JPS5811756B2 - デンカイコウカハンドウタイソシ オヨビ ソノソウチ - Google Patents

デンカイコウカハンドウタイソシ オヨビ ソノソウチ

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JPS5811756B2
JPS5811756B2 JP49138213A JP13821374A JPS5811756B2 JP S5811756 B2 JPS5811756 B2 JP S5811756B2 JP 49138213 A JP49138213 A JP 49138213A JP 13821374 A JP13821374 A JP 13821374A JP S5811756 B2 JPS5811756 B2 JP S5811756B2
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JP
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field effect
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drain
electrode
gate
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JP49138213A
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西沢潤一
堀切賢治
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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  • Waveguide Connection Structure (AREA)
  • Microwave Amplifiers (AREA)
  • Amplifiers (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はトランジスタに係シ、特に高周波において高
出力、高利得、広帯域特性を得ることができる電界効果
トランジスタ素子および装置に関するものである。
トランジスタ増幅器を構成するトランジスタの種類とし
てはバイポーラトランジスタと電果効果トランジスタと
に分けられる。
そして上記バイポーラトランジスタは従来のトランジス
タ増幅器として広く使用され、数GHzまでは小信号、
大信号に対して安定した増幅特性を得ることができる。
しかしながら数GHz以上の高周尊で用い5るバイポー
ラトランジスタをうるには微細構造の製作技術を必要と
した。
一方電界効果トランジスタは上述のバイポーラトランジ
スタと同程度の微細構造の寸法で製作したものでも数+
GHzまで安定した増幅特性を得ることができる。
またこの電界効果トランジスタは比較的小信号、低雑音
に滴、する横形構造と電力用として適する縦形構造とが
ある。
そして上記横形構造の電界効果トランジスタはゲート、
ソースおよびドレインの各電極が平面内に位置し電流が
横向きに流れる構造であるため、電流の流れる通路すな
わちチャンネル長が長くな虱かつ直列抵抗が大きくなる
ため電力用にはあまり適さない。
一方縦形構造の電界効果トランジスタは電流の方向を縦
形にしてなる構造であるから直列抵抗を小さくでき、負
帰還がかからず、飽和特性の良好な電力増幅器として適
している。
上述の電界効果トランジスタの帯域特性を広帯域化する
ために進行波形とする試みがなされている。
この発明は上述の縦形電界効果トランジスタを進行波増
幅器として働らかせることを意図したものである。
従来の進行波電界効果トランジスタは、分布定数的に形
成された入力伝送線路および出力伝力伝送線路の各々の
伝ばん定数を等しくするような構成である。
また電流路の垂直方向に相当に広げられた電界効果トラ
ンジスタを含み、その電極をして入力伝送線路および出
力伝送線路を形成し、能動素子ならびに伝送線路を形成
する素子は半導体装置の全長にわたって完全に分布され
ている。
この発明の電界効果トランジスタは構造的には上述の縦
形電界効果トランジスタで進行波形増幅作用となるもの
で、上述の従来の分布定数的な構成を必要とせず集中定
数的な素子で構成され、能動素子がもつ容量性リアクタ
ンスと電極がもつ誘導性リアクタンスとを組合せて入出
