JPH1195132A - レーザビーム遮断装置 - Google Patents
レーザビーム遮断装置Info
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- JPH1195132A JPH1195132A JP9269402A JP26940297A JPH1195132A JP H1195132 A JPH1195132 A JP H1195132A JP 9269402 A JP9269402 A JP 9269402A JP 26940297 A JP26940297 A JP 26940297A JP H1195132 A JPH1195132 A JP H1195132A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザビーム遮断装置のシャッタの動作不良
を防止する。 【解決手段】 レーザビーム遮断装置１０は、ソレノイ
ド２０と柱状のシャッタ３０とケーシング４０とを備え
る。磁性体２６とシャッタ３０は軸Ｌに沿って一体的に
移動する。ケーシング４０はシャッタ係止部５０を備え
る。ソレノイド２０に通電するとシャッタ３０は、シャ
ッタ底面３８とシャッタ係止部５０の係止面５２との間
に間隙を有する開放位置に定められる。ソレノイド２０
が通電されないと、シャッタ３０はシャッタ底面３８と
係止面５２とが密着する遮蔽位置に定められる。レーザ
出力部１００から出力されたレーザビームＬＢは、シャ
ッタ３０が開放位置のとき出射穴５８から出射し、シャ
ッタ３０が遮蔽位置のとき円錐面３７により入射穴４６
側へ反射される。
を防止する。 【解決手段】 レーザビーム遮断装置１０は、ソレノイ
ド２０と柱状のシャッタ３０とケーシング４０とを備え
る。磁性体２６とシャッタ３０は軸Ｌに沿って一体的に
移動する。ケーシング４０はシャッタ係止部５０を備え
る。ソレノイド２０に通電するとシャッタ３０は、シャ
ッタ底面３８とシャッタ係止部５０の係止面５２との間
に間隙を有する開放位置に定められる。ソレノイド２０
が通電されないと、シャッタ３０はシャッタ底面３８と
係止面５２とが密着する遮蔽位置に定められる。レーザ
出力部１００から出力されたレーザビームＬＢは、シャ
ッタ３０が開放位置のとき出射穴５８から出射し、シャ
ッタ３０が遮蔽位置のとき円錐面３７により入射穴４６
側へ反射される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばレーザビー
ムを用いた露光装置に設けられるレーザビーム遮断装置
に関する。
ムを用いた露光装置に設けられるレーザビーム遮断装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年レーザビームを用いてプリント基板
への回路パターンの描画が行われている。このようなレ
ーザ描画装置は、レーザ出力部からのレーザビームが光
学系に導かれて所定の光学処理が行われた後、光学処理
後のレーザビームによって走査されることにより基板上
に回路パターンが描画される。
への回路パターンの描画が行われている。このようなレ
ーザ描画装置は、レーザ出力部からのレーザビームが光
学系に導かれて所定の光学処理が行われた後、光学処理
後のレーザビームによって走査されることにより基板上
に回路パターンが描画される。
【０００３】レーザ出力部は、レーザ描画装置の電源が
ＯＮのときはレーザ光源から常時レーザビームを出力し
ており、高出力のレーザ描画装置では光学系の早期破損
やメンテナンス時のレーザビーム出射を防止するため
に、非走査時にこのレーザビームをの出射を阻止するた
めの遮断機構を備えている。この遮断機構は、例えば幅
がレーザビームの幅より長い平板状のシャッタ幕と、こ
のシャッタ幕を開、閉位置に電磁的に付勢するためのソ
レノイドまたはバネなどを備えている。ソレノイドは電
磁力によりシャッタ幕を一方向にのみ付勢しており、付
勢方向周りにシャッタ幕が回転するため、レーザビーム
に対して常にシャッタ幕の平面が対向するように、シャ
ッタ幕回転防止のガイドがシャッタ幕の両側面に設けら
れる。ガイドに形成されたガイド溝に沿ってシャッタ幕
が開閉位置を移動することにより、レーザビームの遮断
および通過を制御している。
ＯＮのときはレーザ光源から常時レーザビームを出力し
ており、高出力のレーザ描画装置では光学系の早期破損
やメンテナンス時のレーザビーム出射を防止するため
に、非走査時にこのレーザビームをの出射を阻止するた
めの遮断機構を備えている。この遮断機構は、例えば幅
がレーザビームの幅より長い平板状のシャッタ幕と、こ
のシャッタ幕を開、閉位置に電磁的に付勢するためのソ
レノイドまたはバネなどを備えている。ソレノイドは電
磁力によりシャッタ幕を一方向にのみ付勢しており、付
勢方向周りにシャッタ幕が回転するため、レーザビーム
に対して常にシャッタ幕の平面が対向するように、シャ
ッタ幕回転防止のガイドがシャッタ幕の両側面に設けら
