JPH1196903A - ディスプレイ用パネルの製造方法 - Google Patents
ディスプレイ用パネルの製造方法Info
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- JPH1196903A JPH1196903A JP25882697A JP25882697A JPH1196903A JP H1196903 A JPH1196903 A JP H1196903A JP 25882697 A JP25882697 A JP 25882697A JP 25882697 A JP25882697 A JP 25882697A JP H1196903 A JPH1196903 A JP H1196903A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/42—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the shape of the moulding surface, e.g. ribs or grooves
- B29C33/424—Moulding surfaces provided with means for marking or patterning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ディスプレイ用パネルにおける放電溝形成の
ためのリブを効率良く、精密に形成することのできるデ
ィスプレイ用パネルの製造方法を実現すること。 【解決手段】 マスク１０を用いた露光プロセス、現像
プロセスによりリブと同形状の複数の隔壁２１を持つ原
型２０を作る第１の工程と、前記原型にめっき処理を施
した後、前記原型をめっき処理部３０から取り外して前
記めっき処理部をメス型の金型として製作する第２の工
程と、真空プレス成形により、加熱したガラスまたは樹
脂材料４２を前記めっき処理部の溝内に押し込み、冷却
後取り出してパネルパーツ５０を作る第３の工程とを含
む。
ためのリブを効率良く、精密に形成することのできるデ
ィスプレイ用パネルの製造方法を実現すること。 【解決手段】 マスク１０を用いた露光プロセス、現像
プロセスによりリブと同形状の複数の隔壁２１を持つ原
型２０を作る第１の工程と、前記原型にめっき処理を施
した後、前記原型をめっき処理部３０から取り外して前
記めっき処理部をメス型の金型として製作する第２の工
程と、真空プレス成形により、加熱したガラスまたは樹
脂材料４２を前記めっき処理部の溝内に押し込み、冷却
後取り出してパネルパーツ５０を作る第３の工程とを含
む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はディスプレイ用パネ
ルの製造方法に関し、特にプラズマディスプレイや電界
放出ディスプレイに適したディスプレイ用パネルの製造
方法に関する。
ルの製造方法に関し、特にプラズマディスプレイや電界
放出ディスプレイに適したディスプレイ用パネルの製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレイは、良く知られて
いるように、対向する電極間にＮｅ・Ａｒ，Ｎｅ・Ｘｅ
等のガスを封入し、電圧を印加することによって発生す
るガス放電を利用するものである。例えば、「プラズマ
ディスプレイ最前線」日債銀編、和泉著、１９９７年６
月発行に記載されているように、電極を保護するための
保護層を持つ構造のものはＡＣ型ＰＤＰと呼ばれ、電極
がむきだしになっている構造のものはＤＣ型ＰＤＰと呼
ばれている。また、ＤＣ型ＰＤＰでは、図３（ａ）に示
すように、放電セルを形成するための仕切りの役割を果
たすリブと呼ばれる隔壁をセル状に形成する。これに対
し、ＡＣ型ＰＤＰでは、図３（ｂ）に示すように、放電
セルを形成するためのリブをストライプ状に形成する。
これらのリブは、プラズマ放電の際、発光が隣の画素に
及ばないように作用するものである。なお、以下の説明
では、ＡＣ型ＰＤＰ、ＤＣ型ＰＤＰのいずれにおいても
リブによって形成されるセル空間を放電溝と呼ぶ。
いるように、対向する電極間にＮｅ・Ａｒ，Ｎｅ・Ｘｅ
等のガスを封入し、電圧を印加することによって発生す
るガス放電を利用するものである。例えば、「プラズマ
ディスプレイ最前線」日債銀編、和泉著、１９９７年６
月発行に記載されているように、電極を保護するための
保護層を持つ構造のものはＡＣ型ＰＤＰと呼ばれ、電極
がむきだしになっている構造のものはＤＣ型ＰＤＰと呼
ばれている。また、ＤＣ型ＰＤＰでは、図３（ａ）に示
すように、放電セルを形成するための仕切りの役割を果
たすリブと呼ばれる隔壁をセル状に形成する。これに対
