JPS58114431A - 電子ビ−ム露光装置 - Google Patents
電子ビ−ム露光装置Info
- Publication number
- JPS58114431A JPS58114431A JP21477581A JP21477581A JPS58114431A JP S58114431 A JPS58114431 A JP S58114431A JP 21477581 A JP21477581 A JP 21477581A JP 21477581 A JP21477581 A JP 21477581A JP S58114431 A JPS58114431 A JP S58114431A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- deflection
- signal
- stage
- electron beam
- supplied
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/304—Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子ビーム露光装置に関し、特に被露光材料か
載置されたステージの移動誤差の補正を高速に行い得る
電子ビーム露光装置＃Ｃ：、するロ電子ビーム露光装置
においてはステージの移動と電子ビームの偏向とによっ
て材料に所望の図形を露光するよう６ζしているが、該
ステージの機械的な移動は露光に要求される高い精度で
行うことはできない。そのため該ステージの移ｉ量を例
えばレーザ測艮針によって精密に測定し、実際の移動量
と設定移動量との麹を求め、この差信号に応じて電子ビ
ームを偏向し、該ステージの移Ｉｉ！１１！！差を補正
するようにしている０しかしながらこのような補正は補
正のための電子ビームの偏向量が電子ビームの偏向歪１
ζよる影響が環視できる範四であれば良いが、実際の移
動量と設定移動量との差が大きくなり、それにつれて補
正のための電子ビームの偏向量が増加すると偏向歪によ
る影響が無視できなくなる。従って補正のための電子ビ
ームの偏向量が一定以とになる場会醗ζは電子ビームの
偏向によって補正し得る範１！ｌｉｃまで再びステージ
を機械的に移動させている。この二重のステージ移動は
装置の高スループツト化のためにステージを高速で移動
させた場合に強く生じ、結果として高スループツト化が
達成できない。
載置されたステージの移動誤差の補正を高速に行い得る
電子ビーム露光装置＃Ｃ：、するロ電子ビーム露光装置
においてはステージの移動と電子ビームの偏向とによっ
て材料に所望の図形を露光するよう６ζしているが、該
ステージの機械的な移動は露光に要求される高い精度で
行うことはできない。そのため該ステージの移ｉ量を例
えばレーザ測艮針によって精密に測定し、実際の移動量
と設定移動量との麹を求め、この差信号に応じて電子ビ
ームを偏向し、該ステージの移Ｉｉ！１１！！差を補正
するようにしている０しかしながらこのような補正は補
正のための電子ビームの偏向量が電子ビームの偏向歪１
ζよる影響が環視できる範四であれば良いが、実際の移
動量と設定移動量との差が大きくなり、それにつれて補
正のための電子ビームの偏向量が増加すると偏向歪によ
る影響が無視できなくなる。従って補正のための電子ビ
ームの偏向量が一定以とになる場会醗ζは電子ビームの
偏向によって補正し得る範１！ｌｉｃまで再びステージ
を機械的に移動させている。この二重のステージ移動は
装置の高スループツト化のためにステージを高速で移動
させた場合に強く生じ、結果として高スループツト化が
達成できない。
本発明はステージの移ｌｌ１ｌ誤差の補正を短時間ｌζ
行い得、高スループツト化を可能とする電子ビーム露光
装置を提供することを目的とする〇本発明に基づく電子
ビーム露光装置は被露光材料に照射される電子ビームを
偏向するための偏向手段、該偏向手段に供給される偏向
信号を発生する偏向信号発生手段、該電子ビームの偏向
に伴う偏向歪を補正するため該偏向信号発生手段と該偏
向手段との関−ζ設けられた偏向歪補正回路、該披露光
材料がｓｕｉされるステージ、該ステージを駆動するた
めの駆動手段、該ステージの移動量を測定する測定手段
、該測定された移動量とステージの設定移動量との差を
求める手段、該差信号をその大きさｌζ応じて２種の経