れる。ガイドに形成されたガイド溝に沿ってシャッタ幕
が開閉位置を移動することにより、レーザビームの遮断
および通過を制御している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】シャッタ幕がガイド溝
においてスムーズに移動できるようにするために、ガイ
ド溝とシャッタ幕とはわずかなクリアランスを備えてい
るが、このクリアランスのためにシャッタ幕が閉位置へ
の移動時にガイド溝に引っ掛かり、レーザビームの遮断
が十分行われず、シャッタ幕が正常に機能しないことが
ある。また、平板状のシャッタ幕の閉時に、反射した光
がレーザ光源へ戻った場合、香料を一定に保つために設
けられた香料モニタに悪影響をもたらすことがある。
においてスムーズに移動できるようにするために、ガイ
ド溝とシャッタ幕とはわずかなクリアランスを備えてい
るが、このクリアランスのためにシャッタ幕が閉位置へ
の移動時にガイド溝に引っ掛かり、レーザビームの遮断
が十分行われず、シャッタ幕が正常に機能しないことが
ある。また、平板状のシャッタ幕の閉時に、反射した光
がレーザ光源へ戻った場合、香料を一定に保つために設
けられた香料モニタに悪影響をもたらすことがある。
【０００５】本発明は、この様な点に鑑みてなされたも
のであり、動作不良のないシャッタを備えたレーザビー
ム遮断装置を提供することが目的である。
のであり、動作不良のないシャッタを備えたレーザビー
ム遮断装置を提供することが目的である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によるレーザビー
ム遮断装置は、柱状のシャッタを備えたレーザビーム遮
断装置であって、この柱状のシャッタが、レーザビーム
の出射方向と交差する軸と、シャッタ側面に設けられレ
ーザビームの通過を阻止するシャッタ面とを備え、この
シャッタが軸に沿って進退可能であり、第１の位置にお
いてレーザビームを遮断し、第２の位置においてレーザ
ビームを通過させることを特徴としている。
ム遮断装置は、柱状のシャッタを備えたレーザビーム遮
断装置であって、この柱状のシャッタが、レーザビーム
の出射方向と交差する軸と、シャッタ側面に設けられレ
ーザビームの通過を阻止するシャッタ面とを備え、この
シャッタが軸に沿って進退可能であり、第１の位置にお
いてレーザビームを遮断し、第２の位置においてレーザ
ビームを通過させることを特徴としている。
【０００７】レーザビーム遮断装置において、好ましく
は、シャッタ面によってレーザビームが反射されること
によりレーザビームが遮断される。
は、シャッタ面によってレーザビームが反射されること
によりレーザビームが遮断される。
【０００８】レーザビーム遮断装置において、好ましく
はシャッタが略円柱である。さらに好ましくは、シャッ
タがテーパ状に形成されシャッタ面がこのテーパ状の円
錐面を含む。
はシャッタが略円柱である。さらに好ましくは、シャッ
タがテーパ状に形成されシャッタ面がこのテーパ状の円
錐面を含む。
【０００９】レーザビーム遮断装置において、好ましく
は、シャッタを第１の位置から第２の位置に付勢する付
勢手段を備え、この付勢手段と反対側に設けられた係止
部にシャッタが当接することにより第１の位置が位置決
めされる。さらに好ましくは、付勢手段がソレノイドで
ある。
は、シャッタを第１の位置から第２の位置に付勢する付
勢手段を備え、この付勢手段と反対側に設けられた係止
部にシャッタが当接することにより第１の位置が位置決
めされる。さらに好ましくは、付勢手段がソレノイドで
ある。
【００１０】レーザビーム遮断装置において、好ましく
は、シャッタの軸心がレーザビームの出力方向に対して
垂直である。
は、シャッタの軸心がレーザビームの出力方向に対して
垂直である。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明によるレーザビーム
遮断装置の実施形態について添付図面を参照して説明す
る。
遮断装置の実施形態について添付図面を参照して説明す
る。
【００１２】図１には実施形態であるレーザビーム遮断
装置の断面図が示される。レーザビーム遮断装置１０は
レーザ出力部１００の出射口１０２の近傍に設けられ
る。レーザビームＬＢは出射口１０２から図の左方向に
出射される。レーザビームＬＢに対して垂直に取付板部
１２が設けられる。取付板部１２にはレーザビームＬＢ
を通過させるための円形穴１４が形成されている。取付
板部１２のレーザ出力装置１００とは反対側にはソレノ
イド２０が２つのボルト２２によって取り付けられ、ソ
レノイド２０の下方にはケーシング４０が２つのボルト
４２によって取り付けられる。
装置の断面図が示される。レーザビーム遮断装置１０は
レーザ出力部１００の出射口１０２の近傍に設けられ
る。レーザビームＬＢは出射口１０２から図の左方向に
出射される。レーザビームＬＢに対して垂直に取付板部
１２が設けられる。取付板部１２にはレーザビームＬＢ
を通過させるための円形穴１４が形成されている。取付
