JPS58114028A - ジアゾ型複写材料 - Google Patents
ジアゾ型複写材料Info
- Publication number
- JPS58114028A JPS58114028A JP21141981A JP21141981A JPS58114028A JP S58114028 A JPS58114028 A JP S58114028A JP 21141981 A JP21141981 A JP 21141981A JP 21141981 A JP21141981 A JP 21141981A JP S58114028 A JPS58114028 A JP S58114028A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diazo
- copying material
- image
- type copying
- coupler
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/52—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ジアゾ型複写材料に関するものである。さら
に詳細には安定性が良く、高遮光性、高濃度及び優れた
色調の画像が得られるジアゾ型複写材料に関するもので
ある。
に詳細には安定性が良く、高遮光性、高濃度及び優れた
色調の画像が得られるジアゾ型複写材料に関するもので
ある。
感光性複写材料はジアゾ型複写材料をはじめとして、近
年急速にその需要が高まりつ＼ある。
年急速にその需要が高まりつ＼ある。
そして、より良いジアゾ型複写材料を得るために種々の
試み゛がなされて来ている。すなわち、１） 画像部分
の遮光性をあげるためにジアゾ化合物、カップラーを大
量に使用して画像濃度を上げる方法。
試み゛がなされて来ている。すなわち、１） 画像部分
の遮光性をあげるためにジアゾ化合物、カップラーを大
量に使用して画像濃度を上げる方法。
２） 遮光性の高い色素を形成すネジアゾ化合物とカプ
ラーを使用する方法等がとられていた。
ラーを使用する方法等がとられていた。
しかしながら、１）の方法では経済的に不利であり、又
、２）の方法では一般に感度が低くなり、感度を高くす
るためにジアゾ化合物とカプラーの使用量を少くすると
遮光性が悪く、高濃度の画像が得られにくい。
、２）の方法では一般に感度が低くなり、感度を高くす
るためにジアゾ化合物とカプラーの使用量を少くすると
遮光性が悪く、高濃度の画像が得られにくい。
本発明者等は、これらの欠点を改良するため鋭意検討を
重ねた結果、特定のジアゾ化合物（Ａ）と特定のカプラ
ー（Ｂ）を組合せることにより、安定性のよい遮光性に
優れた高濃度の画像が得られることを見出し、本発明に
到った。
重ねた結果、特定のジアゾ化合物（Ａ）と特定のカプラ
ー（Ｂ）を組合せることにより、安定性のよい遮光性に
優れた高濃度の画像が得られることを見出し、本発明に
到った。
すなわち、本発明は支持体上にジアゾ化合物及びカップ
ラーを含有するジアゾ型複写材料におい３ （式中、Ｒ＋及びＲ２は置換又は非置換のアルキル基、
オキシアルキル基、又は７クロアルキル基を表わすか、
あるいはＲ１及びＲ２はそれが結合する窒素原子と共に
形成し得る複素環を、凡は水素原子、アルキル基、アル
コキシ基又は）・ロゲン原子を、またＸはアニオンを示
す０） で表わされるジアゾ化合物及び 一般式（Ｂ） 基を示す。） で表わされるカプラーを含有することを特徴とするジア
ゾ型複写材料を提供するものである。
ラーを含有するジアゾ型複写材料におい３ （式中、Ｒ＋及びＲ２は置換又は非置換のアルキル基、
オキシアルキル基、又は７クロアルキル基を表わすか、
あるいはＲ１及びＲ２はそれが結合する窒素原子と共に
形成し得る複素環を、凡は水素原子、アルキル基、アル
