JPS58111920A - 液晶表示素子及びその製造方法 - Google Patents
液晶表示素子及びその製造方法Info
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- JPS58111920A JPS58111920A JP56210953A JP21095381A JPS58111920A JP S58111920 A JPS58111920 A JP S58111920A JP 56210953 A JP56210953 A JP 56210953A JP 21095381 A JP21095381 A JP 21095381A JP S58111920 A JPS58111920 A JP S58111920A
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- polymer film
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133345—Insulating layers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高分子フィルムを基板とする液晶表示素子に係
り、特に基板の接着が良好が液晶表示素子及びその製造
方法に関する。
り、特に基板の接着が良好が液晶表示素子及びその製造
方法に関する。
第１図に従来の液晶表示素子の構造を示す。第１図（ａ
）は平面図、第１図（ｂ）は第１図（ａ）のＡ−Ａ’断
面図である。
）は平面図、第１図（ｂ）は第１図（ａ）のＡ−Ａ’断
面図である。
同図に於いて、ｌａ、ｌｂは高分子フィルムでポリエス
テルフィルムの基板、２ｍ、２ｂは基板ｌａ、ｌｂの対
向面に設すら、、れるＩ”ｚＯｓｗ８ｎＯｘ等の透明導
電膜の電極、３は電極２ｍ、２ｂと外部回路との接続に
用いられる電極端子、４は配向膜、５は基板１ａ、ｌｂ
の周辺を接着するエポキシ系の接着剤、６は基板１ａ、
ｌｂ間に封入された液晶である。
テルフィルムの基板、２ｍ、２ｂは基板ｌａ、ｌｂの対
向面に設すら、、れるＩ”ｚＯｓｗ８ｎＯｘ等の透明導
電膜の電極、３は電極２ｍ、２ｂと外部回路との接続に
用いられる電極端子、４は配向膜、５は基板１ａ、ｌｂ
の周辺を接着するエポキシ系の接着剤、６は基板１ａ、
ｌｂ間に封入された液晶である。
液晶は極性が強いので、高分子フィルムは耐液晶性の良
いものが選ばれる。
いものが選ばれる。
基板１ａ、ｌｂが高分子フィルムである場合、その可視
性のために応力が集中するので基板１１゜１ｂの周辺を
強固に接着する必要がある。その接着法として、 （１）溶剤で高分子フィルムの接着面を部分的に溶解し
て接着する方法 （２）第１図に示す様な、エポキシ系等の接着剤によっ
て接着する方法 （３）接着面を表面処理して、接着剤で接着する方法（
例えばニブラスチックフィルム−加工と応用−１技報堂
出版社） 等が従来から知られている。ところが、（１）、伐）の
方法では接着強度が不充分であり、また、（３）の方法
では、接着力は向上するが、表面が白濁して透明性を損
い、表示品質が低下するという欠点があった。
性のために応力が集中するので基板１１゜１ｂの周辺を
強固に接着する必要がある。その接着法として、 （１）溶剤で高分子フィルムの接着面を部分的に溶解し
て接着する方法 （２）第１図に示す様な、エポキシ系等の接着剤によっ
て接着する方法 （３）接着面を表面処理して、接着剤で接着する方法（
例えばニブラスチックフィルム−加工と応用−１技報堂
出版社） 等が従来から知られている。ところが、（１）、伐）の
方法では接着強度が不充分であり、また、（３）の方法
では、接着力は向上するが、表面が白濁して透明性を損
い、表示品質が低下するという欠点があった。
本発明の目的は、上記欠点を除去し、高分子フィルムを
基板とする液晶表示素子に於いて、基板の接着強度を高
め、かつ、基板の透明性を損わない液晶表示素子及びそ
の製造方法を提供することにある。
基板とする液晶表示素子に於いて、基板の接着強度を高
め、かつ、基板の透明性を損わない液晶表示素子及びそ
の製造方法を提供することにある。