し、ＡＣ型ＰＤＰでは、図３（ｂ）に示すように、放電
セルを形成するためのリブをストライプ状に形成する。
これらのリブは、プラズマ放電の際、発光が隣の画素に
及ばないように作用するものである。なお、以下の説明
では、ＡＣ型ＰＤＰ、ＤＣ型ＰＤＰのいずれにおいても
リブによって形成されるセル空間を放電溝と呼ぶ。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、放電溝を形
成するためのリブ形成方法としては、上記文献に示され
ているように、印刷法、（ドライフィルムフォトレ
ジスト＋サンドブラスト）法、フィルム状リブ材利用
法、アディティブ法がある。
成するためのリブ形成方法としては、上記文献に示され
ているように、印刷法、（ドライフィルムフォトレ
ジスト＋サンドブラスト）法、フィルム状リブ材利用
法、アディティブ法がある。
【０００４】しかしながら、上記のいずれの方法も製作
工数が多く、生産性が低いという問題点がある。また、
加工精度も低いため、歩留まりが悪く、リブ形成工程は
ディスプレイ生産工程の中で最も改良を要求されている
工程である。
工数が多く、生産性が低いという問題点がある。また、
加工精度も低いため、歩留まりが悪く、リブ形成工程は
ディスプレイ生産工程の中で最も改良を要求されている
工程である。
【０００５】そこで、本発明の課題は、ディスプレイ用
パネルにおける放電溝形成のためのリブを効率良く、精
密に形成することのできるディスプレイ用パネルの製造
方法を実現することにある。
パネルにおける放電溝形成のためのリブを効率良く、精
密に形成することのできるディスプレイ用パネルの製造
方法を実現することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、放電溝を形成
するための多数のリブを有するディスプレイ用パネルの
製造方法において、マスクを用いた露光プロセス、現像
プロセスにより前記リブと同形状の複数の隔壁を持つ原
型を作る第１の工程と、前記原型にめっき処理を施した
後、前記原型をめっき処理部から取り外して前記めっき
処理部をメス型の金型として製作する第２の工程と、真
空プレス成形により、加熱したパネル材料を前記金型に
押し込み、冷却後取り出してパネルパーツを作る第３の
工程とを含むことを特徴とする。
するための多数のリブを有するディスプレイ用パネルの
製造方法において、マスクを用いた露光プロセス、現像
プロセスにより前記リブと同形状の複数の隔壁を持つ原
型を作る第１の工程と、前記原型にめっき処理を施した
後、前記原型をめっき処理部から取り外して前記めっき
処理部をメス型の金型として製作する第２の工程と、真
空プレス成形により、加熱したパネル材料を前記金型に
押し込み、冷却後取り出してパネルパーツを作る第３の
工程とを含むことを特徴とする。
【０００７】更に、前記第３の工程を繰り返して前記パ
ネルパーツを多数形成し、複数の前記パネルパーツを組
み合わせてディスプレイ用パネルとすることができる。
ネルパーツを多数形成し、複数の前記パネルパーツを組
み合わせてディスプレイ用パネルとすることができる。
【０００８】なお、前記第１の工程は、前記リブの幅及
びピッチに対応する光透過パターンを持つマスクを介し
て基板上のレジスト材料に露光を行う露光工程と、前記
レジスト材料の露光された部分を除去する現像工程とか
らなる。
びピッチに対応する光透過パターンを持つマスクを介し
て基板上のレジスト材料に露光を行う露光工程と、前記
レジスト材料の露光された部分を除去する現像工程とか
らなる。
【０００９】また、前記露光工程は放射光により行うこ
とが好ましい。
とが好ましい。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下に、図１、図２を参照して、
本発明の好ましい実施の形態をプラズマディスプレイ用
パネルに適用する場合について説明する。図１（ａ）に
おいて、露光プロセスでは、プラズマディスプレイ用パ
ネルに形成されるリブの幅（５０〜１００ミクロン程
度）及びピッチ（２００ミクロン程度）に相当する透過
パターンを有するマスク１０を用いて、基板１１上に塗
布されたレジスト材料（感光性樹脂）（厚さ１００〜１
５０ミクロン程度）１２を露光する。
本発明の好ましい実施の形態をプラズマディスプレイ用
パネルに適用する場合について説明する。図１（ａ）に
おいて、露光プロセスでは、プラズマディスプレイ用パ
ネルに形成されるリブの幅（５０〜１００ミクロン程
度）及びピッチ（２００ミクロン程度）に相当する透過
パターンを有するマスク１０を用いて、基板１１上に塗
布されたレジスト材料（感光性樹脂）（厚さ１００〜１