路に切換えて供給するための手段とを備え、該差信号は
該一方の経路によって両射偏向信号発生手段と前記偏向
歪補正回路との間に供給され、該差信号は他方の経路に
よって該偏向歪補正回路の出力信号と共に電子ビームの
偏向信号として供給されることを特徴とする。
行い得、高スループツト化を可能とする電子ビーム露光
装置を提供することを目的とする〇本発明に基づく電子
ビーム露光装置は被露光材料に照射される電子ビームを
偏向するための偏向手段、該偏向手段に供給される偏向
信号を発生する偏向信号発生手段、該電子ビームの偏向
に伴う偏向歪を補正するため該偏向信号発生手段と該偏
向手段との関−ζ設けられた偏向歪補正回路、該披露光
材料がｓｕｉされるステージ、該ステージを駆動するた
めの駆動手段、該ステージの移動量を測定する測定手段
、該測定された移動量とステージの設定移動量との差を
求める手段、該差信号をその大きさｌζ応じて２種の経
路に切換えて供給するための手段とを備え、該差信号は
該一方の経路によって両射偏向信号発生手段と前記偏向
歪補正回路との間に供給され、該差信号は他方の経路に
よって該偏向歪補正回路の出力信号と共に電子ビームの
偏向信号として供給されることを特徴とする。
以下添付図面暑ζ基づき本発明の一実施例を詳述する。
図中１は電子銃であり、鍍を子銃１から発生した電子ビ
ームは収束レンズ２Ｉζよってステージ６上擾ζ載置さ
れた被露光材料４上に照射される０該ステージ６はモー
タを含むステージ制御手段５ｊζよって２次元的Ｊ（移
動させられるが該制御手段５憂ζはコンピュータ６から
セットレジスタ７を介して制御信号が供給され該し、ジ
スタフ＃ｃはステージの設定移動量が配憶される０該ス
テージ上の被露光材料杓ζ照射される電子ビームは偏向
板８，９によって偏向されるが該偏向板８．９にはコン
ピュータ６から偏向歪補正回路１０．Ｄ−ム変換器１１
及び１２．増幅器１６．及び１４を介して偏向信号が供
給される０該偏向歪補正回路１０は偏向歪が無視できな
い電子ビームの偏向量１ζついて、予め偏向信号自体を
変換し、該偏向歪の補正を行っている０該コンピュータ
６からは大偏向信号と小偏向信号との２ｓの信号が発生
させられるが、該大偏向信号は高精度のＤ−ム変換器１
１．増幅＠１５を介して偏向板８に供給され、咳小偏向
信号は高速度Ｄ−ム変換器１２．増幅器１４を介して偏
向板９ｇ：供給されるＯ と述したステージ６はステージ制御子Ｒ５によって所望
の距離移動させられるが、その移動はレーザー長針１５
１ｃよって監視され実際の移動量はカウンタ１６＃ｃよ
って保持されるＯ赦カウンタ１６ｇ：保持された実際の
移動量と―紀セットレジスタ７Ｉζセットされた設定移
動量は比較回路１７擾こおいて比較され、その差信号は
レジスタ回路１８＃ｃ供給される０該しジスタ回路１８
は供給された差信号の絶対値の大きさに応じ、咳差信号
を２種の経路＃ｃＶＩＪ換えて供給するＯ該差信号の絶
対値が定められた値より大きい場ｆ１−該差信号はＩＩ
ｉ配偏向歪補正回路１０に供給されて１ンピユータ６か
らの偏向信号と加算されると共に偏向歪補正の処理がな
される〇一方該差信号の絶対値が定められた値より小さ
い場合、咳差信号はＤ−ム変換器１９を介してアナログ
信号に変換された後前記り一ム変換器１２からの小偏向
信号と加算され、偏向板９に供給される０ 上述した如き構成において材料４の露光はステージ６の
機械的移動、偏向板８による電子ビームの大偏向及び偏
向＋５Ｌ９１こよる電子ビームの小偏向ｌどよって行わ
れる０ここで材料４上の特定のフィールドの露光が終了
し、該フィールドにＩ！！絖した次のフィールド、の露
光を行う場合、ステージ６を所定量移動させるべくコン
ピュータ６から信号がレジスタ７を介してステージ制御
子Ｒ５に供給される０該ステージの移動が終了すると比
較回路１７着こおいでレジスタ７にセットされ？：設定
移動量とカウンタ１６に保持された実際の移動量との差
が求められその差信号はと述したステージ移動の誤差を
補正するための偏向信号として用いるためレジスタ回路
１８に供給される。該レジスタ回路１８１こおいては該
差信号の絶対値の大きさを判別し、該信号値が特定の値
より大きい場合、すなわら該差信号による電子ビームの
偏向量が歪が無視できない程大きい場合には、該差信号
は前記偏向歪補正回路１０＃ｃ供給される◎皺補正回ｊ