上記目的を達成する本発明の特徴とするところは、対向
面に任意の光示パターンの透明導電膜がそれぞれ設けら
れる一対の高分子フィルムより成る基板間に液晶が保持
され、該一対の基板の周辺部を接着剤によって接着され
ているものに於いて、少なくとも一方の上記高分子フィ
ルムの少なくとも対向面には強アルカリまたは酸の化学
処理を施し、かつ高分子膜を被着し、上記透明導電膜は
上記高分子膜を介して上記高分子フィルムの対向面に設
けられ、上記基板の少なくとも対向面には配向膜が被着
されていることにある。
面に任意の光示パターンの透明導電膜がそれぞれ設けら
れる一対の高分子フィルムより成る基板間に液晶が保持
され、該一対の基板の周辺部を接着剤によって接着され
ているものに於いて、少なくとも一方の上記高分子フィ
ルムの少なくとも対向面には強アルカリまたは酸の化学
処理を施し、かつ高分子膜を被着し、上記透明導電膜は
上記高分子膜を介して上記高分子フィルムの対向面に設
けられ、上記基板の少なくとも対向面には配向膜が被着
されていることにある。
本発明は本発明者等が実験的に見い出した以下の実験事
実に基づくものである。
実に基づくものである。
厚−ｇｌ ００μｍのポリエステルフィルムを任意の濃
度及び温度のＮａＯＨ水溶液に任意の時間、浸漬し、そ
の後、約５分間水洗する。そして、塩化第１スズ（Ｓｎ
Ｃ６）水溶液に約５秒間浸漬し、これを充分水洗したの
ち乾燥する。
度及び温度のＮａＯＨ水溶液に任意の時間、浸漬し、そ
の後、約５分間水洗する。そして、塩化第１スズ（Ｓｎ
Ｃ６）水溶液に約５秒間浸漬し、これを充分水洗したの
ち乾燥する。
このような化学処理ポリエステルフィルム２枚をポリエ
ステル系接着剤で貼シ合わせて、１２０Ｃで短時間、加
熱硬化したのち、接着力をＪＩＳ法によるＴはくり強度
で測定した。その結果を第２図から第４図に示す。いず
れの図に於いて、化学処理をしていない場合のＴはくり
強度を１（破！（ａ））とし九相対的な強度を示し、ｔ
た、■ではポリエステルフィルムが破断し九ことを示し
ている。
ステル系接着剤で貼シ合わせて、１２０Ｃで短時間、加
熱硬化したのち、接着力をＪＩＳ法によるＴはくり強度
で測定した。その結果を第２図から第４図に示す。いず
れの図に於いて、化学処理をしていない場合のＴはくり
強度を１（破！（ａ））とし九相対的な強度を示し、ｔ
た、■ではポリエステルフィルムが破断し九ことを示し
ている。
第２図は、濃度２Ｑｗｔ％のＮａＯＨ水溶液を用い、処
理時間１分とした場合の処理温度とＴはくり強度との関
係を示す図であり、処理温度が高いもの程、接着強度が
向上することがわかる。
理時間１分とした場合の処理温度とＴはくり強度との関
係を示す図であり、処理温度が高いもの程、接着強度が
向上することがわかる。
第３図は、処理温度８０Ｃ，＠適時間１分とじ九場合の
、ＮａＯＨ水溶液の濃度とＴはくシ強度との関係を示す
図であり、ＮａＯＨ水溶液の濃度が高いもの程、接着強
度が向上することがわかる。
、ＮａＯＨ水溶液の濃度とＴはくシ強度との関係を示す
図であり、ＮａＯＨ水溶液の濃度が高いもの程、接着強
度が向上することがわかる。
第４図は、濃度２０ｗｔ％のＮａＯＨ水溶液を用い、処
理温度８０Ｃとした場合の、処理時間とＴは〈９強度と
の関係を示す図でＩ！＋、処理時間が長い程、接着強度
が向上することがわかる。
理温度８０Ｃとした場合の、処理時間とＴは〈９強度と
の関係を示す図でＩ！＋、処理時間が長い程、接着強度
が向上することがわかる。
第２図から第４図よシ、ＮａＯＨ水溶液の濃度１０〜２
Ｑｗｔ％、処理温［６０〜５ＯＣ１処理時間約１分位の
条件が、実用範囲として好ましいことがわかる。
Ｑｗｔ％、処理温［６０〜５ＯＣ１処理時間約１分位の
条件が、実用範囲として好ましいことがわかる。
このようなポリエステルフィルムの化学処理剤としては
、Ｎ暑０Ｈｆｆけでなく、ＫＯＨ，ＬｉＯＨなどの他の
強アルカリ、重クロム酸などの酸化剤を用いても同様の
効果がおる。また、接着剤としてポリエステル系以外に
エポキシ系でも同様な効果が得られた。
、Ｎ暑０Ｈｆｆけでなく、ＫＯＨ，ＬｉＯＨなどの他の
強アルカリ、重クロム酸などの酸化剤を用いても同様の
