JPS58101108A - キレ−ト形成基を有するフエノ−ル樹脂とその製造方法及び吸着処理方法 - Google Patents
キレ−ト形成基を有するフエノ−ル樹脂とその製造方法及び吸着処理方法Info
- Publication number
- JPS58101108A JPS58101108A JP20048381A JP20048381A JPS58101108A JP S58101108 A JPS58101108 A JP S58101108A JP 20048381 A JP20048381 A JP 20048381A JP 20048381 A JP20048381 A JP 20048381A JP S58101108 A JPS58101108 A JP S58101108A
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- Japan
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- carbon atoms
- hydrogen atom
- resin
- phenol
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ホウ素に対して特異的な吸着能を有する新規
なキレート形成基を有するフェノール樹11’1il(
以下フェノール系等し一ト樹脂という、)とその製造方
法及び吸着処理方法に関するものである。
なキレート形成基を有するフェノール樹11’1il(
以下フェノール系等し一ト樹脂という、)とその製造方
法及び吸着処理方法に関するものである。
*つ素は、タブータ数lX10−’で地球上に広(分布
しており、単体としては天然に存在していないが、土壌
、かん水中には申つ酸もしくはホウ酸イオンとして存在
し、また海水中にもメタホウ酸として4.6pp鳳の割
合で存在している。これがためtC,農業用水として利
用する場合や海水から採取した権化マグネVウム【原料
とするiグネV〉ム金属製錬などの産業分計においては
、微量に存在する*つ素が種々の解で弊害を及ぼす、ま
た。
しており、単体としては天然に存在していないが、土壌
、かん水中には申つ酸もしくはホウ酸イオンとして存在
し、また海水中にもメタホウ酸として4.6pp鳳の割
合で存在している。これがためtC,農業用水として利
用する場合や海水から採取した権化マグネVウム【原料
とするiグネV〉ム金属製錬などの産業分計においては
、微量に存在する*つ素が種々の解で弊害を及ぼす、ま
た。
ホウ素は熱中性子捕獲能にすぐれているため、原子力発
電所ICおける構造材料に用いられている。
電所ICおける構造材料に用いられている。
その構造材料や化学物質のホウ素含量は低濃度であるこ
とが必要である。さらに軽水炉加圧型反応器の一次冷却
水から微量の*つ酸を除夫するのに強塩基性イオン交換
樹脂が用いられている。しかしながら、これらの強樵晟
性イオン交換樹脂では。
とが必要である。さらに軽水炉加圧型反応器の一次冷却
水から微量の*つ酸を除夫するのに強塩基性イオン交換
樹脂が用いられている。しかしながら、これらの強樵晟
性イオン交換樹脂では。
申つ酸イオンl:賞して選択性がないので、11bのア
ニオンが共存すると傘つ素捕獲能は畳しく低下し。
ニオンが共存すると傘つ素捕獲能は畳しく低下し。
許容眼界(0,02ppm)以下にすることができない
。
。
一方、これまでに、ホウ素を選択的IC@着する樹脂と
しては、tl−ム・アンド・ハース社からアンバーツイ
トエRム−743の商品名で市販されてい6(4FW、
tば、トレイスーエレメンツス・イン・ザ・zンバイロ
メント(〒rao@Elements in th@E
nvi −ronm*nt ) 、 123号、1B
?−143頁、 197!S年参照)、この公知の吸着
剤は、ホウ素に対する選択性にはすぐれているが、スチ
v:/を樹脂母体としているため、II水性に乏しい欠
点を巨大網状化により補っているが、一般的に樹脂の機
械的強度に欠け、耐有機汚染性も不良で長期の使用に耐
えるものではない、また、高分子度広により配位子を樹
脂母体に導入するので、必要量以上cN−メチルーD−
グ〜カミンを消費し、かつ工程が複雑であるのでコスト
的にも問題がある。
しては、tl−ム・アンド・ハース社からアンバーツイ
トエRム−743の商品名で市販されてい6(4FW、
tば、トレイスーエレメンツス・イン・ザ・zンバイロ
メント(〒rao@Elements in th@E
nvi −ronm*nt ) 、 123号、1B
?−143頁、 197!S年参照)、この公知の吸着
剤は、ホウ素に対する選択性にはすぐれているが、スチ
v:/を樹脂母体としているため、II水性に乏しい欠
点を巨大網状化により補っているが、一般的に樹脂の機
械的強度に欠け、耐有機汚染性も不良で長期の使用に耐
えるものではない、また、高分子度広により配位子を樹
脂母体に導入するので、必要量以上cN−メチルーD−
グ〜カミンを消費し、かつ工程が複雑であるのでコスト
的にも問題がある。
本発明者は、これらの実状に鑑み、特に$9素に対して
すぐれた選択吸着能を有し、親水性で吸着速度が大キ<
9機械的強度及び耐有機汚染性にすぐれたキレート樹脂
を容易にしかも安価cIl造することを目的として鋭意
研究した結果、アミノゲラアルコール類を7エノール核
