JPH1196894A - 電子放出素子および画像表示装置 - Google Patents

電子放出素子および画像表示装置

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Publication number
JPH1196894A
JPH1196894A JP25197697A JP25197697A JPH1196894A JP H1196894 A JPH1196894 A JP H1196894A JP 25197697 A JP25197697 A JP 25197697A JP 25197697 A JP25197697 A JP 25197697A JP H1196894 A JPH1196894 A JP H1196894A
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JP
Japan
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electron
emitter
emitting device
extraction electrode
display device
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Pending
Application number
JP25197697A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshifumi Sato
利文 佐藤
Hideo Kurokawa
英雄 黒川
Tetsuya Shiratori
哲也 白鳥
Masahiro Deguchi
正洋 出口
Makoto Kitahata
真 北畠
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH1196894A publication Critical patent/JPH1196894A/ja
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  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 低電圧で安定した動作が可能な電子放出素子
および画像表示装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 電子を引き出す引き出し電極14が突起
を有する形状であることが特長の電子放出素子は、低電
圧での駆動が可能であり、また、突起を有する形状の引
き出し電極14をエミッタ部12の直上に配置すること
により、電子の軌道が画像表示装置に適したものとな
る。この突起を有する引き出し電極は、トライオード型
構造においても効果を発揮する。本発明による引き出し
電極によれば、エミッタ部の形状によらず、画像表示装
置に適した電子放出素子の形成が可能になる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電界放出型ディス
プレイ装置に用いる高い電子放出特性を有する電子放出
素子および既電子放出素子を用いた画像表示装置に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】従来の電子放出素子は、たとえば、半導
体トランジスタ等の製造に使用されている微細加工技術
を利用して、ミクロンサイズの微小な真空素子を作製す
る技術が研究開発されている((1)伊藤順司、応用物
理、第59巻、第2号、1990年、(2)横尾邦義、
電気学会誌、第112巻、第4号、1992年)。
【0003】この電子放出素子は、導電性シリコン基板
とこのシリコン基板上に形成された表面に円錐状の突起
を有するシリコン層とにより構成されている。円錐状突
起は微細加工技術を使用して成形加工されシリコン電子
エミッタ部となる。
【0004】また、この電子エミッタ部を有する陰極基
板に対向して陽極基板が配置されている。この陽極基板
は透明なガラス基板に、透明電極および蛍光体薄膜、ま
た必要に応じて金属薄膜を順次積層して形成されたもの
であり、蛍光体薄膜側が電子エミッタ部側に配置されて
いる。
【0005】このように、発光素子を構成する対向した
陰極基板と陽極基板を高真空中におき、陰極と陽極との
間に所定の電圧を印加すると、電子エミッタ部の先端か
ら真空中に電子が放出される。
【0006】この放出された電子は印加された電圧によ
り加速され、蛍光体薄膜に到達し、電子が蛍光体薄膜に
衝突することにより、蛍光体薄膜が発光する。蛍光体薄
膜は材料を変えることにより、赤・青・緑の3原色又は
その中間色を自由に発光させることが可能である。これ