コキシ基又は）・ロゲン原子を、またＸはアニオンを示
す０） で表わされるジアゾ化合物及び 一般式（Ｂ） 基を示す。） で表わされるカプラーを含有することを特徴とするジア
ゾ型複写材料を提供するものである。
以下本発明の内容について具体的に説明する。
本発明に使用されるジアゾ化合物（Ａ）には表−１に挙
げたものがあるが、これらに限定されるものではない。
げたものがあるが、これらに限定されるものではない。
なお、表−１の如くジアゾニウム化合物のアニオン部分
を表わすＸは、通常ｃｔ７讐（ＳＯ４）、Ｂｒス■−１
Ｂ Ｆ ｉ 、、 Ａ Ｉ Ｆ ６−１ｔ（Ｓ ｎ Ｆ
ａ２）等である。これらのジアゾニウム塩と塩化亜鉛
、塩化鉄、塩化錫、塩化コバルト、塩化アンチモン、塩
化カドミウム等との複塩も用いられる。
を表わすＸは、通常ｃｔ７讐（ＳＯ４）、Ｂｒス■−１
Ｂ Ｆ ｉ 、、 Ａ Ｉ Ｆ ６−１ｔ（Ｓ ｎ Ｆ
ａ２）等である。これらのジアゾニウム塩と塩化亜鉛
、塩化鉄、塩化錫、塩化コバルト、塩化アンチモン、塩
化カドミウム等との複塩も用いられる。
表−１
七／ンＪソニウムクロライド 〃５
４−ジエチルアミノベンゼンジアゾニウム ＢＦ４６４
−ジブチルアミノベンゼンジアゾニウム 〃ジアゾニ
ウムクロライド ｖ２ｃｄｃ１２ジ
アゾニウム ＢＦ４又
、前記一般式（Ｂ）で表わされるカプラーの代表例には
、表−２に示したようなものがあるがこれに限定される
ものではない。
４−ジエチルアミノベンゼンジアゾニウム ＢＦ４６４
−ジブチルアミノベンゼンジアゾニウム 〃ジアゾニ
ウムクロライド ｖ２ｃｄｃ１２ジ
アゾニウム ＢＦ４又
、前記一般式（Ｂ）で表わされるカプラーの代表例には
、表−２に示したようなものがあるがこれに限定される
ものではない。
表−２
１２−（０−ヒドロキシフェノキシ）エタノール２．３
−（０−ヒドロキシフェノキシ）プロノぐノール３．４
−（０−ヒドロキシフェノキシ）ブタノール４、ｚ−（
ｍ−ヒドロキシフェノキシ）エタノールｓ ２−（ｐ
−ヒドロキシフェノキシ）エタノール６．５−（０−ヒ
ドロキシフェノキン）ペンタノールこれらのジアゾ化合
物に対するカプラーの害Ｕ合は、ジアゾ化合物１モルあ
たりカプラー０１〜１０モル、特に０５〜５モルが好ま
しい。
−（０−ヒドロキシフェノキシ）プロノぐノール３．４
−（０−ヒドロキシフェノキシ）ブタノール４、ｚ−（
ｍ−ヒドロキシフェノキシ）エタノールｓ ２−（ｐ
−ヒドロキシフェノキシ）エタノール６．５−（０−ヒ
ドロキシフェノキン）ペンタノールこれらのジアゾ化合
物に対するカプラーの害Ｕ合は、ジアゾ化合物１モルあ
たりカプラー０１〜１０モル、特に０５〜５モルが好ま
しい。
本発明のジアゾ型伐写材料では、現像処理よりも前の段
階でカップリング反応が起る懸念をなくするためにカッ
プリング防止剤を含有せしめることが出来る。例えば、
クエン酸、酒石酸、スルホサ１．１チル酸、ｐ−）ルエ
ンスルホン醒等カー挙げられる。又、酸化防止剤として
チオ尿素、ジフェニルチオ尿素等、その他側用目的に応
じて榎々の添加剤、例えば紫外線吸収剤、染料、界面宿
性ｆｉ１１゜帯電防止剤、マット化剤等を添加すること
も出来るＯ 本発明のジアゾ型複写材料を製造するには、ジアゾ化合
物（Ａ）、カブ＞−（Ｂ）及びノくインタ”−等を含有
する堕布漱全支持体（こ含浸させ、或いは支持体表面に
塗布し、乾燥すればよい。該支持体としては、容性紙類
（例えば通常の薄葉紙、コート紙、アート紙等）、各種
フ′ラスチック（例えば、ポリエチレンテレフタレート
、ポリプロピレン、ポリカーボネート、セルロースアセ
テート等）のフィルムやマット加工されたフィルム、不
織布、金属箔、積層物等が挙げられる。塗布液の塗布方
法としては、浸漬、フロー塗布、ロール塗布、ドクター
ナイフ塗布、エアーナイフ塗布、スプレー塗布等が適し
ている。