効果がおる。また、接着剤としてポリエステル系以外に
エポキシ系でも同様な効果が得られた。
これらの結果は、化学処理によって安定なポリエステル
フィルム表面が活性化することが原因であると考えられ
る。
フィルム表面が活性化することが原因であると考えられ
る。
一方、このような化学処理によってポリエステルフィル
ム表面に微細な凹凸が出来るために、白濁し、光透過率
が低下する。しかも、この白濁現象は化学処理面全面に
均一に起らずに、じみが入つだように局部的に見ると濃
淡が現われるので、光学素子としての品質を著しく損う
ことになる。
ム表面に微細な凹凸が出来るために、白濁し、光透過率
が低下する。しかも、この白濁現象は化学処理面全面に
均一に起らずに、じみが入つだように局部的に見ると濃
淡が現われるので、光学素子としての品質を著しく損う
ことになる。
そのために、ポリエステルフィルム白濁防止用に厚さ１
μｍ以下の高分子膜を化学処理面に塗布硬化することに
よって、白濁を防止し、光透過率の低下を防止できるこ
とが判明した。
μｍ以下の高分子膜を化学処理面に塗布硬化することに
よって、白濁を防止し、光透過率の低下を防止できるこ
とが判明した。
第５図は、濃度２０ｗｔ％のＮａＯＨ水溶液を用い、処
理温度８０Ｃと−した場合の、処理時間と光透過率及び
濁度との関係を示す図である。同図に於いて、実線ａ、
破線すは上記条件で化学処理したままのポリエステルフ
ィルムの光透過率、濁度を示し、実線ａ／、破線ｂ′は
、上記条件で処理したのち、溶剤Ｋ１０％溶解している
ポリアミド樹脂をスプレー法によって化学処理面に均一
に吹き付け、１２０Ｃで数分間乾燥したポリエステルフ
ィルムの光透過率、３、ｇ４度を示している。同図によ
レバ、ポリエステルフィルムの化学処理面に高分子膜で
あるポリアミド樹脂を極めて薄く被着することによって
、白濁を防止し、光透過率の低下を防止できることがわ
かる。
理温度８０Ｃと−した場合の、処理時間と光透過率及び
濁度との関係を示す図である。同図に於いて、実線ａ、
破線すは上記条件で化学処理したままのポリエステルフ
ィルムの光透過率、濁度を示し、実線ａ／、破線ｂ′は
、上記条件で処理したのち、溶剤Ｋ１０％溶解している
ポリアミド樹脂をスプレー法によって化学処理面に均一
に吹き付け、１２０Ｃで数分間乾燥したポリエステルフ
ィルムの光透過率、３、ｇ４度を示している。同図によ
レバ、ポリエステルフィルムの化学処理面に高分子膜で
あるポリアミド樹脂を極めて薄く被着することによって
、白濁を防止し、光透過率の低下を防止できることがわ
かる。
また、ポリエステルフィルムの化学処理面に高分子膜を
極めて薄く被着しても、接着強度は殆ど低下しないこと
も判明した。これは、高分子膜が極めて薄いために、表
面にかなりのピンホールがあシ、この部分に接着剤が入
り込むためと思われる。。
極めて薄く被着しても、接着強度は殆ど低下しないこと
も判明した。これは、高分子膜が極めて薄いために、表
面にかなりのピンホールがあシ、この部分に接着剤が入
り込むためと思われる。。
この様な高分子膜としては、ポリアミド樹脂の他に、ポ
リイミド、ポリアクリルニトリル、ポリビニルアルコー
ル等も好適に用いることができる。
リイミド、ポリアクリルニトリル、ポリビニルアルコー
ル等も好適に用いることができる。
好ましくは、基板として用いるポリエステルフィルムの
光学屈折率（約１．６５）Ｋ近いものが良く、その範囲
が±２０％であれば、充分目的を達成しえることが判明
し九。
光学屈折率（約１．６５）Ｋ近いものが良く、その範囲
が±２０％であれば、充分目的を達成しえることが判明
し九。
次に本発明の第１の実施例を第６図から第１３図を用い
て説明する。
て説明する。
厚さ１００μｍのポリエステルフィルム７の主表面の一
方にポリエステル系粘着剤８でポリエチレンフィルム９
を粘着して基板１０を形成する。
方にポリエステル系粘着剤８でポリエチレンフィルム９
を粘着して基板１０を形成する。
（第６図）
ポリエチレンフィルム９は、ボ“リエステルフイルム７
の非接着面を保換するために、化学的に安定なものであ
るが、特に必要とするものではない。
の非接着面を保換するために、化学的に安定なものであ