ｌ１１０１どおいては、該差信号ｌこよってコンピュー
タ６から供給される偏向信号が該ステージの移動誤差ｌ
ζ対応した分だけ補正され更に偏向歪の補正処理が施さ
れる０該補正回路１０からの大偏向信号は偏向板８に供
給されて電子ビームを偏向し、材料４上で４子ビームを
サブフィールド毎に移動させ、又小偏向信号は該サブフ
ィールド内の図形の描画信号として偏向板９に供給され
る。
ームは収束レンズ２Ｉζよってステージ６上擾ζ載置さ
れた被露光材料４上に照射される０該ステージ６はモー
タを含むステージ制御手段５ｊζよって２次元的Ｊ（移
動させられるが該制御手段５憂ζはコンピュータ６から
セットレジスタ７を介して制御信号が供給され該し、ジ
スタフ＃ｃはステージの設定移動量が配憶される０該ス
テージ上の被露光材料杓ζ照射される電子ビームは偏向
板８，９によって偏向されるが該偏向板８．９にはコン
ピュータ６から偏向歪補正回路１０．Ｄ−ム変換器１１
及び１２．増幅器１６．及び１４を介して偏向信号が供
給される０該偏向歪補正回路１０は偏向歪が無視できな
い電子ビームの偏向量１ζついて、予め偏向信号自体を
変換し、該偏向歪の補正を行っている０該コンピュータ
６からは大偏向信号と小偏向信号との２ｓの信号が発生
させられるが、該大偏向信号は高精度のＤ−ム変換器１
１．増幅＠１５を介して偏向板８に供給され、咳小偏向
信号は高速度Ｄ−ム変換器１２．増幅器１４を介して偏
向板９ｇ：供給されるＯ と述したステージ６はステージ制御子Ｒ５によって所望
の距離移動させられるが、その移動はレーザー長針１５
１ｃよって監視され実際の移動量はカウンタ１６＃ｃよ
って保持されるＯ赦カウンタ１６ｇ：保持された実際の
移動量と―紀セットレジスタ７Ｉζセットされた設定移
動量は比較回路１７擾こおいて比較され、その差信号は
レジスタ回路１８＃ｃ供給される０該しジスタ回路１８
は供給された差信号の絶対値の大きさに応じ、咳差信号
を２種の経路＃ｃＶＩＪ換えて供給するＯ該差信号の絶
対値が定められた値より大きい場ｆ１−該差信号はＩＩ
ｉ配偏向歪補正回路１０に供給されて１ンピユータ６か
らの偏向信号と加算されると共に偏向歪補正の処理がな
される〇一方該差信号の絶対値が定められた値より小さ
い場合、咳差信号はＤ−ム変換器１９を介してアナログ
信号に変換された後前記り一ム変換器１２からの小偏向
信号と加算され、偏向板９に供給される０ 上述した如き構成において材料４の露光はステージ６の
機械的移動、偏向板８による電子ビームの大偏向及び偏
向＋５Ｌ９１こよる電子ビームの小偏向ｌどよって行わ
れる０ここで材料４上の特定のフィールドの露光が終了
し、該フィールドにＩ！！絖した次のフィールド、の露
光を行う場合、ステージ６を所定量移動させるべくコン
ピュータ６から信号がレジスタ７を介してステージ制御
子Ｒ５に供給される０該ステージの移動が終了すると比
較回路１７着こおいでレジスタ７にセットされ？：設定
移動量とカウンタ１６に保持された実際の移動量との差
が求められその差信号はと述したステージ移動の誤差を
補正するための偏向信号として用いるためレジスタ回路
１８に供給される。該レジスタ回路１８１こおいては該
差信号の絶対値の大きさを判別し、該信号値が特定の値
より大きい場合、すなわら該差信号による電子ビームの
偏向量が歪が無視できない程大きい場合には、該差信号
は前記偏向歪補正回路１０＃ｃ供給される◎皺補正回ｊ
ｌ１１０１どおいては、該差信号ｌこよってコンピュー
タ６から供給される偏向信号が該ステージの移動誤差ｌ
ζ対応した分だけ補正され更に偏向歪の補正処理が施さ
れる０該補正回路１０からの大偏向信号は偏向板８に供
給されて電子ビームを偏向し、材料４上で４子ビームを
サブフィールド毎に移動させ、又小偏向信号は該サブフ
ィールド内の図形の描画信号として偏向板９に供給され
る。
一方フイールド間のステージ移動の後、比較回路１７か
ら得られる差信号が特定の値より小さい場合、すなわら
該差信号による電子ビームの偏向歪が＃Ｉ視できる値で
ある場合ｌこは該差信号はＤ−ム変換器１９によってア
ナログ信号ｉこ変換された後小偏向信号と加算され、偏
向板９に供給される。
ら得られる差信号が特定の値より小さい場合、すなわら
該差信号による電子ビームの偏向歪が＃Ｉ視できる値で
ある場合ｌこは該差信号はＤ−ム変換器１９によってア
ナログ信号ｉこ変換された後小偏向信号と加算され、偏