階でカップリング反応が起る懸念をなくするためにカッ
プリング防止剤を含有せしめることが出来る。例えば、
クエン酸、酒石酸、スルホサ１．１チル酸、ｐ−）ルエ
ンスルホン醒等カー挙げられる。又、酸化防止剤として
チオ尿素、ジフェニルチオ尿素等、その他側用目的に応
じて榎々の添加剤、例えば紫外線吸収剤、染料、界面宿
性ｆｉ１１゜帯電防止剤、マット化剤等を添加すること
も出来るＯ 本発明のジアゾ型複写材料を製造するには、ジアゾ化合
物（Ａ）、カブ＞−（Ｂ）及びノくインタ”−等を含有
する堕布漱全支持体（こ含浸させ、或いは支持体表面に
塗布し、乾燥すればよい。該支持体としては、容性紙類
（例えば通常の薄葉紙、コート紙、アート紙等）、各種
フ′ラスチック（例えば、ポリエチレンテレフタレート
、ポリプロピレン、ポリカーボネート、セルロースアセ
テート等）のフィルムやマット加工されたフィルム、不
織布、金属箔、積層物等が挙げられる。塗布液の塗布方
法としては、浸漬、フロー塗布、ロール塗布、ドクター
ナイフ塗布、エアーナイフ塗布、スプレー塗布等が適し
ている。
前記塗布液に用いるバインダーは、水を媒体として用い
る時は、結合剤として水溶性高分子（例えばゼラチン、
ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド等）、或い
は他の高分子の水性エマルジョンを用いるとよい。有機
浴媒（例えばアルコール、′芳香族炭化水素ケトン、酢
酸エステル、セロソルブ、ＤＨＦ等）を媒体として用い
るときは該浴媒にＩ−Ｔ溶な高分子（例えばセルロース
アセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロ
ースアセテートプロピオネート、エチルセルロース、ヒ
ドロキシエチルセルロース、ポリアルキルアクリレート
等）を用いるとよい。
る時は、結合剤として水溶性高分子（例えばゼラチン、
ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド等）、或い
は他の高分子の水性エマルジョンを用いるとよい。有機
浴媒（例えばアルコール、′芳香族炭化水素ケトン、酢
酸エステル、セロソルブ、ＤＨＦ等）を媒体として用い
るときは該浴媒にＩ−Ｔ溶な高分子（例えばセルロース
アセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロ
ースアセテートプロピオネート、エチルセルロース、ヒ
ドロキシエチルセルロース、ポリアルキルアクリレート
等）を用いるとよい。
本発明のジアゾ型複写材料は通常用いられる他のジアゾ
複写材料と同様に３５０〜４５０ｍ１の波長の光線に感
光するので、露光はジアゾ複写材料の露光に通常用いら
れる光諒全用いればよい。
複写材料と同様に３５０〜４５０ｍ１の波長の光線に感
光するので、露光はジアゾ複写材料の露光に通常用いら
れる光諒全用いればよい。
本発明のジアゾ型複写材料は、原図と重ね合わせて露光
した後、アルカリ（例えばアンモニアガス）で処理する
ことにより現像し、色素像を形成せしめる。或いはジア
ゾ化合物やカブラ−と共に熱により分解してアルカリ性
物質を生成する化合物を感光層中に含有せしめておき、
刃口熱処理により現像してもよい。
した後、アルカリ（例えばアンモニアガス）で処理する
ことにより現像し、色素像を形成せしめる。或いはジア
ゾ化合物やカブラ−と共に熱により分解してアルカリ性
物質を生成する化合物を感光層中に含有せしめておき、
刃口熱処理により現像してもよい。
本発明のジアゾ型複写材料は画像形成後の保存性が非常
にすぐれ、発色部は耐光性、熱安定性等の安定性が良く
、長期間放置後に於ても退色を生じない。
にすぐれ、発色部は耐光性、熱安定性等の安定性が良く
、長期間放置後に於ても退色を生じない。
また、地肌部分も以上の条件等で黄変が起ることはない
。
。