力伝送線路の伝ばん定数を等しくしてなる電界効果トラ
ンジスタである。
したがって、この発明の目的は、入出力インピーダンス
が周波数によらず任意に選べて、高周波用にも、電力用
にも適用可能な電界効果トランジスタを提供することに
ある。
この発明の他の目的は、トランジスタおよびマイクロ波
集積回路の製造に用いられる能率的な製造方法によって
提供可能なため、小形の電界効果トランジスタを提供す
ることにある。
この発明のさらに他の目的は、構成が集中定数形である
ため特に能動素子は小形にしても電力利得を高くできる
ものを提供することにある。
まず従来の電界効果トランジスタを図面に基づいて説明
する。
一第1図は進行波形半導体装置の等価回路を示す原理図
である。
第1図で、1は入力側の一方の端子となるゲート電極、
2は入力側の他方の端子となるソース電極、3a〜3n
は入力側に配列されたキャパシタンスCなるキャパシタ
、4a〜4nは上記キャパシタ3a〜3nのそれぞれの
間に配列されたインダクタンスしなるインダクタ、5は
上記ゲート電極1〜インダクタ4a〜4nによって構成
される入力伝送線路であり、入力伝送線路5の一端は特
性インピーダンスZin=■と等しい抵抗値をもつ抵抗
6によって終端される。
7は出力側の一方の端子となるソース電極、8は出力側
の他の端子となるドレイン電極、9a〜9nは出力側に
配列されたキャパシタ、10a〜10nは上記キャパシ
タ9a〜9nのそれぞれの間に配列されたインダクタで
ある。
11a〜11nは半導体装置の単位長当りの入力電圧e
mと相互コンダクタンスgmの積で与えら五る電流源、
12はキャパシタ9a、9nとインダクタ10a〜10
nとによって決定される特性インピーダンスに等しい抵
抗、13は上記ソース電極7、ドレイン電極8と抵抗1
2との間の素子によって構成される出力伝送線路である
いま入力電送線路5に入射波が入ったとすれば、上記入
射波は入力側のゲート電極1、ソース電極2を入力端と
して伝ばん定数β=ω■(ωは角周波数)で入力伝送線
路を伝ばんして抵抗6で終端される。
そして入射波は入力伝送線路5を伝ばん中に出力伝送線
路13と結合し、入力伝送線路5の伝ばん定数βと等し
い伝ばん定数で伝ばんしながら、増幅される。
ところで第1図において出力側に出力伝送線路のインピ
ーダンスと等しい負荷抵抗RLを接続したときの電力利
得Gは次式で与えられる。
G=201og(0,5gm・1・RL)(dB)・・
・・・・(1)ここで1:半導体装置を構成する長さ、 gm:単位長当りの相互コンダクタンス である。
第2図は第1図に示した進行波形半導体装置を実用化す
るために縦形構造の電界効果トランジスタで構成した従
来の半導体装置の概略図である。
さらに詳しく述べると、第2図aは電波の進行方向に延
長して形成された作来の電界幼果トランジスタの平面図
、第2図すは第2図aに示したA−A断面図、第2図C
は第2図すに示したものの等価回路である。
第2図において14はP形(あるいはN形)の半導体で
あり、16および17はそれぞれ高濃度の半導体が拡散
されて形成されたP+形(あるいはN+形)のドレイン
領域およびソース領域、15はN形(あるいはP形)の
半導体で形成されたゲート領域である。
上記ゲート領域15およびドレイン領域16はソー領域
17となる半導体基板上に電波の進行方向に分布し、そ
して上記それぞれが入・出力伝送線路を形成する。
またゲート電極1は上記ゲート領域15の両端にそれぞ
れ接続されかつゲート電極1の一方は抵抗6を介してソ
ース電極2と接続され、他方(開放側)のゲート電極1
は入力端となり、またドレイン電極8はドレイン領域1
6の両端にそれぞれ接続され、かつ一方のドレイン電極
8は抵抗12を介してソース電極7と接続され、他方(
開放側)のドレイン電極8は出力端となる。
従来の電界効果トランジスタは以上のようにゲート領域
15およびドレイン領域16は電波の進行方向に長く分
布しておシ、入出力伝送線路を伝ばんする電波の伝ばん
定数が等しいときに増幅される。
しかしながら上記従来の増幅器は分布定数線路が波長よ
りも長く分布しているから半導体材料は細長いものとな
るため材料、寸法の点から周波数が低くなるに従って製
作の困難さとコスト高になる欠点と単位当りの相互コン
ダクタンスgmが一定のときは、式(1)から高利得に
するはと能動素子部は長くなるためやはり大きな寸法の
材料が必要になる欠点がある。
この発明はソース領域となる半導体基板上に形成された