向板９に供給される。
この結果ステージ６の移動誤差は電子ビームの偏向１ζ
よって補正され正確な図形の露光を行うことができる。
よって補正され正確な図形の露光を行うことができる。
このように上述した実施Ｈにおいてはステージの移動誤
差量Ｉご応じて該誤差信号を２ｍの経路に切換えて供給
するように構成し、該誤差−号が大きく、誤差の補正を
電子ビームの偏向によって行うｔどは偏向歪が無視でき
ない場合にはその誤差に対応した信号を偏向歪補正回路
に供給し、偏向歪ｌどよる影響を黒くシタ上で電子ビー
ムの偏向によって該誤差を補正するようにしているため
従来の− 如くステージの機械的な移動を複ａ回行う必要が無くな
り、更に移動誤差量をあるｌｉ度無視してステージを高
速で移動させることができるため、装置の高スループツ
ト化を計ることができる０尚第ｔｇｌの実ｍ例Ｒ−おい
てＤ−ム変換器１９の出力信号とＤ−ム変換器１２の出
力信号とを加算するようにしたが、偏向板８＃９以外に
移動誤差補正用の偏向板を設けＤ−ム変換器１９の出力
信号を該移動誤差補正用の偏向ｊｌＬに供給するように
してもによって描画を行うようにしても良い０１１１１
２ｍは本発明の他の実施例を示しており、図中第１図と
同一部分は同一番号を付し、その詳細な説明を省略する
０この実ｊ１１例において比較回路１７において求めら
れた設定移動量と実際の移動量との差信号は引算１絡２
０を介してレジスタ回路１Ｂに供給されるＧ該引算回路
２０においては該差信号と皺レジスタ１路１８から偏向
歪補正回路１０＃ｃ供給される信号との差が求められる
・このような構成においてステージ３の移動誤差が大き
い場合、比＃！回路１７からの差信号はレジスタ回路１
８によって偏向歪補正回路１０に供線されると共に引算
回路２０１ζ供給されるりここでステージ６が完全に停
止している場合擾こは引算回路２０の出力は零となるが
通常ステージ６は移動後においても微少ではあるが機械
的Ｃと振動しており該引算回路２０の出力は完全に零と
はならない０従ってレジスタ回路１８＋とは差信号が供
給されるが、この差信号強度は予め設定しである特定値
より小さいため該差信号の供給経路はり換わり、該差信
号はＤ−Ａ変換器１９を介して偏向板９に供給される。
差量Ｉご応じて該誤差信号を２ｍの経路に切換えて供給
するように構成し、該誤差−号が大きく、誤差の補正を
電子ビームの偏向によって行うｔどは偏向歪が無視でき
ない場合にはその誤差に対応した信号を偏向歪補正回路
に供給し、偏向歪ｌどよる影響を黒くシタ上で電子ビー
ムの偏向によって該誤差を補正するようにしているため
従来の− 如くステージの機械的な移動を複ａ回行う必要が無くな
り、更に移動誤差量をあるｌｉ度無視してステージを高
速で移動させることができるため、装置の高スループツ
ト化を計ることができる０尚第ｔｇｌの実ｍ例Ｒ−おい
てＤ−ム変換器１９の出力信号とＤ−ム変換器１２の出
力信号とを加算するようにしたが、偏向板８＃９以外に
移動誤差補正用の偏向板を設けＤ−ム変換器１９の出力
信号を該移動誤差補正用の偏向ｊｌＬに供給するように
してもによって描画を行うようにしても良い０１１１１
２ｍは本発明の他の実施例を示しており、図中第１図と
同一部分は同一番号を付し、その詳細な説明を省略する
０この実ｊ１１例において比較回路１７において求めら
れた設定移動量と実際の移動量との差信号は引算１絡２
０を介してレジスタ回路１Ｂに供給されるＧ該引算回路
２０においては該差信号と皺レジスタ１路１８から偏向
歪補正回路１０＃ｃ供給される信号との差が求められる
・このような構成においてステージ３の移動誤差が大き
い場合、比＃！回路１７からの差信号はレジスタ回路１
８によって偏向歪補正回路１０に供線されると共に引算
回路２０１ζ供給されるりここでステージ６が完全に停
止している場合擾こは引算回路２０の出力は零となるが
通常ステージ６は移動後においても微少ではあるが機械
的Ｃと振動しており該引算回路２０の出力は完全に零と
はならない０従ってレジスタ回路１８＋とは差信号が供
給されるが、この差信号強度は予め設定しである特定値
より小さいため該差信号の供給経路はり換わり、該差信
号はＤ−Ａ変換器１９を介して偏向板９に供給される。
この時、初期の状態で偏向歪補正回路１０に供給された
差信号はレジスタ回路１８内の配憶部１ζ保持され引算