に導入した化合物を1IlaI化することにより、上記
の目的がすべて達成されることを見い出し、本発明を完
成した。
すぐれた選択吸着能を有し、親水性で吸着速度が大キ<
9機械的強度及び耐有機汚染性にすぐれたキレート樹脂
を容易にしかも安価cIl造することを目的として鋭意
研究した結果、アミノゲラアルコール類を7エノール核
に導入した化合物を1IlaI化することにより、上記
の目的がすべて達成されることを見い出し、本発明を完
成した。
すなわち9本発明は、フェノ−〜県勢し−ト樹Hにおい
て、キレート形成基としてフェノール核に下記式(りの
基を有することを特徴とするフェノ−〃系キレー)If
脂及びフェノ−A/I!# アルデヒド類及び一般式
(納 (但し、 R1は水素原子または炭素数1〜5のアルキ
ル基を表わす、) で示される化合物を反応させてフェノール核C一般式(
1) (但し、 R1は水素原子または炭素数1〜5のアルキ
ル基を表わす、) で示される甚が導入されたフェノール化合物を得得られ
たフェノール化合物と7エノール類及びアルデヒド類と
を重合触媒の存在下に重縮合して架橋三次元化すること
を特徴とするフェノール系キレート樹脂の製造方法並び
にかかるフェノ−〜系キレート樹脂を用いて、水溶液中
の重金属イオンを選択的に吸着することを特徴とする吸
着処理方法である。
て、キレート形成基としてフェノール核に下記式(りの
基を有することを特徴とするフェノ−〃系キレー)If
脂及びフェノ−A/I!# アルデヒド類及び一般式
(納 (但し、 R1は水素原子または炭素数1〜5のアルキ
ル基を表わす、) で示される化合物を反応させてフェノール核C一般式(
1) (但し、 R1は水素原子または炭素数1〜5のアルキ
ル基を表わす、) で示される甚が導入されたフェノール化合物を得得られ
たフェノール化合物と7エノール類及びアルデヒド類と
を重合触媒の存在下に重縮合して架橋三次元化すること
を特徴とするフェノール系キレート樹脂の製造方法並び
にかかるフェノ−〜系キレート樹脂を用いて、水溶液中
の重金属イオンを選択的に吸着することを特徴とする吸
着処理方法である。
本発明のフェノール系キレート樹脂は、キレート形成基
として式IDr)11&を有しており、その中で特に一
般式(」 (但し、R−は水素原子または炭素数1〜5の1ル等〜
基、Rs、丸は水素原子、水酸基、アミノ基または炭素
数1〜SのアルIIPル基を表わす、)で示されるフェ
ノール化合物、フェノ−N類及びアルデヒド類を架橋三
次元化した樹脂、一般式(至)(但し、RIは水素原子
または炭素数1〜5のアルキル基、R・、fbは水素原
子、水酸基、アミノ基または炭素数1−3のアA/キ〃
基を表わす、)で示されるフェノール化合物、フェノー
ル類及びアルデヒド類を架橋三次元化した樹脂が好まし
い。
として式IDr)11&を有しており、その中で特に一
般式(」 (但し、R−は水素原子または炭素数1〜5の1ル等〜
基、Rs、丸は水素原子、水酸基、アミノ基または炭素
数1〜SのアルIIPル基を表わす、)で示されるフェ
ノール化合物、フェノ−N類及びアルデヒド類を架橋三
次元化した樹脂、一般式(至)(但し、RIは水素原子
または炭素数1〜5のアルキル基、R・、fbは水素原
子、水酸基、アミノ基または炭素数1−3のアA/キ〃
基を表わす、)で示されるフェノール化合物、フェノー
ル類及びアルデヒド類を架橋三次元化した樹脂が好まし
い。
また、上記式(I)、 1K)及び(8)中のRtは水
素原子。
素原子。
メチル基が@Re、Raは水素原子が好ましく、上記式
(I)ないし間中のアルキ〃品は、直鎮状1分校状のい
ずれでもよい。
(I)ないし間中のアルキ〃品は、直鎮状1分校状のい
ずれでもよい。
本発明に用いる一般式(2)で示されるフェノ−ρ化合
物としては、たとえばトリス(kドロifVメチ〜)−
に−(2−ヒドロキシメチ5llL/)アミノメタン、
トリス(ヒドロキシメチル)−4−メチル−N−(2−
ヒドロキシベンジ#)アミノメタン、トリス(ヒト騨キ
VメチJ4/)−N−(a−ヒドロキシベンジ#)アミ
ノメタン、トリス(ヒドロキシメチル)−N−メチル−
N−(4−ヒドロキシベンジ/I/)アミノメタンが好
ましく、これらは単独もしくは混合して用いることがで
きる。
物としては、たとえばトリス(kドロifVメチ〜)−
に−(2−ヒドロキシメチ5llL/)アミノメタン、
トリス(ヒドロキシメチル)−4−メチル−N−(2−
ヒドロキシベンジ#)アミノメタン、トリス(ヒト騨キ
VメチJ4/)−N−(a−ヒドロキシベンジ#)アミ
ノメタン、トリス(ヒドロキシメチル)−N−メチル−
N−(4−ヒドロキシベンジ/I/)アミノメタンが好
ましく、これらは単独もしくは混合して用いることがで
きる。
本発明に用いる一般式(8)で示されるフェノール化合
物としては、たとえば、(1−ヒドロキレフェニレン−
2,6)−ビス−トリス(ヒドロキシメチ〜)アミノメ
タン、(1−ヒドロキレフェニレン−2,6)−ビス−
トリス(LドロキVノチk)−頁−メチルアミツメタン
、(1−tドロキVフェニレン−2,6)−ビス−トリ
ス(ヒドロキシメチA/)アミノメタン、(1−ζドロ
キシフェニレン−2,6)−ビス−トリス(ヒドロキシ
メチs/)−N−メチルアミツメタンがあげられる。
物としては、たとえば、(1−ヒドロキレフェニレン−
