線の立下りエツジＦＣ対応するダイオードＮ２を決定す
るために比較４により設定される、クリッピング・レベ
ルを有する。、電子サブシステムは、第２図に示すよう
なダイオード・プレイの出力を利用して電子線の焦点お
よび偏向を修正するために必要な信号に変換する。さら
に、第６図の電子サブシステムは、標的表面の反射率の
変化のような条件の変化を補正するために信号の強さを
調整する。

第３図を参照すると、この発明の回路手段７３としての
自動焦点サブシステムが示されている３゜第２図に示す
ような、ダイオード・アレイ２８からのビデオ出力信号
は、最初に差動増重ｉ４謹３２へ供給され、そして、ゲ
イン調整抵抗３３へ送られる。基線自動修正３６の信号
が、ビデオ信号に増幅器５５の加え点３４で加えられる
。

基線自動修正３６は、小さなダイオード信号を増幅して
、これを第６図中の回路の比較器、１５７により処理で
きるレベルに上げるために必要な増幅器３２の大きなり
Ｃ利得の結果としで生ずるＤＣオフセット・ドリフト金
修正するために必要であ−る。このように処理されたビ
デオ出力信号３８は、第２図の信号と同じとなり、クリ
ッピング・レベルが、光線の立上りエツジに相当するダ
イオードＮ１”（ｉ−決定し、また、光線の立下りエツ
ジに相当するダイオードＮ２を決定するために比較器３
７により使用される。

第３図に示されるシステムは、比較器６７の出力および
クロック４０の出力を受けるロジック回路３９’ｉ１月
いて、ダイオード・アレイの始めから光線の中心に至る
までのダイオード数に等しいカラントラ行なう。出力部
４１は、ストローブ信号およびリセット信号とともにカ
ウントを入力する。

出力部４１は、複数の機能を行なう。第１に、ロジック
回路３９からのシリアル・カウントを図外のコンピュー
タに送られるパラレル出刃ワードｅζ変祷する。また、
出力部４１は、直接に電子線の焦点を修正するために用
いられるアナログ出刃を生ずるディジタル・アナログ変
換器を使用している。これら２つの出力は第３図に示さ
れている。

コンピュータと、電子線アセンブリの焦点コイル・ドラ
イバとに送られる標的表面の高さの値は、ストローブお
よびリセット線にパルスが生ずる際に、周り的に更新さ
れる。

第５図は、コンピュータのＣサイクルのフオームのロジ
ック３９人力を示している。この入力は、電子線システ
ムがテーブル移動モードにあり、したがって、システム
が自動焦点出力の更新を行なうことができる動作中にあ
ることを示している。

テーブル移動モード中においては、電子線システムの書
込みも位置合せも行なわれず、自動焦点出力の更新を可
能にする標本の物理的な調整が行なわれている。したが
って、ロジック回路３９へのＣサイクル人力を利用して
、実質的な電子線動作が行なわれていない工程中のある
時点で更新が行なわれる。

第３図に示す増幅サーボ４２は、°クロックおよびカウ
ンタ４０と、基線自動修正３６とからそれぞれ入力を受
ける。増幅サーボ４２は、異なるレジスト及びウェハ上
の異なる構造に起因する屈折率の異なるレベルを、輛゛
修するために用いられている。増幅サーボ４２は、１だ
、ＬＥＤＬ７）光出力のドリフトおよび増幅器のゲイン
・ドリフトに対する補整のためにも用いられている。増
幅サーボ４２は、さらに、最大のダイオードの出力を測
定して、それが適正な振幅であるかを決定するのにも使
用される。もし、出力が低すぎる場合には、増幅サーボ
４２はダイオード・アレイ２８に送られるスタート・パ
ルス間の時間を増す。スタート・パルス間の時間が増大
すると、アレイ２８のダイオードは長い時間、光を受け
、したがって読出し詩に大きな信号を出す。逆に、もし
信号が大きすぎる場合Ｖこは、スタートパルス間の時間
を減少する。このため、ダイオード・アレイ２８の出力
１ぎ号の振幅が減少する。もし、増幅サーボ４２が洒号
を１文知しない場合には、出力部４１１Ｃウエノ・が存
在しないことを示す出力信号を送る。この結果、出力部
４１はサム・ホイール・スイッチに記憶されている。プ
ログラムされた省略時の値に切り換えられる。

光レベルの変化を調整する代りの技術として、ミラー２
４または２５の１つに金が被覆されたダイオードを用い
、そして、フィードバック増幅器を用いて発光している
ＬＥＤの電流を制御するようにしてもよい。これだけで
、フォト・ダイオードへの信号は同じレベルに戻る。こ
のような変形においては、ビデオ信号回路の調整サイク
ルは除去してもよい。

第５図に示すように、出力部４１は、書込みが行なわれ
ているチップの測定された高さを表わすディジタル出力
を、制御コンピュータへ送る。コンピュータは、この値
を計算して未登録の読出しの間、測定された高さに対応
して磁気偏向の回転および倍率の修正に用いる。