５０ミクロン程度）１２を露光する。
【００１１】図１（ｂ）の現像プロセスでは、レジスト
材料１２の露光した部分を溶剤で溶かし、リブと同形状
の複数の隔壁２１を持つ原型２０を作る。
材料１２の露光した部分を溶剤で溶かし、リブと同形状
の複数の隔壁２１を持つ原型２０を作る。
【００１２】図１（ｃ）のめっきプロセスでは、原型２
０の表面全体にＮｉめっきを施してめっき処理部３０を
形成し、その後基板１１をめっき処理部３０から取り外
し、更にレジスト材料による隔壁２１については溶剤で
溶かして除去する。このようにして得られためっき処理
部３０をメス型の金型として用いるために、表面形状を
サンドブラスト等の研磨により精度良く仕上げる。上記
の露光、現像、めっき処理は、マイクロマシンの製造技
術において利用されている。
０の表面全体にＮｉめっきを施してめっき処理部３０を
形成し、その後基板１１をめっき処理部３０から取り外
し、更にレジスト材料による隔壁２１については溶剤で
溶かして除去する。このようにして得られためっき処理
部３０をメス型の金型として用いるために、表面形状を
サンドブラスト等の研磨により精度良く仕上げる。上記
の露光、現像、めっき処理は、マイクロマシンの製造技
術において利用されている。
【００１３】図１（ｄ）の真空プレス成形では、研磨さ
れためっき処理部３０を金型として真空プレス成形機の
真空チャンバ４０内の金型４１に装着し、パネルパーツ
となるガラスまたは樹脂材料４２を加熱ヒータ４３で加
熱して溶融状態にしたものを加圧プレス４４によりめっ
き処理部３０にプレス加圧してめっき処理部３０の溝内
に押し込む（図１（ｅ））。
れためっき処理部３０を金型として真空プレス成形機の
真空チャンバ４０内の金型４１に装着し、パネルパーツ
となるガラスまたは樹脂材料４２を加熱ヒータ４３で加
熱して溶融状態にしたものを加圧プレス４４によりめっ
き処理部３０にプレス加圧してめっき処理部３０の溝内
に押し込む（図１（ｅ））。
【００１４】この際、真空チャンバ４０内を真空引きし
てめっき処理部３０の溝内の空気を除去してボイド等の
欠陥ができるのを防止する。加熱ヒータ４３による加熱
は、ガラスまたは樹脂材料４２を加圧プレス４４に装着
した後に行い、十分温度が上昇して材料の流動性が増し
た時点で加圧プレス４４を下降させてガラスまたは樹脂
材料４２をめっき処理部３０の溝内に押し込む。
てめっき処理部３０の溝内の空気を除去してボイド等の
欠陥ができるのを防止する。加熱ヒータ４３による加熱
は、ガラスまたは樹脂材料４２を加圧プレス４４に装着
した後に行い、十分温度が上昇して材料の流動性が増し
た時点で加圧プレス４４を下降させてガラスまたは樹脂
材料４２をめっき処理部３０の溝内に押し込む。
【００１５】ガラスまたは樹脂材料４２がめっき処理部
３０の溝内に十分に行きわたった時点で加熱を止めて徐
冷し、冷却が終了した時点でパネルパーツ５０（図１
（ｆ）参照）を取り出す。勿論、冷却方法は徐冷に限ら
れるものではない。例えば、加熱を止めるだけでなく、
強制冷却するようにしても良い。このようにして得られ
るパネルパーツ５０は、平面状の板部分と多数のリブ５
１とが一体に形成されて成り、隣接するリブ５１の空間
が放電溝となる。
３０の溝内に十分に行きわたった時点で加熱を止めて徐
冷し、冷却が終了した時点でパネルパーツ５０（図１
（ｆ）参照）を取り出す。勿論、冷却方法は徐冷に限ら
れるものではない。例えば、加熱を止めるだけでなく、
強制冷却するようにしても良い。このようにして得られ
るパネルパーツ５０は、平面状の板部分と多数のリブ５
１とが一体に形成されて成り、隣接するリブ５１の空間
が放電溝となる。
【００１６】なお、真空プレス成形機の大きさには制限
があり、パネルパーツ５０を精度良く加工するために
は、パネルパーツ５０の大きさは通常、一辺が数ｃｍ程
度である。このため、大型のフラットパネルディスプレ
イを製作するには、図２に示すように、多数のパネルパ
ーツ５０をフラットパネルディスプレイ用の型枠６０に
しきつめてゆく。ガラス等のプレス成形の精度は、サブ
ミクロンオーダまで可能であるので、パネルパーツ５０
の寸法精度は高く、フラットパネルディスプレイ用の型
枠６０にしきつめても溝の位置が大きくずれることは無
い。
があり、パネルパーツ５０を精度良く加工するために
は、パネルパーツ５０の大きさは通常、一辺が数ｃｍ程
度である。このため、大型のフラットパネルディスプレ
イを製作するには、図２に示すように、多数のパネルパ
ーツ５０をフラットパネルディスプレイ用の型枠６０に
しきつめてゆく。ガラス等のプレス成形の精度は、サブ
ミクロンオーダまで可能であるので、パネルパーツ５０
の寸法精度は高く、フラットパネルディスプレイ用の型