2,6)−ビス−トリス(ヒドロキシメチ〜)アミノメ
タン、(1−ヒドロキレフェニレン−2,6)−ビス−
トリス(LドロキVノチk)−頁−メチルアミツメタン
、(1−tドロキVフェニレン−2,6)−ビス−トリ
ス(ヒドロキシメチA/)アミノメタン、(1−ζドロ
キシフェニレン−2,6)−ビス−トリス(ヒドロキシ
メチs/)−N−メチルアミツメタンがあげられる。
本発明に用いる一般式(4)もしくは(至)で示される
フェノール化合物はたとえば、一般式(3)(但し、丸
は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基を表わす、
) で示されるトリス(ヒドロキレメチル)アミツメp:/
llとフェノール類及び傘ルマリンからマンニッヒ反応
により合成することができ、化学的安定性は非常にすぐ
れている。
フェノール化合物はたとえば、一般式(3)(但し、丸
は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基を表わす、
) で示されるトリス(ヒドロキレメチル)アミツメp:/
llとフェノール類及び傘ルマリンからマンニッヒ反応
により合成することができ、化学的安定性は非常にすぐ
れている。
本発明に用いられるフェノール類としては、たとえば、
フェノール、0−エチルフェノール。・鵬−エチルフェ
ノール・p−エチルフェノール・ビX 71 / −A
/ A・0−?レゾール・鳳−クレソール’p−クレゾ
ーA/ −2,3−キVレノール・2.5−キVレノー
ル@3.4−キVレノール・3.5−キシレン−〜など
のア〃キ〜置換フェノール、レゾルシン・カテコールな
どの争価フェノール、α−す7)−A/、 β−ナフ
ト−Nなどのフェノ−y注水酸基をもつ化合物であり、
これらは単独あるいは混合して用いることができるが、
なかでもフェノ−μ、ビスフェノーs/A、o−クレゾ
ール、m−クレゾール、p−クレゾール、S、S−1f
Vレノール、レゾルyン、カテコ一〜が好ましく、特に
フェノールが好ましい。
フェノール、0−エチルフェノール。・鵬−エチルフェ
ノール・p−エチルフェノール・ビX 71 / −A
/ A・0−?レゾール・鳳−クレソール’p−クレゾ
ーA/ −2,3−キVレノール・2.5−キVレノー
ル@3.4−キVレノール・3.5−キシレン−〜など
のア〃キ〜置換フェノール、レゾルシン・カテコールな
どの争価フェノール、α−す7)−A/、 β−ナフ
ト−Nなどのフェノ−y注水酸基をもつ化合物であり、
これらは単独あるいは混合して用いることができるが、
なかでもフェノ−μ、ビスフェノーs/A、o−クレゾ
ール、m−クレゾール、p−クレゾール、S、S−1f
Vレノール、レゾルyン、カテコ一〜が好ましく、特に
フェノールが好ましい。
本発明に用いられるアルデヒド類としては、たとえば、
中ルムア〃ダヒド、パフホ〃ムアルデとドウヘキサメチ
レンテトラ電ンなどのアルデヒド誘導体、アセトアルデ
ヒド、プロビオンアルデとドなどの脂肪族アルデ耽ド、
ベンズアルデヒドに代表される芳香族アルデヒド、フル
7ツールなどの異節環アルデヒドなどがあり、これらは
単独あホ〃ムアルデヒド、パラホ〃ムアルデヒド、ヘキ
サメチレンテトラミンが好ましい。
中ルムア〃ダヒド、パフホ〃ムアルデとドウヘキサメチ
レンテトラ電ンなどのアルデヒド誘導体、アセトアルデ
ヒド、プロビオンアルデとドなどの脂肪族アルデ耽ド、
ベンズアルデヒドに代表される芳香族アルデヒド、フル
7ツールなどの異節環アルデヒドなどがあり、これらは
単独あホ〃ムアルデヒド、パラホ〃ムアルデヒド、ヘキ
サメチレンテトラミンが好ましい。
本発明のフェノール系キレート樹脂は、たとえばトリス
(ヒドロキシメチs/)−)i−(2−ヒドロキVベン
ジ/L/)アミノメタンのようなフェノール化合物とフ
ェノ−p類及びアルダにド類を目的に応じてその仕込み
壁N比を調整して重縮合反応により樹脂化して製造する
ことができる。一般のフェノ−ulR脂ICおいては、
熱処理のみで硬化するレゾール樹脂、アルデヒドllI
を添加して加熱すると硬化するノボラック樹脂がよ(知
られているが9本発明のフェノール系キレート樹脂にお
いても1〜デtド類とフェノ−A/顕との壁N比の変更
によりレゾー〃型あるいはノポヲツク型の11脂を製造
することがでする。
(ヒドロキシメチs/)−)i−(2−ヒドロキVベン
ジ/L/)アミノメタンのようなフェノール化合物とフ
ェノ−p類及びアルダにド類を目的に応じてその仕込み
壁N比を調整して重縮合反応により樹脂化して製造する
ことができる。一般のフェノ−ulR脂ICおいては、
熱処理のみで硬化するレゾール樹脂、アルデヒドllI
を添加して加熱すると硬化するノボラック樹脂がよ(知
られているが9本発明のフェノール系キレート樹脂にお
いても1〜デtド類とフェノ−A/顕との壁N比の変更
によりレゾー〃型あるいはノポヲツク型の11脂を製造
することがでする。
一般式(目もしくは(8)で示されるフェノール化合物
とフェノ−A/llI及びアルデヒド類より本発明のフ
ェノール系キレート樹脂を製造するには、たとえば1次
の方法で製造することができる。まず第1段階として、
フェノール化合物とアルダしド類とを反応させる。その
際に、アルデヒド類を7工ノール化合物に対して、壁N
比で0.2 : 1〜2.0=II好ましくは0.8