ゲート領域とドレイン領域とをソース領域からドレイン
領域に流れる電流方向に対して直角方向にそれぞれ交互
に配列した能動素子によって形成して、それを複数個組
合わせることによって上記従来の欠点を除去するもので
ある。
以下この発明の実施例を図に基づいて説明する。
第3図はこの発明による電界効果トランジスタを示す構
成図であり、詳しくは第3図aはこの発明の電界効果ト
ランジスタを示す平面図、第3図すは第3図aに示した
もののB−B断面図、第3図cは第3図aに示したもの
のC−C断面図、第3図dは第3図aに示したもののD
−D断面図、第3図eは第3図dに示したものの等何回
路である。
第3図において18はソース領域からドレイン領域に流
れる電流方向に対して直角方向に所定の間隔で設けられ
たゲート領域、19は上記ゲート領域18a〜18nと
少なくとも1つおきに組合せたドレイン領域19a〜1
9nである。
そして上記ゲート領域18およびドレイン領域19の長
さが波長に比べて短い場合は第2図に示したゲート領域
18およびドレイン領域19のインダクタンス分は無視
でき、キャパシタンス3,9と電流源11となる。
すなわち、個々のゲート領域およびドレイン領域はその
長さが波長より短い場合は容量性リアクタンスを有する
20,21は誘導性リアクタンスを有し上記ゲート領域
、ドレイン領域18a〜18n、19a〜19nのそれ
ぞれの一端をその配列方向に沿ってそれぞれ接続する金
属からなる電極であり、この電極20,21は互に対向
している。
そしてこの電極を細線で形成した場合のインダクタンス
Lは次式で与えられる。
ここでl:細線の長さくmm) a:細線の半径(mm)である。
またこれをリボン状に形成した場合のインダクタンスL
は次式で与えられる。
ここでl;リボンの長さくmm) w:リボンの幅(mm) h:リボンの厚さくmm)である。
ところで電極22.23は受動素子となる電極20.2
1のそれぞれの一端に接続されている。
詳しくは第3図dおよび第3図eを用いて説明する。
図において24は電極22と二酸化ケイ素5iO2(図
示せず)等で形成されるキャパシタであり、このキャパ
シタ24はゲート領域18とソース領域17およびドレ
イン領域19とソース領域17との間にそれぞれかかる
バイアス電流をしゃ断する直流阻止コンデンサの作用を
し、かつ高周波に対して低インピーダンスを呈する。
さらにその一端は抵抗25で終端される。
またキャパシタンス3,9を大きくする場合は(λは波
長)近くにすればよい。
ところで抵抗25は半導体に適当な不純物を添加して形
成され、かつこの抵抗値は入力伝送線路の特性インピー
ダンスに等しくしである。
この抵抗の一端はキャパシタンス24に接続され、他端
はソース領域17で終端される。
以上説明したように、このトランジスタの等何回路は第
1図に示した等何回路と同じになり、進行波電界効果ト
ランジスタを構成する。
また出力伝送線路13の一端が抵抗12で終端されてい
るが理論的には抵抗12がない場合でも進行波形の動作
が可能となることを証明できるので抵抗12を省略して
も良い。
第3図に示した電界効果トランジスタは複数個組合せる
ことができ、さらに各素子から出てきた。
電力を合成して大電力を図ることも可能である。
第4図はこの発明による電界効果トランジスタを複数個
組み合せて構成した一実施例を示している。
第4図においてゲート領域18の一端を接続する受動素
子20a〜20mの一端はそれぞれの入力伝送線路のイ
ンピーダンスに等しい抵抗で終端され、他端は互いに集
中し入力端となるゲート電極26で一つに接続される。
一方ドレイン領域19の一端を接続する受動素子21a
〜21mの一端はそれぞれの出力伝送線路のインピーダ
ンスに等しい抵抗で終端され、他端は互いに集中し、出
力端となるドレイン電極27に接続される。
以上のようにゲート領域、受動素子およびゲート電極と
からなる入力伝送線路と、ドレイン領域、受動素子およ
びドレイン領域とからなる出力伝送線路とから構成され
る電界効果トランジスタを並列にm個組合せることによ
り増幅器が構成できる。
またゲート電極26、ドレイン電極27側からみたイン
ピーダンスは第3図に示した1個の電界効果トランジス
タのインピーダンスのし1/mとなり、使用電力はm倍
となる。
第5図はこの発明の他の実施例を示すものであり、第4
図に示した電界効果トランジスタと異なるところはドレ
イン領域、ゲート領域が両側につき出した配列になって
いるクシ形構造でキャパシタンスを大きくできる特長が