枠６０にしきつめても溝の位置が大きくずれることは無
い。
【００１７】Ｎｉめっきで形成しためっき処理部３０に
よるメス型の金型は、１個だけ作れば良く、後はプレス
成形でパネルパーツ５０を繰り返し大量に生産すれば良
い。したがって、従来のリブ形成方法に比べて工程数を
減らすことができ、生産性が格段に向上する。また、露
光プロセスでは、通常の水銀ランプ等による光露光の代
わりに放射光を用いると加工精度を向上させることがで
き、従来の５０ミクロンのリブの幅を１０ミクロン程度
まで微細化して画素の大きさを小さくすることができ
る。更に、放電溝の深さも２００〜３００ミクロン程度
にまで深くできるので、セル内に封入できるガスの量が
増え、輝度を上げることができる。
よるメス型の金型は、１個だけ作れば良く、後はプレス
成形でパネルパーツ５０を繰り返し大量に生産すれば良
い。したがって、従来のリブ形成方法に比べて工程数を
減らすことができ、生産性が格段に向上する。また、露
光プロセスでは、通常の水銀ランプ等による光露光の代
わりに放射光を用いると加工精度を向上させることがで
き、従来の５０ミクロンのリブの幅を１０ミクロン程度
まで微細化して画素の大きさを小さくすることができ
る。更に、放電溝の深さも２００〜３００ミクロン程度
にまで深くできるので、セル内に封入できるガスの量が
増え、輝度を上げることができる。
【００１８】なお、上記の説明では、図３（ｂ）に示し
たストライプ状のリブを持つＡＣ型ＰＤＰに適用して説
明したが、図３（ａ）に示したセル状のリブを持つＤＣ
型ＰＤＰにも適用できることは言うまでもない。また、
原型２０を露光、現像、めっき処理により作るようにし
ているが、放電加工や精密切削により原型２０と同様の
ものをつくることができる。更に、プラズマディスプレ
イ用のパネルに適用する場合について説明したが、フラ
ットパネルディスプレイの一種で、同じような放電溝を
持つ電界放出ディスプレイにも適用することができる。
たストライプ状のリブを持つＡＣ型ＰＤＰに適用して説
明したが、図３（ａ）に示したセル状のリブを持つＤＣ
型ＰＤＰにも適用できることは言うまでもない。また、
原型２０を露光、現像、めっき処理により作るようにし
ているが、放電加工や精密切削により原型２０と同様の
ものをつくることができる。更に、プラズマディスプレ
イ用のパネルに適用する場合について説明したが、フラ
ットパネルディスプレイの一種で、同じような放電溝を
持つ電界放出ディスプレイにも適用することができる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明ではマ
イクロマシンの製造に利用されている露光、現像、めっ
き処理技術と真空プレス成形技術とを組合わせることに
より、微細で精密な放電溝用のリブを持つディスプレイ
パネルを生産性良く製造することができる。
イクロマシンの製造に利用されている露光、現像、めっ
き処理技術と真空プレス成形技術とを組合わせることに
より、微細で精密な放電溝用のリブを持つディスプレイ
パネルを生産性良く製造することができる。
【図１】本発明によるディスプレイパネルの製造工程を
順をおって説明するための断面図である。
順をおって説明するための断面図である。
【図２】図１の製造工程で得られたパネルパーツを組合
わせてフラットパネルディスプレイを製造する例を示し
た図である。
わせてフラットパネルディスプレイを製造する例を示し
た図である。
【図３】プラズマディスプレイにおける放電溝の例を説
明するための拡大図である。
明するための拡大図である。
１０ マスク １１ 基板 １２ レジスト材料 ２０ 原型 ２１ 隔壁 ３０ めっき処理部 ４１ 金型 ４２ ガラスまたは樹脂材料 ４４ 加圧プレス ５０ パネルパーツ ５１ リブ
Claims (4)
- 【請求項１】 放電溝を形成するための多数のリブを有
するディスプレイ用パネルの製造方法において、 マスクを用いた露光プロセス、現像プロセスにより前記
リブと同形状の複数の隔壁を持つ原型を作る第１の工程
と、 前記原型にめっき処理を施した後、前記原型をめっき処
理部から取り外して前記めっき処理部をメス型の金型と
して製作する第２の工程と、 真空プレス成形により、加熱したパネル材料を前記金型
に押し込み、冷却後取り出してパネルパーツを作る第３
の工程とを含むことを特徴とするディスプレイ用パネル
の製造方法。 - 【請求項２】 請求項１記載のディスプレイ用パネルの
製造方法において、前記第３の工程を繰り返して前記パ
ネルパーツを多数形成し、複数の前記パネルパーツを組
み合わせてディスプレイ用パネルとすることを特徴とす
るディスプレイ用パネルの製造方法。 - 【請求項３】 請求項１記載のディスプレイ用パネルの