: 1〜1.5 : 10割合で添加し2重合触媒を加
えて、20−90℃で1〜6時間、好ましくは50〜8
0Cで2〜4時間加熱攪拌する0次いで、第2段階とし
て、第1段階で得られた反応生成物にフェノール類を加
えて反応させる。【の際に、フェノール類をフェノール
化合物に対して、壁N比で0.1 : 1−f9.0
: 1.好ましくは0.5 : 1〜5.0 : 1の
割合で添加し。
とフェノ−A/llI及びアルデヒド類より本発明のフ
ェノール系キレート樹脂を製造するには、たとえば1次
の方法で製造することができる。まず第1段階として、
フェノール化合物とアルダしド類とを反応させる。その
際に、アルデヒド類を7工ノール化合物に対して、壁N
比で0.2 : 1〜2.0=II好ましくは0.8
: 1〜1.5 : 10割合で添加し2重合触媒を加
えて、20−90℃で1〜6時間、好ましくは50〜8
0Cで2〜4時間加熱攪拌する0次いで、第2段階とし
て、第1段階で得られた反応生成物にフェノール類を加
えて反応させる。【の際に、フェノール類をフェノール
化合物に対して、壁N比で0.1 : 1−f9.0
: 1.好ましくは0.5 : 1〜5.0 : 1の
割合で添加し。
25〜95℃で1〜6時間、好ましくは50〜90℃で
2〜4時間加熱攪拌する。さらに第3段階として、第2
段階で得られた反応生成物にアルデヒド類を加えて反応
させる。その際C,アアルしド類をフェノ−〜化合物に
対して、壁N比で1.0 : 1〜6.0 : 1 、
好ましくは2.0シ1〜5.0=1の割合で添加し、
1li4の形に成形加工したのち、60〜150℃、好
tL<は90〜130℃先加熱することにより容易に架
橋三次元化したフェノール系キレート樹脂を製造するこ
とができる。もちろん、従来公知の小球状フェノール系
キレート樹脂を製造する方法と全く同様な方法を用いて
。
2〜4時間加熱攪拌する。さらに第3段階として、第2
段階で得られた反応生成物にアルデヒド類を加えて反応
させる。その際C,アアルしド類をフェノ−〜化合物に
対して、壁N比で1.0 : 1〜6.0 : 1 、
好ましくは2.0シ1〜5.0=1の割合で添加し、
1li4の形に成形加工したのち、60〜150℃、好
tL<は90〜130℃先加熱することにより容易に架
橋三次元化したフェノール系キレート樹脂を製造するこ
とができる。もちろん、従来公知の小球状フェノール系
キレート樹脂を製造する方法と全く同様な方法を用いて
。
水と混合しない有機溶剤中でバール重結合することによ
り、造粒と架橋三次元とを同時に行って小#杖のフェノ
ール系キレート樹脂とすることができる。その際に用い
る有機溶媒としては、たとえば、四種化炭素、クロロホ
ルム、トリクロルエチレン、パークロルエチレン、クロ
フー〜、シタロルエチレン、ジクロルエタン、1.2−
ジタリルデロパンなどのハロゲン化脂肪族羨化水素IN
、タロ〜ベンゼン、o−slクロルベンゼン、p−ジク
ロルベンゼン、ブロムベンゼンなどのハロゲン化芳香族
次化水素類、ペンイン、トルエン、0−キシレン、鳳−
キVVン、p−キyレンなどの芳香族!’化水素JII
、 Fクーヘキチン、シクロプロパンなどの脂環式炭
化水素類、Vクロヘキtノール、νクロベン!ノーμな
どの環状1μコーI&/顕などがあげられる。パール重
縮合時の反応温度及び反応時間としては9反応生成物の
種類、溶媒の種類。
り、造粒と架橋三次元とを同時に行って小#杖のフェノ
ール系キレート樹脂とすることができる。その際に用い
る有機溶媒としては、たとえば、四種化炭素、クロロホ
ルム、トリクロルエチレン、パークロルエチレン、クロ
フー〜、シタロルエチレン、ジクロルエタン、1.2−
ジタリルデロパンなどのハロゲン化脂肪族羨化水素IN
、タロ〜ベンゼン、o−slクロルベンゼン、p−ジク
ロルベンゼン、ブロムベンゼンなどのハロゲン化芳香族
次化水素類、ペンイン、トルエン、0−キシレン、鳳−
キVVン、p−キyレンなどの芳香族!’化水素JII
、 Fクーヘキチン、シクロプロパンなどの脂環式炭
化水素類、Vクロヘキtノール、νクロベン!ノーμな
どの環状1μコーI&/顕などがあげられる。パール重
縮合時の反応温度及び反応時間としては9反応生成物の
種類、溶媒の種類。
その他の条件により必らずしも一定しないが1通常は6
0〜150cで1〜7時間、好ましくは90〜130℃
で2〜5時間の間を選択すればよいが。
0〜150cで1〜7時間、好ましくは90〜130℃
で2〜5時間の間を選択すればよいが。
できるだけ均一な組成の年し−)樹脂を得るためには1
重縮合反応の温度を20〜90℃に制御し。
重縮合反応の温度を20〜90℃に制御し。
次いで、徐々C昇温することが望ましい、最終的には、
90〜13i0cc保ち還流下で反応を進行させ、所望
の縮合段階に到れば、減圧あるいは常圧下で加熱するこ
とにより脱水し、目的とするs1脂組成物を得ることが
できる。
90〜13i0cc保ち還流下で反応を進行させ、所望
の縮合段階に到れば、減圧あるいは常圧下で加熱するこ
とにより脱水し、目的とするs1脂組成物を得ることが
できる。
また、前記したフェノール類と一般式(目もしくは(I
llで示されるフェノール化合物との混合比は。
llで示されるフェノール化合物との混合比は。
キレート樹脂の性能及び耐久性に影響するものであり、
フェノール類とフェノ−V化合物との比がモル比で0.