るが、特に必要とするものではない。
但し、ポリエチレンフィルム９がない場合には、ポリエ
ステルフィルム７の両生表面が化学処理されるので、濁
度、光透過率が低下する。また、ポリエチレンフィルム
９は化学処理を施した後なら、いつでも取り除いて良い
。
ステルフィルム７の両生表面が化学処理されるので、濁
度、光透過率が低下する。また、ポリエチレンフィルム
９は化学処理を施した後なら、いつでも取り除いて良い
。
次に、基板１０を濃度２０ｗｔ％、温度８０ｔｌｌ’の
ＮａＯＨ水溶液に約１分間浸漬し、ついでこれを約５分
間水洗し、塩化第１スズ１％水溶液に約５秒間浸し、再
度水洗ｊるｉ、ポリエチレンフィルム９で保躾されてい
ない方のポリエステルフィルム７の主表面は、微細な凹
凸１１が形成される。
ＮａＯＨ水溶液に約１分間浸漬し、ついでこれを約５分
間水洗し、塩化第１スズ１％水溶液に約５秒間浸し、再
度水洗ｊるｉ、ポリエチレンフィルム９で保躾されてい
ない方のポリエステルフィルム７の主表面は、微細な凹
凸１１が形成される。
（第７図）
この化学処理面に溶剤で稀釈したポリアミド樹脂をスプ
レーによって吹きつけ、１２０Ｃ，２０分間加熱乾燥し
て、厚さ０．５μｍのボリアミド膜１６゛を′形成する
。（第８図） その後、ポリアミド膜１６上に公知の方法でＩ ”２０
３ ＋ ８ ｎＱ ｘ等の厚さ４００人〜５００Ａの透
明導電膜１２を設ける。（第９図） この透明導電膜１２を公知のフォトエツチング技術で、
任意の宍示パターンの透明導電膜１３を形成する。（第
１０図） さらに電極形成面に、印刷法によって厚さ８００人〜１
０００人のポリアミドの配向膜２２を形成する。（第１
１図） 次に、ポリエチレンフィルム９を剥した後、２枚の基板
１０ａ、１０ｂを透明導電膜１３が設けられている主表
面が約１０μｍの間隙で対向するように、無機質のスペ
ーサ１７を介して重ね、基板１０ａ、１０ｂの周辺部を
ポリエステル系またはエポキシ系の接着剤１８で接着す
る。基板１０ａ。
レーによって吹きつけ、１２０Ｃ，２０分間加熱乾燥し
て、厚さ０．５μｍのボリアミド膜１６゛を′形成する
。（第８図） その後、ポリアミド膜１６上に公知の方法でＩ ”２０
３ ＋ ８ ｎＱ ｘ等の厚さ４００人〜５００Ａの透
明導電膜１２を設ける。（第９図） この透明導電膜１２を公知のフォトエツチング技術で、
任意の宍示パターンの透明導電膜１３を形成する。（第
１０図） さらに電極形成面に、印刷法によって厚さ８００人〜１
０００人のポリアミドの配向膜２２を形成する。（第１
１図） 次に、ポリエチレンフィルム９を剥した後、２枚の基板
１０ａ、１０ｂを透明導電膜１３が設けられている主表
面が約１０μｍの間隙で対向するように、無機質のスペ
ーサ１７を介して重ね、基板１０ａ、１０ｂの周辺部を
ポリエステル系またはエポキシ系の接着剤１８で接着す
る。基板１０ａ。
１０ｂの接着部のうち電極端子１４を取出さない辺の一
つに封入口１９を設けて、ここから液晶２０を注入した
のち、封入口１９を熱融着で封じ、液晶表示素子２１を
完成さ、せる。（第１２図（断面図）、第１３図（平面
図）） 本実施例によれば、ポリエステルフィルムの接着面に化
学処理が施されるので、基板の接着強度が高くなり、さ
らに、化学処理面に高分子膜で奢るポリアミド膜１６が
設けられるので、基板の透明性を損うことはない。
つに封入口１９を設けて、ここから液晶２０を注入した
のち、封入口１９を熱融着で封じ、液晶表示素子２１を
完成さ、せる。（第１２図（断面図）、第１３図（平面
図）） 本実施例によれば、ポリエステルフィルムの接着面に化
学処理が施されるので、基板の接着強度が高くなり、さ
らに、化学処理面に高分子膜で奢るポリアミド膜１６が
設けられるので、基板の透明性を損うことはない。
次に本発明の第２の実施例を第１４図と第１５図を用い
て説８．Ｅｌする。
て説８．Ｅｌする。
本実施例に於いて、第１の実施例の第６図から第７図ま
では同じであるので省略する。
では同じであるので省略する。
本実施例の第１４図では、基板１０の接着部にはポリア
ミド膜１６を形成せず、第１５図に示すように、ポリエ
ステルフィルム７ａ、７ｂをポリエステル系接着剤１８