回路２０からの信号変化に＃ｌｒ！Ｉ４係に常に偏向歪
補正回路１０及び引算回路２０に供給されている。ここ
で引算回路２０からの差信号が特定の値より小さい場合
、すなわち咳差信号ｌどよる電子ビームの偏向歪が無視
できる＊＊である場合の電子ビームの偏向補正はコンピ
ュータ６からの指令によりステージ６の移動後の該ステ
ージの機械的振動の周期よりかなり高い同期例えば１０
０ＫＨｚで行われる０尚一つのサブフィールドの露光が
終了し次のサブフィールドの露光を行うためステージを
移動させる時には該レジスタ回路１８内の配憶部に保持
された信号はコンピュータ６からの指令によってクリア
ーされる。
差信号はレジスタ回路１８内の配憶部１ζ保持され引算
回路２０からの信号変化に＃ｌｒ！Ｉ４係に常に偏向歪
補正回路１０及び引算回路２０に供給されている。ここ
で引算回路２０からの差信号が特定の値より小さい場合
、すなわち咳差信号ｌどよる電子ビームの偏向歪が無視
できる＊＊である場合の電子ビームの偏向補正はコンピ
ュータ６からの指令によりステージ６の移動後の該ステ
ージの機械的振動の周期よりかなり高い同期例えば１０
０ＫＨｚで行われる０尚一つのサブフィールドの露光が
終了し次のサブフィールドの露光を行うためステージを
移動させる時には該レジスタ回路１８内の配憶部に保持
された信号はコンピュータ６からの指令によってクリア
ーされる。
と述した夷６ＩＩ例ｇ：ｍいてはステージ移動直後の大
きな誤差は偏向歪補正回路において補正処理が行われ、
機械的Ｉｉ１／ｈの如きステージの微小変動は速い同期
で補正処理を行うようにしているため、ステージの移動
を高精度に制御する必要がなくなり、高速度でステージ
を移動させることができると共ｌζ、移動直後にステー
ジが振動している状態であっても直＃５１に電子ビーム
によって材料の露光を正確に行うことができ材料の全露
光時間を著しく短縮することができる。
きな誤差は偏向歪補正回路において補正処理が行われ、
機械的Ｉｉ１／ｈの如きステージの微小変動は速い同期
で補正処理を行うようにしているため、ステージの移動
を高精度に制御する必要がなくなり、高速度でステージ
を移動させることができると共ｌζ、移動直後にステー
ジが振動している状態であっても直＃５１に電子ビーム
によって材料の露光を正確に行うことができ材料の全露
光時間を著しく短縮することができる。
以上本発明を詳述したが本発明はステージの移動誤差が
大きい場合でも再びステージを移動させることなく露光
を開始できるもので、装置の高スループツト化を可能と
するものである口内本発明は上述した夷總例に限定され
ることなく幾多の変形が可能である０例えば移１ＩＩＩ
ＷＡ差が大きい場合、レジスタ回路の出力信号を偏向歪
補正回路に供給するようにしたが該出力信号を偏向歪補
正回路以前においてコンピュータからの偏向信号に加算
するように構成しても良く、いずれＩどしても該出力信
号について偏向歪の補正処理がなされれば良い０又本発
明はベンシルビームによって露光を行うもの、矩形ビー
ムによって面積露光を行うもの等あらゆる電子ビーム露
光装置に適用し得るものであるＯ
大きい場合でも再びステージを移動させることなく露光
を開始できるもので、装置の高スループツト化を可能と
するものである口内本発明は上述した夷總例に限定され
ることなく幾多の変形が可能である０例えば移１ＩＩＩ
ＷＡ差が大きい場合、レジスタ回路の出力信号を偏向歪
補正回路に供給するようにしたが該出力信号を偏向歪補
正回路以前においてコンピュータからの偏向信号に加算
するように構成しても良く、いずれＩどしても該出力信
号について偏向歪の補正処理がなされれば良い０又本発
明はベンシルビームによって露光を行うもの、矩形ビー
ムによって面積露光を行うもの等あらゆる電子ビーム露
光装置に適用し得るものであるＯ
第１ｇｌ及び第２図は夫々本発明の一夷總鍔を示すブロ
ック図である。 １：電子銃、２：収束レンズ、６：ステージ、４：披露
光材料、５：ステージ制御手段、６：コンピュータ、７
：セットレジスタ、８．９＝偏向板、１０：偏向歪補正
回路、１１，１２：Ｄ−ム変換器、１５．１４：増幅器
、＄５：レーザ測長針、１６：カウンタ、１７：比較回
路、１８：レジスタ回路、１９：Ｄ−ム変換器、２０：
引算回路Ｏ
ック図である。 １：電子銃、２：収束レンズ、６：ステージ、４：披露
光材料、５：ステージ制御手段、６：コンピュータ、７