1 : 1より小さいと架橋三次元化が十分に進行せず
実用fc#えうる樹脂が得難くなり。
フェノール類とフェノ−V化合物との比がモル比で0.
1 : 1より小さいと架橋三次元化が十分に進行せず
実用fc#えうる樹脂が得難くなり。
他方、モル比が9.0 : 1を砿えると1本発明の目
で0.1 : 1〜9.0 二iの範FMEなるように
混合することが望ましいが、特CO,:5:1〜3.0
: 1の範囲になるようC混合することが好ましい。
で0.1 : 1〜9.0 二iの範FMEなるように
混合することが望ましいが、特CO,:5:1〜3.0
: 1の範囲になるようC混合することが好ましい。
前記した1〜319階の縮合反応を行うに際して用いら
れる重合触媒としては、たとえば、填拳。
れる重合触媒としては、たとえば、填拳。
硫酸、ホウ酸などの鉱酸類、ギ酸、Vユウfl、 )
リクロy酢酸、ジクロル酢酸、モノクロル酢管などの有
機酸類、ベンゼンスルホンIll、p−)配エンスル傘
ン拳などの芳香族スルホノ#II、 水II 化ナト
呼つム、水拳化カリウム、水酸化1チウムなどの金属水
酸化物類、アンモニア、トリエチルアミン、トリエチル
アミンなどのアミン類及びビ啼ジン、ピペリVン、ビペ
フνンなどの環状アミン類があげられる。これらは単腕
あるいは混合物として用いることができるが、吸着容量
が大キ(。
リクロy酢酸、ジクロル酢酸、モノクロル酢管などの有
機酸類、ベンゼンスルホンIll、p−)配エンスル傘
ン拳などの芳香族スルホノ#II、 水II 化ナト
呼つム、水拳化カリウム、水酸化1チウムなどの金属水
酸化物類、アンモニア、トリエチルアミン、トリエチル
アミンなどのアミン類及びビ啼ジン、ピペリVン、ビペ
フνンなどの環状アミン類があげられる。これらは単腕
あるいは混合物として用いることができるが、吸着容量
が大キ(。
かつホウ素、アンチモン、と素などに対して高い選択性
を有するフェノ−p系キレート樹脂t−製造するには、
アルカリ触媒の方が最適である。
を有するフェノ−p系キレート樹脂t−製造するには、
アルカリ触媒の方が最適である。
本発明のフェノール系キレート*aは、その赤外線吸収
スペクト〜が、 35QQc11−1及び11l10
0cI富付近において、水@基に基づ(特性吸収ピーク
を示すので、これによって同定することができる。
スペクト〜が、 35QQc11−1及び11l10
0cI富付近において、水@基に基づ(特性吸収ピーク
を示すので、これによって同定することができる。
また1元素分析値(N%)Cより、一般式(6)もしく
は+1mで示されるフェノール化合物のモル比を求める
ことができる。
は+1mで示されるフェノール化合物のモル比を求める
ことができる。
本発明のフェノール系キレート樹脂+脂は、ビーズ状、
粉末状、塊状、板状、膜状、*状、糸状等どのような形
態でも用いられるが9通常はビーズ状の5elTljが
用いられる。
粉末状、塊状、板状、膜状、*状、糸状等どのような形
態でも用いられるが9通常はビーズ状の5elTljが
用いられる。
本発明のフェノ−p系キレート樹脂は、金属イオン、特
にホウ素、アンチモン、と素に対してすぐれた捕捉効果
を示すので、全てのホウ素含有溶液、特に濃厚塩水中に
微量に存在するホウ酸もしくはホウ酸イオンを選択的に
吸着除夫することができる。
にホウ素、アンチモン、と素に対してすぐれた捕捉効果
を示すので、全てのホウ素含有溶液、特に濃厚塩水中に
微量に存在するホウ酸もしくはホウ酸イオンを選択的に
吸着除夫することができる。
本発明のフェノ−〜系キレート樹脂は、その形状に応じ
て種々の方法での使用が可能であり1例えばカフェ又は
塔に充填し、これにホウ素その他の金属含有液を通液す
るかあるいは本発明の樹脂を金属含有溶液中に浸漬する
などの方法で用いられる。この場合、m属含有溶液の温
度として5℃〜95℃の間が適当で、15℃〜5ocの
間が好ましく、金属イオンを樹脂(!l?触させる時間
として、1分〜50時間の間が適当で、10分〜2時間
の間が好ましい、また金属イオンを吸着した本発明の機
脂からの金属イオンの回収は、一般市暇のキレート横腹
やイオン交換樹脂と同じようr−鉱酸水帛液又はアルカ
リ性水溶液と接触させることにより容JIIc行われ、
また再生されたS1!脂は、何回もくり返し使用可能で
ある。
て種々の方法での使用が可能であり1例えばカフェ又は
塔に充填し、これにホウ素その他の金属含有液を通液す
るかあるいは本発明の樹脂を金属含有溶液中に浸漬する
などの方法で用いられる。この場合、m属含有溶液の温
度として5℃〜95℃の間が適当で、15℃〜5ocの
間が好ましく、金属イオンを樹脂(!l?触させる時間
として、1分〜50時間の間が適当で、10分〜2時間
の間が好ましい、また金属イオンを吸着した本発明の機
脂からの金属イオンの回収は、一般市暇のキレート横腹
やイオン交換樹脂と同じようr−鉱酸水帛液又はアルカ
リ性水溶液と接触させることにより容JIIc行われ、
また再生されたS1!脂は、何回もくり返し使用可能で
ある。
本発明のフェノール系キレート樹脂は以上詳述してきた
ように簡単な装造法で得られ、特殊金属捕捉効果、特に
ホウ素に対してすぐれた捕捉効果を示すものであり、ア
ミノ基な含有しているので弱塩基性イオン交換樹脂とし
て利用できる。しかも簡単な酸処理で何回でも再生使用
可能なものであるから実用的であり、今までのフェノー
ル系キレート樹脂とは異なる新しい用途に利用し得る新
規な鴫詣である。
ように簡単な装造法で得られ、特殊金属捕捉効果、特に
ホウ素に対してすぐれた捕捉効果を示すものであり、ア
ミノ基な含有しているので弱塩基性イオン交換樹脂とし
て利用できる。しかも簡単な酸処理で何回でも再生使用
可能なものであるから実用的であり、今までのフェノー