で直接接着する。以下の工程は第１の実施例と同じ碌の
で省略する。
ミド膜１６を形成せず、第１５図に示すように、ポリエ
ステルフィルム７ａ、７ｂをポリエステル系接着剤１８
で直接接着する。以下の工程は第１の実施例と同じ碌の
で省略する。
本実施例によれば、基板１０ａ、１０ｂの接着部にはポ
リアミド膜１６が形成されていないので、接着強度がさ
らに向上する。
リアミド膜１６が形成されていないので、接着強度がさ
らに向上する。
同、本発明の２つの実施例に於いては、高分子フィルム
としてポリエステルフィルム７を例にとって説明したが
、接着剤との接着強度が弱い高分子フィルムであれば、
本発明は適用で睡る。
としてポリエステルフィルム７を例にとって説明したが
、接着剤との接着強度が弱い高分子フィルムであれば、
本発明は適用で睡る。
また、前述したように、高分子膜としては、ポリアミド
樹脂の他に、ポリイミド、ポリアクリルニトリル、ポリ
ビニルアルコール等も好適に用いることができる。
樹脂の他に、ポリイミド、ポリアクリルニトリル、ポリ
ビニルアルコール等も好適に用いることができる。
以上述べえように本発明によれば、高分子フィルムを基
板とする液晶表示素子に於いて、基板の接着強度を高め
、かつ、基板の透明性を損わない液晶表示素子及びその
製造方法を得ることかで糎る。
板とする液晶表示素子に於いて、基板の接着強度を高め
、かつ、基板の透明性を損わない液晶表示素子及びその
製造方法を得ることかで糎る。
第１図は従来の液晶表示素子の平面図及び断面図、第２
図から第５図は本発明の原理、効果を説明する図、第６
図から第１３図は本発明の第１の実施例を示す断面図及
び平面図、第１４図及び第１５図は本発明の第２の実施
例を示す断面図及び平面図である。 ７・・・ポリエステルフィルム、１６・・・ポリアミド
膜、１８・・・接着剤、１３・・・透明導電膜。 代理人 弁理士 高橋明夫 ９ 子 ７１１ 第 ２ 胆 蒸３図 第 ４ 図 処 理 時 向 ０分） 参 １３ 目 ０ｅ 第１頁の続き ０発 明 者 中野文雄 日立市幸町３丁目１番１号株式 ％式％ 日立市幸町３丁目１番１号株式 会社日立製作所日立研究所内 の発 明 者 本荘浩 日立市幸町３丁目１番１号株式 ％式％ 日立市幸町３丁目１番１号株式 会社日立製作所日立研究所内
図から第５図は本発明の原理、効果を説明する図、第６
図から第１３図は本発明の第１の実施例を示す断面図及
び平面図、第１４図及び第１５図は本発明の第２の実施
例を示す断面図及び平面図である。 ７・・・ポリエステルフィルム、１６・・・ポリアミド
膜、１８・・・接着剤、１３・・・透明導電膜。 代理人 弁理士 高橋明夫 ９ 子 ７１１ 第 ２ 胆 蒸３図 第 ４ 図 処 理 時 向 ０分） 参 １３ 目 ０ｅ 第１頁の続き ０発 明 者 中野文雄 日立市幸町３丁目１番１号株式 ％式％ 日立市幸町３丁目１番１号株式 会社日立製作所日立研究所内 の発 明 者 本荘浩 日立市幸町３丁目１番１号株式 ％式％ 日立市幸町３丁目１番１号株式 会社日立製作所日立研究所内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、対向面に任意の表示パター／の透明導電膜がそれぞ
れ設けられる一対の高分子フィルムより成る基板間に液
晶が保持され、該一対の基板の周辺部を接着剤によって
接着されているものに於いて、少なくとも一方の上記高
分子フ゛イルムの少なくとも対向面には強アルカリまた
は酸の化学処理を施し、かつ高分子膜を被着し、上記透
明導電膜は上記高分子膜を介して上記高分子フィルムＱ
対向面に設けられ、上記基板の少なくとも対向面には配
向膜が被着されていることを特徴とする液晶表示素子。 ２、特許請求の範囲第１項に於いて、上記高分子膜の光
学屈折率が上記高分子フィルムの光学屈折率の８０％〜
１２０％であることを特徴とする液晶表示素子。 ３、％許請求の範囲第１項または第２項に於いて、上記
高分子フィルムはポリエステルフィルムであることを特
徴とする液晶表示素子。 ４、高分子フィルムの少なくとも一方の主表面を強アル
カリまたは酸の化学処理を施し、上記一方の主表面に高
分子膜を被着し、上記一方の主表面に任意の表示パター