らの発光素子を平面上に配列しディスプレイを構成でき
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
電子放出素子は、引き出し電極円周内面が平坦な構造の
ため、電界集中が起こりにくく、電子を引き出すために
高電圧が必要である。また、従来の電子放出素子は、エ
ミッタ部構造を電界集中し易い円錐状突起構造にするこ
とが必要である。このように、従来の電子放出素子は、
引き出し電圧が高く、エミッタ部の構造が限定されると
いう問題がある。
【0008】本発明は、前記従来の問題を解決するた
め、また、低電圧で安定した動作が可能な電子放出素子
および画像表示装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達するため
に、本発明の電子放出素子は、電子を放出するエミッタ
部と前記電子を引き出す電子引き出し電極を備え、前記
電子引き出し電極が突起を有する形状であることを特長
とするものである。
【0010】また、本発明の電子放出素子は、電子を放
出するエミッタ部と前記電子を引き出す電子引き出し電
極を備え、前記電子引き出し電極が突起を有する形状で
あって、前記引き出し電極がエミッタ直上に位置するこ
とを特長とするものである。
【0011】また、本発明の電子放出素子は、エミッタ
部と電子引き出し電極から構成されるトライオード型の
構造であることを特長とするものである。
【0012】また、本発明の電子放出素子は、トライオ
ード型構造の引き出し電極が、穴の中心に向かって複数
の突起を有することを特長とするものである。
【0013】また、本発明の電子放出素子は、トライオ
ード型構造の引き出し電極が、エミッタ直上に位置し、
エミッタ部と引き出し電極間を結ぶ直線間には絶縁層を
介さない構造であることを特長とするものである。
【0014】また、本発明の電子放出素子は、前記エミ
ッタ部が先端が尖った形状であることを特長とするもの
である。
【0015】また、本発明の電子放出素子は、前記エミ
ッタ部が平坦であることを特長とするものである。
【0016】また、本発明の電子放出素子は、前記エミ
ッタ部が微粒子により構成されていることを特長とする
ものである。
【0017】また、本発明の電子放出素子は、前記電子
放出素子が電界放出型ディスプレイ装置用の電子放出源
であることを特長とするものである。
【0018】また、本発明の画像表示装置は、前記電子
放出素子を用いることを特長とするものである。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。
【0020】(実施の形態1)図1は、本発明の第1の
実施の形態に係わる電子放出素子の概略構成図である。
【0021】図1において、11は基板、12は電子を
放出するエミッタ部、13は絶縁体層、14は電子を引
き出すための引き出し電極である。エミッタ部12の直
上には絶縁体層を介さず引き出し電極14の一部(先端
部)が位置する構造となっている。
【0022】ここで、電子放出素子を陰極、対向側に基
板上に透明電極、蛍光体薄膜からなる陽極基板を配置
し、エミッタ部と引き出し電極との間、陰極と陽極との
間に所定の電圧を印加すると、電子エミッタ部から真空
中に電子が放出され、加速された電子は蛍光体薄膜に到
達し、電子が蛍光体薄膜に衝突することにより、蛍光体
薄膜が発光するものである。
【0023】このような電子放出素子の構成では、電子
放出軌道が基板面に対してほぼ垂直になるため、電子の
直進性が良く、画像表示装置に適したものとなる。
【0024】なお、エミッタ部の形状は、先端が尖った
形状のもの、平坦なもの、微粒子状のものいずれでも良
い。
【0025】(実施の形態2)図2は、本発明の第2の
実施の形態に係わる電子放出素子の概略構成図である。
【0026】図2において、21は基板、22はエミッ
タ部、23は絶縁体層、24は引き出し電極である。引
き出し電極24は、穴の周囲に複数の突起を持ち、突起
が穴の中心に向かって飛び出た構造になる。
【0027】ここで、電子放出素子を陰極、対向側に基
板上に透明電極、蛍光体薄膜からなる陽極基板を配置
し、陰極と陽極との間に所定電圧を印加すると、電子エ
ミッタ部の先端から真空中に電子が放出され、加速され
た電子は蛍光体薄膜に到達し、電子が蛍光体薄膜に衝突
することにより、蛍光体薄膜が発光するものである。
【0028】なお、引き出し電極の構造は、穴の周囲に
ある突起の先端がエミッタ部に傾いていても良く、ま
た、陽極側に傾いていても同様の効果が得られた。
【0029】なお、エミッタ部の形状は、先端が尖った
形状のもの、平坦なもの、微粒子状のものいずれでも良
い。
【0030】このようにして製造された電子放出素子