ル系キレート樹脂とは異なる新しい用途に利用し得る新
規な鴫詣である。
次に実施例により本発明をさらC具体的に説明する。な
お、′91施例中の優は重量%を表わす。
お、′91施例中の優は重量%を表わす。
実施例1
フェノ−5y27.7 f、 37 mホルマリン25
.9 F。
.9 F。
トリス(1:ドロキシメチ*)アミノメタン35.6−
及び水15−の混合液を70cで、3時間加熱攪拌して
、トリス(ヒト―キVメチル)−N−(ヒドロIfVベ
ンVル)アミノメタンなO−、m−a合物で、 46
.7−得た。このトリス(ヒドロキシメチ#)−に−(
kFロキVベンジル)アミバリン46.7 fに、so
%力令イソーダ水溶液27.5 fを冷却しながら徐々
に加え1次いで、57961kkマリン20.Ofを添
加し、70Cで2時間加熱攪拌した。得られた反応液を
50℃に冷却したのち。
及び水15−の混合液を70cで、3時間加熱攪拌して
、トリス(ヒト―キVメチル)−N−(ヒドロIfVベ
ンVル)アミノメタンなO−、m−a合物で、 46
.7−得た。このトリス(ヒドロキシメチ#)−に−(
kFロキVベンジル)アミバリン46.7 fに、so
%力令イソーダ水溶液27.5 fを冷却しながら徐々
に加え1次いで、57961kkマリン20.Ofを添
加し、70Cで2時間加熱攪拌した。得られた反応液を
50℃に冷却したのち。
フェノ−μ類として、フェノ−*11.6fとカテコー
〜9.Ogとを添加し、85℃〜90℃で2時間加熱攪
拌を続けた。さらにこの反応液を50℃に冷却し、
5796I#LA/Y 9 ン46.89を加エテ70
℃で2時間加熱攪拌したのち、30℃に冷却すると、粘
調な反応液が得られた。この反応液をクロルベンゼンを
溶剤として、常法によりバール重縮合を行うと、 7
5.Ofの小球状に架橋三次元化した樹脂が得られた。
〜9.Ogとを添加し、85℃〜90℃で2時間加熱攪
拌を続けた。さらにこの反応液を50℃に冷却し、
5796I#LA/Y 9 ン46.89を加エテ70
℃で2時間加熱攪拌したのち、30℃に冷却すると、粘
調な反応液が得られた。この反応液をクロルベンゼンを
溶剤として、常法によりバール重縮合を行うと、 7
5.Ofの小球状に架橋三次元化した樹脂が得られた。
この樹脂を水洗浄したのち、4.011堆鐙で中和し9
次いで4.011カセイソーダ水溶液で処理したのち、
フェノ−〜フタレインが無色を呈するまで十分に水洗処
理すると、黒褐色の樹脂となり、その含水率は43g6
であった。またこの黒褐色の樹脂を細かく粉砕し、乾燥
したものの赤外線吸収スベタ)ルは5500傷−亀及び
11003−を付近に水酸基に基づく特性吸収ピークを
示し1元素分析(II(に鵞)ヨリフェノ−〜類とトリ
ス(ヒドロIfs/メチル)−肩−(ヒドロキレベンジ
/&/)アミノメタンとのモル比は1 : 0.95で
あった。
次いで4.011カセイソーダ水溶液で処理したのち、
フェノ−〜フタレインが無色を呈するまで十分に水洗処
理すると、黒褐色の樹脂となり、その含水率は43g6
であった。またこの黒褐色の樹脂を細かく粉砕し、乾燥
したものの赤外線吸収スベタ)ルは5500傷−亀及び
11003−を付近に水酸基に基づく特性吸収ピークを
示し1元素分析(II(に鵞)ヨリフェノ−〜類とトリ
ス(ヒドロIfs/メチル)−肩−(ヒドロキレベンジ
/&/)アミノメタンとのモル比は1 : 0.95で
あった。
実施例2
フェノ−〜27.7炉、37%ホ〜マリン23.9 f
。
。
トリ、X(Wドロキシメチ、A/)−N−メチNアミノ
メタン56.3f及び水15gの混合液を80Cで2時
間加熱攪拌してトリス(ヒドロキシメチ〜)−N−メチ
μmN−(1:ドロキンベンν〜)アミノメタンな0
+、 −−1合物で53.59得た。二〇トツス(ヒ
ドロキシメチμ)−N−メチ〜−N−(とドロキyペン
V〜)アミノメタン55.59に22g6カ竜イソーダ
水溶液80,4 fを冷却しながら徐々に加えて1次い
で3711ホルマリン21.5−を添加し、70℃で2
時間加熱攪拌した。得られた反応液を50℃に冷却した
のち、レゾfi/Vン24.5 fを添加し、65℃〜
70℃で1時間加熱攪拌を続けた。この反応液を25C
r−冷却し、37%ホ〜マリンso、o tを加えて、
25℃で30分攪拌すると粘調な反応液が得られた。こ
の反応液をパーク−〜エチレンを溶剤として、常法によ
りl<−〜重縮合を行5とao、s tの小球状に架橋
二次元化した樹脂が得られた。
メタン56.3f及び水15gの混合液を80Cで2時
間加熱攪拌してトリス(ヒドロキシメチ〜)−N−メチ
μmN−(1:ドロキンベンν〜)アミノメタンな0
+、 −−1合物で53.59得た。二〇トツス(ヒ
ドロキシメチμ)−N−メチ〜−N−(とドロキyペン
V〜)アミノメタン55.59に22g6カ竜イソーダ
水溶液80,4 fを冷却しながら徐々に加えて1次い
で3711ホルマリン21.5−を添加し、70℃で2
時間加熱攪拌した。得られた反応液を50℃に冷却した
のち、レゾfi/Vン24.5 fを添加し、65℃〜
70℃で1時間加熱攪拌を続けた。この反応液を25C
r−冷却し、37%ホ〜マリンso、o tを加えて、
25℃で30分攪拌すると粘調な反応液が得られた。こ
の反応液をパーク−〜エチレンを溶剤として、常法によ
りl<−〜重縮合を行5とao、s tの小球状に架橋
二次元化した樹脂が得られた。
このm詣を実施例1と同様にして洗浄処理すると、黒褐
色の樹脂が得られ、その含水率ii48 %であった。
色の樹脂が得られ、その含水率ii48 %であった。
また、この黒褐色の樹脂を細かく粉砕し、乾燥したもの
の赤外線吸収スペクトμ番よ5sooa*−”及びl1
00m−’付近に水酸基に基づく特性吸収ピークを示し