：セットレジスタ、８．９＝偏向板、１０：偏向歪補正
回路、１１，１２：Ｄ−ム変換器、１５．１４：増幅器
、＄５：レーザ測長針、１６：カウンタ、１７：比較回
路、１８：レジスタ回路、１９：Ｄ−ム変換器、２０：
引算回路Ｏ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ｌ 被露光材料に照射される電子ビームを偏向する辷“
めの偏向手段、線偏向手段に供給される偏向信号を発生
する偏向信号発生手段、該電子ビームの偏向に伴う偏向
歪を補正す゛るため、該偏向信号発生手段と該偏向手段
との間に設けられた偏向歪補正−路、錬披露光材料が載
置されるステージ、該ステージを駆動するための駆動手
段、該ステージの移動量を測定する測定手段、該測定さ
れた移動量とステージの設定移動量との差を求める手段
、該差信号をその大きさに応じて２種の経路に切換えて
供□給するための手段とを備え、鎖長信号は該一方の経
路によって鹸記偏向信号発生手段と＃Ｉ＃３偏向歪補正
回路との閾に供□給され、該差信号は他方の経路ｌζよ
って該偏向歪補正回路の出力信号と共に電子ビームの偏
向信号として供給されることを特徴とする電子ビーム露
光装置０ 龜 該差信号が該一方の経路によってｓｌＩ配偏向信号
発生手段と前記偏向歪補正回路との間に供給された後、
その後の該差信号の変動分のみ該他方の経路によって該
偏向歪補正回路の出力信号と共に電子ビームの偏向信号
として供給される特許請求の範囲第１′項記載の電子ビ
ーム露光装置Ｏ
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21477581A JPS58114431A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 電子ビ−ム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21477581A JPS58114431A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 電子ビ−ム露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58114431A true JPS58114431A (ja) | 1983-07-07 |
| JPS634697B2 JPS634697B2 (ja) | 1988-01-30 |
Family
ID=16661324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21477581A Granted JPS58114431A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 電子ビ−ム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58114431A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60178624A (ja) * | 1984-02-24 | 1985-09-12 | Jeol Ltd | 荷電粒子線描画装置 |
| JPH01120822A (ja) * | 1987-11-04 | 1989-05-12 | Jeol Ltd | 電子ビーム描画装置の偏向補正回路 |
-
1981
- 1981-12-26 JP JP21477581A patent/JPS58114431A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60178624A (ja) * | 1984-02-24 | 1985-09-12 | Jeol Ltd | 荷電粒子線描画装置 |
| JPH01120822A (ja) * | 1987-11-04 | 1989-05-12 | Jeol Ltd | 電子ビーム描画装置の偏向補正回路 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS634697B2 (ja) | 1988-01-30 |
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