は、電界放出型画像表示装置に用いる電子放出源に使用
するに十分な品質のものが得られた。
【0031】なお、以上の説明では、主に電界放出型画
像表示装置用電子放出素子を例として説明したが、本発
明はこれに拘束されるものではなく、他のタイプの電子
放出素子においても、全く同様の効果が得られる物であ
る。
【0032】
【実施例】次に、本発明の具体例を説明する。
【0033】(実施例1)図3は、本発明による電子放
出素子の第1の実施例の構成図である。
【0034】ガラス基板31上に、厚さ200nmで材
質がアルミニウム(Al)の下部電極32を介して、先
端が尖った形状で材質がモリブデン(Mo)のエミッタ
33が形成されている。
【0035】一方、厚さ500nmの酸化シリコン(S
iO2)の絶縁体層34を介して保持部の厚さ200nm
のニオブ(Nb)の引き出し電極35が形成されている
構造となる。
【0036】引き出し電極35の一部(先端部)はエミ
ッタ直上に位置し、引き出し電極35−下部電極32間
に10Vの電圧を印加すると、エミッタ先端から基板に
垂直方向に電子放出が行われる。引き出し電極35はエ
ミッタ33直上では絶縁体層34を介さず、単独で存在
する。
【0037】尚、引き出し電極35は、モリブデン(M
o)、タングステン(W)、窒化ゲルマニウム(Ge
N)、窒化ホウ素(BN)、窒化アルミニウム(Al
N)、窒化ガリウム(GaN)、窒化インジウム(In
N)、窒化シリコン(SiN)、炭化シリコン(Si
C)、シリコン(Si)、ダイヤモンド等でも同様の効
果が得られる。
【0038】尚、エミッタの数は引き出し電極1個に対
して1個又は複数個あっても良く、材質はタングステン
(W)、ニオブ(Nb)、窒化ゲルマニウム(Ge
N)、窒化ホウ素(BN)、窒化アルミニウム(Al
N)、窒化ガリウム(GaN)、窒化インジウム(In
N)、窒化シリコン(SiN)、炭化シリコン(Si
C)、シリコン(Si)、ダイヤモンド等でも同様の効
果が得られる。
【0039】なお、エミッタの形状は平面上あるいは微
粒子状でも同様の効果が得られる。また、絶縁体層は絶
縁耐圧を持たせるために、酸化シリコン(SiO2)が適
しているが、酸化アルミニウム(Al23)等の他の絶
縁体でも同様の効果が得られる。
【0040】なお、引き出し電極の構造は、突起が陽極
側に傾いていても同様の効果が得られたが、突起の先端
がエミッタ部に傾いていた方がより効果的であった。
【0041】なお、基板は一般的にガラスを使用する
が、シリコン基板を使用した場合、MOSトランジスタ
等の電子回路、駆動回路を同一基板に造り込むことが可
能になる。
【0042】(実施例2)図4は、本発明による電子放
出素子の第2の実施例の構成図である。
【0043】ガラス基板41上にアルミニウム(Al)
下部電極42、インジウム(In)43を介してエミッ
タとしての微粒子ダイヤモンド44が形成されている。
複数の突起を持つモリブデン(Mo)引き出し電極46
は酸化シリコン(SiO2)絶縁体層45を介して形成さ
れている。引き出し電極46−下部電極42間に10V
の電圧を印加すると、エミッタ先端から基板に垂直方向
に電子放出が行われる。引き出し電極46はエミッタ4
4直上では絶縁体層45を介さず、単独で存在する。
【0044】尚、引き出し電極46は、タングステン
(W)、ニオブ(Nb)、窒化ゲルマニウム(Ge
N)、窒化ホウ素(BN)、窒化アルミニウム(Al
N)、窒化ガリウム(GaN)、窒化インジウム(In
N)、窒化シリコン(SiN)、炭化シリコン(Si
C)、シリコン(Si)、ダイヤモンド等でも同様の効
果が得られる。
【0045】なお、ダイヤモンドの粒子径は、直径1μ
m以下が望ましい。なお、絶縁体層は絶縁耐圧を持たせ
るために、酸化シリコン(SiO2)が適しているが、酸
化アルミニウム(Al23)等の他の絶縁体でも同様の
効果が得られる。
【0046】なお、引き出し電極の構造は、突起が陽極
側に傾いていても同様の効果が得られたが、突起の先端
がエミッタ部に傾いていた方がより効果的であった。
【0047】なお、基板としてシリコン基板を使用した
場合、MOSトランジスタ等の電子回路、駆動回路を同
一基板に造り込むことが可能になる。
【0048】このようにして製造された電子放出素子
は、既電子放出素子を用いた画像表示装置に使用するに
十分な品質のものが得られた。
【0049】(実施例3)図5は、本発明による画像表
示装置の一実施例の構成図である。
【0050】本発明による電子放出素子51がマトリッ
クス上に配置され、電界放出型画像表示装置の陰極52
を形成する。陰極52に対向して基板上に透明電極、蛍
光体薄膜からなる陽極53を配置し、所定の動作によ