1元素分析値(1111)よりレゾルシンとトリス(ヒ
ドロキVメf〜)−N−メチル−に−(1ドロキVベン
ジA/)アミノメタンとのモル比会よ1: 0.90で
あった。
の赤外線吸収スペクトμ番よ5sooa*−”及びl1
00m−’付近に水酸基に基づく特性吸収ピークを示し
1元素分析値(1111)よりレゾルシンとトリス(ヒ
ドロキVメf〜)−N−メチル−に−(1ドロキVベン
ジA/)アミノメタンとのモル比会よ1: 0.90で
あった。
実施例3
フェノ−〜27.7 f、 37%ネルマリン47.8
9゜トリス(ヒドロキシメチ*)−N−メチNアミノメ
タン72.6 #及び水309の混合液を80℃で2時
間加熱攪拌して(1−にドロキVフェニレン)−ビスー
トリス(ヒドロキシメチμ)−N−メチルアミノメタン
を2.4一体、2−6体の混合物で68.5 f得た。
9゜トリス(ヒドロキシメチ*)−N−メチNアミノメ
タン72.6 #及び水309の混合液を80℃で2時
間加熱攪拌して(1−にドロキVフェニレン)−ビスー
トリス(ヒドロキシメチμ)−N−メチルアミノメタン
を2.4一体、2−6体の混合物で68.5 f得た。
これIC22%カセイソーダ水溶液64.09を冷却し
ながら徐AeC加えて9次いで3796ホ〜マリン14
、iS fを添加し、71℃で2時間加熱攪拌した。
ながら徐AeC加えて9次いで3796ホ〜マリン14
、iS fを添加し、71℃で2時間加熱攪拌した。
得ら八た反応液を50℃に冷却したのち、レゾルシン1
9.4 fを添加し、45℃〜70℃で1時間加熱攪拌
を続けた。
9.4 fを添加し、45℃〜70℃で1時間加熱攪拌
を続けた。
この反応液を25℃に冷却し、57%ホルマリン45.
ローを加えて25Cで30分攪拌すると粘調な反応液が
得られた。この反応液をパークロルエチレンを溶剤とし
て常法によりパール重縮合を行うと、91.59の小球
状に架橋三次元化した樹脂が得られた。
ローを加えて25Cで30分攪拌すると粘調な反応液が
得られた。この反応液をパークロルエチレンを溶剤とし
て常法によりパール重縮合を行うと、91.59の小球
状に架橋三次元化した樹脂が得られた。
この樹脂を*施例1と同様にして洗浄処理すると、黄褐
色の樹脂が得られ、その含水率は60%であった。
色の樹脂が得られ、その含水率は60%であった。
また、この黒褐色のll1l脂を細たく粉砕し、屹燥し
たものの赤外線吸収スペクトルは5500c11−1及
び11001m−’付近に水酸基に基づく特性吸収ピー
クを示シ、しVtvyンと(1−ヒドロキレフェニレン
−ビス−トリス(s=VaキVメチ〜)−4−メチルア
ミツメタンとのモル比は1: O,Sであった。
たものの赤外線吸収スペクトルは5500c11−1及
び11001m−’付近に水酸基に基づく特性吸収ピー
クを示シ、しVtvyンと(1−ヒドロキレフェニレン
−ビス−トリス(s=VaキVメチ〜)−4−メチルア
ミツメタンとのモル比は1: O,Sであった。
実施例4〜6.比較例1〜2
実施例1〜3で得た温湿状態のフェノール系キレート樹
脂を用い、これを1.0−となるようにしてホウ素を含
有した濃厚マグネシウム水溶液50−に25℃下で浸漬
し、24時間振とう後の被処理液#cli4存するホウ
素濃度をクルクミン−V:Lつ酸洗(新実験化学講座、
9巻、九曽、 1975゜た。
脂を用い、これを1.0−となるようにしてホウ素を含
有した濃厚マグネシウム水溶液50−に25℃下で浸漬
し、24時間振とう後の被処理液#cli4存するホウ
素濃度をクルクミン−V:Lつ酸洗(新実験化学講座、
9巻、九曽、 1975゜た。
また、比較例として、市販の111樵基性イオン交換樹
脂ダイヤイオンSム−10ム(三菱化成製)及びアンバ
ーフィトXRA −743(a一本・アンド・八−ス社
Itりを同様にして測定した。
脂ダイヤイオンSム−10ム(三菱化成製)及びアンバ
ーフィトXRA −743(a一本・アンド・八−ス社
Itりを同様にして測定した。
その結果を表1に示す。
なお、被処理液である濃厚塩化1グネシクム水溶液の組
成は* (Mg61t : 120 fl/I +
B : 200q/j&tl T1龜BO*、
0.025 M KFi*POa −Li1PO
a (1: 4 )) 緩衝液、PH−7,6
>であった。
成は* (Mg61t : 120 fl/I +
B : 200q/j&tl T1龜BO*、
0.025 M KFi*POa −Li1PO
a (1: 4 )) 緩衝液、PH−7,6
>であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)年レート形成基を有するフェノール樹脂において
、キレート形成基としてフェノール被に下記式(I)の
基を有することを特徴とするキレート形成基を有するフ
ェノール樹脂。 (但し、R1は水素原子または炭素数1〜5のアルキル
基を表わす、) は)一般式ll0 (但し、 R1は水素原子または炭素数1〜5のγルキ
ル基、、R,,Reは水素原子、水酸基、アミノ基また
は炭素数1〜5のアルキル基を表わす。) で示されるフェノール化合物、フェノール類及びアルデ
虹ドJIIv架橋三次元化したものである特許請求の範
囲!1項記載の樹脂。 (3)一般式(2) (但し、 R1は水素原子または炭素数1〜5のアルキ
ル基=Rs、Rsは水素原子、水酸基、アミノ基または
炭素数1〜3のアルキル基を表わす、) で示されるフェノール化合物、フェノール類及びアルデ
ヒド類を架橋三次元化したものである特許請求の範囲第
1項記載の樹脂。 (4)フェノール類、アルデヒド類及び一般式(ト)(
但し、−は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基を