また、第５図に示すように、出力部４１は、ウェハ上の
それぞれのチップの異なる高さに対応して電子線焦点の
直接かつ自動的な修正を行なうのに用いられるアナログ
信号を発生する。したがって、出力部４１により発生さ
れる複数の出力は、従来のサーボ・ループ平衡の機構を
除去する。なぜならば、直接的な高さの測定が行なわれ
て、相応するアナログ信号が焦点を修正するのに用いら
れるからである。このため、装置、は、各全潰回路チッ
プの位置合せおよび書込みの前に、実際の標的面に合う
ように電子線の焦点の自動修正を行なう。さらに、高さ
の変化が直接的に測定されるため、それぞれのチップの
書込み前に、それらの高さ変化による回転および倍率の
誤差の修正を行なうことができる。

この）西明は１だ、チップの位置合せに依存しないとい
うことで重要である。このため、ブラインド書込み１・
ψ作中、焦点回転および倍率の修正を行なうことができ
る。

頒えて、この発明は、ＬＥＤｌｏからの単色の赤色光を
使用しているという点に大きな利点がある。ＬＥＤｌｏ
からの光は、プリズム１１および１８全使用して、光を
屈折させてウェハの表面に下げ、そして、ウェハ表面か
ら反射された後、屈折させて適当な面に投射することが
できる。このような尤は、レジストに影響を与えないス
ペクトルの部分にある。理解されるように、この発明の
光学サブシステムは、電子線コラム内の最小の垂直空間
内に収納できる。光線の調整を粗い構成ででき、したが
って、レジストの露光を防ぐことができる。捷た、この
ようなプリズム１１．３０’ｉ用いることにより低い光
損失を達成することができ、筐た、光のある方向への収
束を他方向への収束から分離することが、金が被覆され
たミラー２４および２５とともに適当に配された円筒レ
ンズ２９およ・び６０を用いることで達成される。元テ
コは、ウェハ表面１５の高さのｙ化を、線形ダイオード
・アレイ２８のような検出センサの位置−ヒの光点の動
きに変換する。したがって、この発明の光学サブシステ
ムは、従来技術に較べて大きな利点を持つ。この発明は
、フィードバックを使用しているため、目盛りづけが行
なわれる必要がある。これは、正しい電子線焦点の評価
を行なうことができる異なる高さくしかし、高さの％徴
は知られてなくてもよい）の２つのターゲラトラ用いて
達成される。この２つの高さのそれぞれに対して、最良
の電子線焦点が利得の調整およびア丈ログ出力のオフセ
ットにより得られる。焦点電流（静電の場合は電圧）は
、扁さ誤差Δ２に比例するため、この２つの点の目盛は
、どんな高さの変化に対しても正しい電子線焦点修正を
与える。

さらに、電子サブシステムは、ダイオード・アレイ２８
の一定な信号振幅を維持するために時間変化サーボを使
用している。このサーボは、ウェハ又はマスクの表面の
反射率の違い、およびコーティングとして用いられる色
々なレジストの反射詫の違いの補正を行なう３．さらに
、このサーボは電子サブシステムのロジック部分に一定
な振幅の入力を与えるため振幅のゲインの全てのドリフ
トをｉ山王する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例による電子線自動焦点装置
の一部である標的表面のＺ位置を測定するための発光源
、第１光学手段および第２光学手段金含む光学サブシス
テムを示す概略図、？、’ｇ　２１＜１はこの天椎例の
奄子糎自動焦点装置の−）１１Ｓである変換手段のダイ
オード・アレイにより出力されるビデオ出力信号を時間
の関数として示すグラフ、 第３図はこの実施例の電子線自動焦点装置の一部１５分
である回路手段としての電子サブシステムを示すブロッ
ク１ｚ＋である。 １０・　・発光源、１１．１８・・・・屈折プリズム、
１２・・・・水平スリット、１３・・・コンデンサレン
ズ、１４・・・・光線、１５・・・・標的表面、１７・
・・・集束レンズ、２２・・・・センサ面、２ろ　・・
・レンズ、２４．２５・・・・反射ミラー、２８・・・
・線形ダイオード・アレイ（変換手段）、２９．３０・
・・・円筒レンズ、７１・・・・第１光学手段、７２・
・・第２光学手段、７３・・・・（ロ）路手段。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 標的衣匣と基準点との間の間隔ケ変数とする関数ＤＣよ
   り電子線の焦点ケ修正する電子線自動焦点装置において
   、 ′＃光！原と、 前記発光源からの九會用いて前記標的表面上に像ケ投射
   する第１光学手段と、 ｌ１１１■記１象？前記標的表面から像面に再投射する
   第２光学手段と、 前記開面上に直かれて前記像を受け、そして、前記基準
   点に対する前記標的表面の高さを表示する電気的出力信
   号音発生する変換手段と、前ｄピ変換手段に連結されて
   いて、前記電気出力信号ｋ　Ａｉｌ記市子ビームの焦点
   修正信号に変換する回路手段と、 盆備えることケ特徴とする電子線自動焦点装置。