り、電子放出素子の引き出し電極とエミッタ間との間に
電圧を印加し、陰極52と陽極53との間に高電圧を印
加すると、電子エミッタ部から真空中に電子が放出さ
れ、加速された電子は蛍光体薄膜に到達し、電子が蛍光
体薄膜に衝突することにより、蛍光体薄膜が発光する。
本発明の電子放出素子の構成では、電子放出軌道が基板
面に対してほぼ垂直になるため、電子の直進性が良く、
画像表示装置に適したものとなる。
【0051】なお、陽極53は印加する電圧が数kVを
超える高電圧になる場合、蛍光体の劣化防止のため、ま
た、真空容器内の汚染防止のため、メタルバックと呼ば
れるアルミニウム(Al)膜等による被覆を行う。
【0052】なお、以上の説明では、主に電界放出型デ
ィスプレイ装置用電子放出素子を例として説明したが、
本発明はこれに拘束される物ではなく、他のタイプの電
子放出素子においても、全く同様の効果が得られる物で
ある。
【0053】
【発明の効果】以上のように本発明は、低電圧で動作可
能な電子放出素子が容易に得られるために、優れた電界
放出型画像表示装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係わる電子放出素
子の概略構成図
【図2】本発明の第2の実施の形態に係わる電子放出素
子の概略構成図
【図3】本発明による電子放出素子の第1の実施例の構
成図
【図4】本発明による電子放出素子の第2の実施例の構
成図
【図5】本発明による画像表示装置の一実施例の構成図
【符号の説明】
11 基板 12 エミッタ部 13 絶縁体層 14 引き出し電極 21 基板 22 エミッタ部 23 絶縁体層 24 引き出し電極 31 ガラス基板 32 アルミニウム下部電極 33 モリブデンエミッタ 34 酸化シリコン絶縁体層 35 ニオブ引き出し電極 41 ガラス基板 42 アルミニウム下部電極 43 インジウム 44 微粒子ダイヤモンド 45 酸化シリコン絶縁体層 46 モリブデン引き出し電極 51 電子放出素子 52 陰極 53 陽極
フロントページの続き (72)発明者 出口 正洋 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 北畠 真 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電子を放出するエミッタ部と電子引き出し
    電極を備え、前記電子引き出し電極が突起を有する形状
    であることを特長とする電子放出素子。
  2. 【請求項2】電子を放出するエミッタ部と電子引き出し
    電極を備え、前記電子引き出し電極が突起を有する形状
    であって、前記引き出し電極がエミッタ直上に位置する
    ことを特長とする電子放出素子。
  3. 【請求項3】エミッタ部と電子引き出し部から構成され
    るトライオード型の構造であることを特長とする請求項
    1または2記載の電子放出素子。
  4. 【請求項4】トライオード型構造の引き出し電極が、穴
    の中心に向かって複数の突起を有することを特長とする
    請求項3記載の電子放出素子。
  5. 【請求項5】トライオード型構造の引き出し電極が、エ
    ミッタ直上に位置し、エミッタ部と引き出し電極間を結
    ぶ直線間には絶縁層を介さない構造であることを特長と
    する請求項3記載の電子放出素子。
  6. 【請求項6】エミッタ部が先端が尖った形状であること
    を特長とする請求項1〜3のいずれかに記載の電子放出
    素子。
  7. 【請求項7】エミッタ部が平坦であることを特長とする
    請求項1〜3のいずれかに記載の電子放出素子。
  8. 【請求項8】エミッタ部が微粒子により構成されている
    ことを特長とする請求項1〜3のいずれかに記載の電子
    放出素子。
  9. 【請求項9】電子放出素子が電界放出型ディスプレイ装
    置用の電子放出源であることを特長とする請求項1〜3
    のいずれかに記載の電子放出素子。
  10. 【請求項10】請求項1〜9のいずれかに記載の電子放
    出素子を用いた画像表示装置。
JP25197697A 1997-09-17 1997-09-17 電子放出素子および画像表示装置 Pending JPH1196894A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008263212A (ja) * 2001-07-17 2008-10-30 Watanabe Shoko:Kk 半導体装置及びその作製方法並びに半導体装置応用システム

Cited By (1)

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