表わす、) で示される化合物を度広させてフェノール核に一般式(
I) (但し、 R1は水素原子または炭素数1〜5のアルキ
N基を表わす、) で示される基が導入されたフェノール化合物を得、得ら
れたフェノール化合物とフェノ−M類及びアVデとド類
とを重合触媒の存在下に重縮合して架橋三次元化するこ
とを特徴とするキレ−)形成基を有するフェノール樹脂
の製造方法。 (5)フェノール化合物が、一般式(」(但し、R亀は
水素原子または炭素数1〜5のアルキN基@ Rm@R
aは水素原子、水酸基、アミノ甚または炭素数1〜3の
アルキル基を表わす、) で示されるフェノール化合物である特許請求の範囲第4
項記載の製造方法。 (6)フェノール化合物が、一般式(3)(但し、R1
は水素原子または炭素数1〜5の7A/414/I R
J、RJ k1水素原子、 水酸基e 7ミノ基また
は炭素数1〜3のアルキル基を表わす、) で示されるフェノール化合物である特許請求の1ml!
第4項記載の製造方法。 (7)等レート形成基としてフェノール挾ニ下記式(D
の甚を有するキレート樹脂を用いて水解液中の金属イオ
ンを選択的に吸着することな特徴とする吸着処理方法。 R。 (但し、 R1は水素原子または炭素数1〜5のアルキ
N基を表わす、) (8)金属イオンが、傘つ素である特許請求の範囲第7
項記載の吸着処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20048381A JPS58101108A (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | キレ−ト形成基を有するフエノ−ル樹脂とその製造方法及び吸着処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20048381A JPS58101108A (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | キレ−ト形成基を有するフエノ−ル樹脂とその製造方法及び吸着処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58101108A true JPS58101108A (ja) | 1983-06-16 |
Family
ID=16425060
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20048381A Pending JPS58101108A (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | キレ−ト形成基を有するフエノ−ル樹脂とその製造方法及び吸着処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58101108A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4939229A (en) * | 1989-05-12 | 1990-07-03 | Rohm And Haas Company | Method for preparing lithographically sensitive branched novolaks using a mannich base intermediate |
WO1994008943A1 (en) * | 1992-10-21 | 1994-04-28 | Yoshitomi Pharmaceutical Industries, Ltd. | 2-amino-1,3-propanediol compound and immunosuppressant |
-
1981
- 1981-12-11 JP JP20048381A patent/JPS58101108A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4939229A (en) * | 1989-05-12 | 1990-07-03 | Rohm And Haas Company | Method for preparing lithographically sensitive branched novolaks using a mannich base intermediate |
WO1994008943A1 (en) * | 1992-10-21 | 1994-04-28 | Yoshitomi Pharmaceutical Industries, Ltd. | 2-amino-1,3-propanediol compound and immunosuppressant |
JP2579602B2 (ja) * | 1992-10-21 | 1997-02-05 | 吉富製薬株式会社 | 2−アミノ−1,3−プロパンジオール化合物および免疫抑制剤 |
US5604229A (en) * | 1992-10-21 | 1997-02-18 | Yoshitomi Pharmaceutical Industries, Ltd. | 2-amino-1,3-propanediol compound and immunosuppressant |
US5952316A (en) * | 1992-10-21 | 1999-09-14 | Yoshitomi Pharmaceutical Industries, Ltd. | 2-amino-1,3-propanediol compound and immunosuppressant |
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