以上に述べた如く、本発明は画像部の遮光性及び非画像
部の透明性に極めてすぐれ、安定性の高い画像を形成す
るジアゾ型複写材料に関するものであるが、さらに実施
例をあげて以下にその自答を示す。
部の透明性に極めてすぐれ、安定性の高い画像を形成す
るジアゾ型複写材料に関するものであるが、さらに実施
例をあげて以下にその自答を示す。
実施例−１
ジアゾ感光液が塗布できるように下引加工を施した厚さ
１００μのポリエチレンフタレートフィルムに、次の処
方の感光液をコーティングロットにて乾燥後の塗布量が
３９／ｍ２ になるように塗布し、乾燥した。
１００μのポリエチレンフタレートフィルムに、次の処
方の感光液をコーティングロットにて乾燥後の塗布量が
３９／ｍ２ になるように塗布し、乾燥した。
感光液処方
メチルエチルケトン （４０ｍｌ）メ
タノール （４ｏ７）メチ
ルセロソルブ （２０彪）セルロー
スアセテートプロピオ−＋−） （６，ｏ、
９）スルホサリチル酸 （３０！
ｊ）ホ゛レート 得られたジアゾ型複写材料に原図を重ねて２裔の＾圧水
鍜灯で３０秒間露光し、アンモニアガスで現像するとセ
ピア色の画像が得られた。
タノール （４ｏ７）メチ
ルセロソルブ （２０彪）セルロー
スアセテートプロピオ−＋−） （６，ｏ、
９）スルホサリチル酸 （３０！
ｊ）ホ゛レート 得られたジアゾ型複写材料に原図を重ねて２裔の＾圧水
鍜灯で３０秒間露光し、アンモニアガスで現像するとセ
ピア色の画像が得られた。
得られた画像をマクベス濃度計（ＲＡＴＴＥＮｌｓＡフ
ィルター）にて濃度測定した結果、最内濃度 Ｄｍａｘ
”３．５、最小濃度 Ｄｍｉｎ ＝０．１５であり、
画像部の遮光性及び非画塚部の透明性に優れていた。更
に得られた画像をフェードメーターで１０時間露光して
耐候性を調べたが［Ｊｍ ａ Ｘ ＋Ｄｍｉｎに変化は
認められず、耐候性に優れていた。
ィルター）にて濃度測定した結果、最内濃度 Ｄｍａｘ
”３．５、最小濃度 Ｄｍｉｎ ＝０．１５であり、
画像部の遮光性及び非画塚部の透明性に優れていた。更
に得られた画像をフェードメーターで１０時間露光して
耐候性を調べたが［Ｊｍ ａ Ｘ ＋Ｄｍｉｎに変化は
認められず、耐候性に優れていた。
実施例−２
下記処方の感光液を用いた他は、実施例−１と同様な方
法でジアゾ感光材料を作成した。
法でジアゾ感光材料を作成した。
感光液処方
メチルエチルケトン （４ｏｍｇ）メタ
ノール （４０ｍｌ）メチルセ
ロソルブ （２０Ｔｎｌ）セルロース
アセテートプロピオネー） （６，１）スルホ
サリチル酸 （３０ｇ）得られたジア
ゾ型、複写材料を実施例−１の方法で露光し、現像し、
濃度を測定した結果、Ｄｍａｘ＝３４、Ｄｍｉｎ ＝
０．１６と高濃度のセピア色の１由百象が得られた。
ノール （４０ｍｌ）メチルセ
ロソルブ （２０Ｔｎｌ）セルロース
アセテートプロピオネー） （６，１）スルホ
サリチル酸 （３０ｇ）得られたジア
ゾ型、複写材料を実施例−１の方法で露光し、現像し、
濃度を測定した結果、Ｄｍａｘ＝３４、Ｄｍｉｎ ＝
０．１６と高濃度のセピア色の１由百象が得られた。
実施例−３゜
下記処方の感光液をセルローズトリアセテートフィルム
に乾燥後の塗布量が５ｇ／ｆｒＬ２になるように塗布し
、乾燥してジアゾ型複写材料を得た０ 感光液処方 アセトン （２０ｒＩＬｌりメタノ
ール （８０ｍ）酒 石 ｔｌ！
（４，０ｇ）チオ尿素
（’１．０ｇ）４−ジエチルアミ
ノにンゼン ンアゾニウムテトラフルオロボレー１− （３，５９
）得られたジアゾ型複写材料を実施例−１の方法で露光
し、現像したところ、菌濃度のセピア色の画像が得られ
た。
に乾燥後の塗布量が５ｇ／ｆｒＬ２になるように塗布し
、乾燥してジアゾ型複写材料を得た０ 感光液処方 アセトン （２０ｒＩＬｌりメタノ
ール （８０ｍ）酒 石 ｔｌ！
（４，０ｇ）チオ尿素
（’１．０ｇ）４−ジエチルアミ