ンの透明導電膜を設け、咳透明導電膜が設けられた一方
の主表面に配向膜を被着して基板を形成し、一対の上記
基板の周辺部を、上記一対の基板が一定の間隙を有し、
かつそれぞれの上記一方の主表面が対向するように、接
着剤によって接着し、上記一定の間隙間に液晶を封入す
ることを％徴とする液晶表示素子の製造方法。 ５、％許請求の範囲第４項に於いて、強アルカリまたは
酸の化学処理は、濃度１０〜２Ｑｗｔ％のＮａＯＨ水溶
液による化学処理で、その処理温度は６０〜８０Ｃ１か
つ処理時間は約１分間であることを特徴とする液晶表示
素子の製造方法。 ６、％軒請求の範囲第４項または第５項に於いて、上記
高分子フィルムの他方の主表面にポリエチレンフィルム
を被着させ、強アルカリまたは酸の化学処理を施した後
、上記ポリエチレンフィルムを取り除くことを特徴とす
る液晶表示素子の製造方法。 ７、％許請求の範囲第４項、第５項または第６項に於い
て、上記高分子フィルムはポリエステルフィルムである
ことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56210953A JPS58111920A (ja) | 1981-12-25 | 1981-12-25 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
| GB08236379A GB2112541B (en) | 1981-12-25 | 1982-12-22 | Liquid crystal display panel and production method thereof |
| DE19823248137 DE3248137C2 (de) | 1981-12-25 | 1982-12-27 | Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56210953A JPS58111920A (ja) | 1981-12-25 | 1981-12-25 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58111920A true JPS58111920A (ja) | 1983-07-04 |
Family
ID=16597834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56210953A Pending JPS58111920A (ja) | 1981-12-25 | 1981-12-25 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58111920A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5448665A (en) * | 1991-09-16 | 1995-09-05 | British Telecommunications Public Limited Company | Wavelength-selective optical device utilizing a selectively variable surface acoustic wave grating in a polar organic material |
-
1981
- 1981-12-25 JP JP56210953A patent/JPS58111920A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5448665A (en) * | 1991-09-16 | 1995-09-05 | British Telecommunications Public Limited Company | Wavelength-selective optical device utilizing a selectively variable surface acoustic wave grating in a polar organic material |
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