ある。
また能動素子の密度が高いため能率的な利用が可能であ
る。
この発明の電界効果トランジスタは分布定数的な構成を
必要とせず集中定数的に各素子を構成し、能動素子のも
つ容量性リアクタンスと受動素子のもつ誘導性リアクタ
ンスとを組合せることによって容易に入出力線路の伝ば
ん定数を等しくすることができ、かつ入出力伝送線路の
インピーダンスが周波数によらず任意に選べ、電力用に
も、高周波用にも適用できるという特徴がある。
さらに従来のトランジスタの寸法は波長に比べて大きく
する必要があるのに対して小形の能動素子を複数個設け
るだけで波長よりも小さな寸法に構成することができる
という特徴がある。
なお上記実施例では縦形の構成のものを示したが横形の
構造のものにも適用しても同様の効果を得ることができ
るし、バイポーラトランジスタにも適用可能であること
は言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
第1図は進行波半導体装置の等何回路を示す原理図、第
2図は従来の縦形構造の電界効果トランジスタの概略図
であり、第2図aは従来の電界効果トランジスタを示す
平面図、第2図すは第2図aに示したもののA−A断面
図、第2図Cは第2図aに示したものの等何回略図、第
3図はこの発明を説明するための電界効果トランジスタ
の概略図であり、第3図aはこの発明による電界効果ト
ランジスタの平面図、第3図すは第3図aに示したもの
のB−B断面図、第3図Cは第3図aに示したもののC
−C断面図、第3図dは第3図aに示したもののD−D
断面図、第3図eは第3図dに示したものの等何回略図
、第4図はこの発明の一実施例を示す電界効果トランジ
スタの平面図、第5図はこの発明の他の実施例を示す電
界効果トランジス・り増幅器の平面図である。 1.26・・・ゲート電極、2,7・・・ソース電極、
3.9,24・・・キャパシタ、4,9.10・・・イ
ンダクタ、5・・・入力伝送線路、6,12,25・・
・抵抗、8,27・・・ドレイン電極、11・・・電流
源、13・・・出力伝送線路、14・・・半導体、18
,18・・・ゲート領域、16,19・・・ドレイン領
域、17・・・ソース領域、20,21,22,23・
・・電極である。 なお、図中同一あるいは相当部分には同一符号を付して
示しである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ソース領域となる半導体基板上に形成される複数個
    のゲートおよびドレイン値域を有し、上記複数個のゲー
    ト領域の一端を金属から逐る第1の電極で相互に接続し
    、また上記複数個のドレイン領域の一端を金属からなる
    第2の電極で相互に接続してなる電界効果トランジスタ
    において、ドレイン領域とソース領域間に流れる電流方
    向および高周波電波の伝ばん方向に対して直角に複数個
    のゲート領域およびドレイン値域を配列し、かつ高周波
    電波の伝ばん方向と向方尚に第1、第2の電極を配列し
    、上記複数個のゲート領域が第1の電極で連結された一
    端を入力端として、また上記複数個のドレイン領域が第
    2の電極で連結された一端を出力端とするように構成さ
    五た電界効果半導体素子。 2、特許請求の範囲第1項記載の電界効果半導体素子の
    ソース領域と容量性リアクタンスを有するように先端開
    放にしてかつ使用波長より十分短い長さのゲート領域お
    よび誘導性リアクタンスを有する第1の電極からなる入
    力伝送線路を形成し、イース領域と容量性リアクタンス
    を有するように先端開放にしてかつ使用波長よシ十分短
    い長さのドレイン領域および誘導性リアクタンスを有す
    る第2電極からなる出力伝送線路を形成し、各々伝送線
    路の伝ばん定数を等しくしてなる進行波形の電界効果半
    導体装置。
JP49138213A 1974-11-29 1974-11-29 デンカイコウカハンドウタイソシ オヨビ ソノソウチ Expired JPS5811756B2 (ja)

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JPS5162979A JPS5162979A (ja) 1976-05-31
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