製造方法において、前記第１の工程は、 前記リブの幅及びピッチに対応する光透過パターンを持
つマスクを介して基板上のレジスト材料に露光を行う露
光工程と、 前記レジスト材料の露光された部分を除去する現像工程
とからなることを特徴とするディスプレイ用パネルの製
造方法。 - 【請求項４】 請求項３記載のディスプレイ用パネルの
製造方法において、前記露光工程を放射光により行うこ
とを特徴とするディスプレイ用パネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25882697A JPH1196903A (ja) | 1997-09-24 | 1997-09-24 | ディスプレイ用パネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25882697A JPH1196903A (ja) | 1997-09-24 | 1997-09-24 | ディスプレイ用パネルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1196903A true JPH1196903A (ja) | 1999-04-09 |
Family
ID=17325577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25882697A Withdrawn JPH1196903A (ja) | 1997-09-24 | 1997-09-24 | ディスプレイ用パネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1196903A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000030861A (ko) * | 2000-03-22 | 2000-06-05 | 오충식 | 표시 패널의 격벽 형성용 인쇄판의 제조방법 |
| KR100320223B1 (ko) * | 1999-06-16 | 2002-01-10 | 김용석 | 피디피 하면판의 격벽 제조 장치 및 그 방법 |
| KR100349610B1 (ko) * | 1999-06-30 | 2002-08-21 | 전자부품연구원 | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조 방법 |
| KR100364759B1 (ko) * | 2000-03-29 | 2002-12-16 | 엘지전자 주식회사 | 피디피용 금형과 그 제조 방법 및 그를 이용한 피디피기판 제조 방법 |
| KR100367960B1 (ko) * | 2000-09-25 | 2003-01-14 | 김병수 | 새로운 가공기술 및 조립방식을 이용한 플라즈마디스플레이 패널 하판 격벽 성형용 금형 제작 방법 |
| KR100407957B1 (ko) * | 2001-06-07 | 2003-12-03 | 엘지전자 주식회사 | 피디피용 금형 제조 방법 및 그를 이용한 피디피 기판제조 방법 |
| KR100450832B1 (ko) * | 2002-07-15 | 2004-10-12 | 엘지전자 주식회사 | 모세관 몰딩법에 의한 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽제조방법 및 그것의 페이스트 조성물 |
| JP2004330330A (ja) * | 2003-05-02 | 2004-11-25 | Institute Of Physical & Chemical Research | ハニカム構造体を鋳型としたメゾ構造体の作製 |
| US7722789B2 (en) | 2007-11-30 | 2010-05-25 | 3M Innovative Properties Company | Defoaming method, defoaming device and manufacturing method of transfer mold |
-
1997
- 1997-09-24 JP JP25882697A patent/JPH1196903A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR100407957B1 (ko) * | 2001-06-07 | 2003-12-03 | 엘지전자 주식회사 | 피디피용 금형 제조 방법 및 그를 이용한 피디피 기판제조 방법 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20041207 |