ノにンゼン ンアゾニウムテトラフルオロボレー１− （３，５９
）得られたジアゾ型複写材料を実施例−１の方法で露光
し、現像したところ、菌濃度のセピア色の画像が得られ
た。
実施例−４゜
下記処方の感光液を厚手のトレーシングペーパーに塗布
し１、乾燥してジアゾ型複写材料を得た０ 感光液処方 水 （８０ｍ
Ａ）イソプロピルアルコール （２０ｍ
ｇ）酒石酸 （２，０１ 塩化亜鉛 （１，Ｑ、！ｉ’）得ら
れたジアゾ型複写材料に原図を重ね合わせ、１２０Ｗの
螢光灯に約２０秒間露光した後、下記現像液を用いて現
像し、高濃厩のセピア色の画像を得た。
し１、乾燥してジアゾ型複写材料を得た０ 感光液処方 水 （８０ｍ
Ａ）イソプロピルアルコール （２０ｍ
ｇ）酒石酸 （２，０１ 塩化亜鉛 （１，Ｑ、！ｉ’）得ら
れたジアゾ型複写材料に原図を重ね合わせ、１２０Ｗの
螢光灯に約２０秒間露光した後、下記現像液を用いて現
像し、高濃厩のセピア色の画像を得た。
現 像 液
水 （１，０００ｍ
Ａ）炭酸カリウム （２０，！ｉ’）メタホウ
酸カリウム （３０，９）特許出願人 ダイセル化学工業株式会社
Ａ）炭酸カリウム （２０，！ｉ’）メタホウ
酸カリウム （３０，９）特許出願人 ダイセル化学工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ３ （式中、＆及び＆は置換又は非置換のアルキル基、オキ
シアルキル基、又はシクロアルキル基を表わすか、ある
いはＲｔ及びＲ２はそれが結合する窒素原子と共に形成
し得る複素環を、Ｒ３は水素原子、アルキル基、アルコ
キシ基又はハロゲン原子を、またＸはアニオンを示す。 ）で表わされるジアゾ化合物及び 一般式（Ｂ） （式中、＆は炭素原子数１〜６個のアルキレン基を示す
）で表わされるカプラーを含有することを特徴とするジ
アゾ型複写材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21141981A JPS58114028A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | ジアゾ型複写材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21141981A JPS58114028A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | ジアゾ型複写材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58114028A true JPS58114028A (ja) | 1983-07-07 |
Family
ID=16605638
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21141981A Pending JPS58114028A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | ジアゾ型複写材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58114028A (ja) |
-
1981
- 1981-12-28 JP JP21141981A patent/JPS58114028A/ja active Pending
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| LIGHT SENSITIVE SYSTEMS CHEMISTRY AND APPLICATION OF NONS IVER HALIDE PHOTOGRAPHIC PROCESSES * |
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