板部１２のレーザ出力装置１００とは反対側にはソレノ
イド２０が２つのボルト２２によって取り付けられ、ソ
レノイド２０の下方にはケーシング４０が２つのボルト
４２によって取り付けられる。
【００１３】ソレノイド２０は、内部にストッパ２４と
円筒の磁性体２６とを備え、磁性体２６の円筒面上には
コイル２８が巻回される。コイル２８に通電することに
より磁性体２６はレーザビームＬＢの出射方向と垂直な
方向、即ち図の上下方向に直線運動をする。図１に示す
通電状態、即ちプラス端子からマイナス端子へ通電した
場合、電流の磁気作用により磁性体２６はストッパ２４
による停止位置まで移動しているが、通電が行われない
場合、磁性体２６はストッパ２４から離れ、重力によっ
て図の下方向へ、即ちレーザビームＬＢの出射方向と垂
直に交差する軸Ｌに沿って移動する。この磁性体２６の
先端にはシャッタ３０が取り付けられる。
円筒の磁性体２６とを備え、磁性体２６の円筒面上には
コイル２８が巻回される。コイル２８に通電することに
より磁性体２６はレーザビームＬＢの出射方向と垂直な
方向、即ち図の上下方向に直線運動をする。図１に示す
通電状態、即ちプラス端子からマイナス端子へ通電した
場合、電流の磁気作用により磁性体２６はストッパ２４
による停止位置まで移動しているが、通電が行われない
場合、磁性体２６はストッパ２４から離れ、重力によっ
て図の下方向へ、即ちレーザビームＬＢの出射方向と垂
直に交差する軸Ｌに沿って移動する。この磁性体２６の
先端にはシャッタ３０が取り付けられる。
【００１４】図２はシャッタ近傍の分解斜視図である。
シャッタ３０は軸Ｌ周りの略円筒形状を呈しており、一
端に取付部３２が設けられ、他端の反射部３６はテーパ
状に形成されている。反射部３６の底面３８はフラット
に形成される。反射部３６およびシャッタ底面３８の直
径は、レーザビームＬＢの幅よりも大きく設けられる。
反射部３６のテーパ状に形成された側面、即ち円錐面３
７によってレーザビームＬＢが反射されることにより、
レーザビームＬＢは出射穴５８からの出射が阻止され
る。
シャッタ３０は軸Ｌ周りの略円筒形状を呈しており、一
端に取付部３２が設けられ、他端の反射部３６はテーパ
状に形成されている。反射部３６の底面３８はフラット
に形成される。反射部３６およびシャッタ底面３８の直
径は、レーザビームＬＢの幅よりも大きく設けられる。
反射部３６のテーパ状に形成された側面、即ち円錐面３
７によってレーザビームＬＢが反射されることにより、
レーザビームＬＢは出射穴５８からの出射が阻止され
る。
【００１５】取付部３２は磁性体２６の下端に形成され
たスリット２７に嵌合する。取付部３２と磁性体２６に
はそれぞれ水平方向に貫通した穴３３、２９が形成さ
れ、これらの穴に挿入されるボルト３４とナット３５に
よって、シャッタ３０はソレノイド２０に固定される。
これによりシャッタ３０はソレノイド２０と軸Ｌに沿っ
て一体的に移動可能になる。磁性体２６がストッパ２４
まで移動している時、図１に示すように磁性体２６およ
びシャッタ３０は上方に待避し、この時のシャッタ３０
はレーザビームＬＢを通過させる開放位置に定められ
る。これに対して磁性体２６がストッパ２４から離れシ
ャッタ３０がシャッタ係止部５０に当接したとき、シャ
ッタ３０はレーザビームＬＢの通過を阻止する遮蔽位置
に定められる。
たスリット２７に嵌合する。取付部３２と磁性体２６に
はそれぞれ水平方向に貫通した穴３３、２９が形成さ
れ、これらの穴に挿入されるボルト３４とナット３５に
よって、シャッタ３０はソレノイド２０に固定される。
これによりシャッタ３０はソレノイド２０と軸Ｌに沿っ
て一体的に移動可能になる。磁性体２６がストッパ２４
まで移動している時、図１に示すように磁性体２６およ
びシャッタ３０は上方に待避し、この時のシャッタ３０
はレーザビームＬＢを通過させる開放位置に定められ
る。これに対して磁性体２６がストッパ２４から離れシ
ャッタ３０がシャッタ係止部５０に当接したとき、シャ
ッタ３０はレーザビームＬＢの通過を阻止する遮蔽位置
に定められる。
【００１６】反射部３６およびシャッタ底面３８の直径
はレーザビームＬＢの幅よりも大きく設けられているの
で、ソレノイド２０の作用によりシャッタ３０が移動す
る際に軸Ｌ周りに回転しても常に同じ幅の円錐面３７が
レーザビームＬＢに対向し、シャッタ３０が遮蔽位置に
ある時レーザビームＬＢは常に円錐面３７によって反射
される。シャッタ３０が遮蔽位置にある時、レーザビー
ムＬＢはほぼ水平方向から入射するが、反射部３６のレ
ーザビームの当たる面、即ち円錐面３７は軸Ｌに対し傾
斜しているので、レーザビームＬＢは入射方向とは異な
る方向に乱反射される。
はレーザビームＬＢの幅よりも大きく設けられているの
で、ソレノイド２０の作用によりシャッタ３０が移動す
る際に軸Ｌ周りに回転しても常に同じ幅の円錐面３７が
レーザビームＬＢに対向し、シャッタ３０が遮蔽位置に
ある時レーザビームＬＢは常に円錐面３７によって反射
される。シャッタ３０が遮蔽位置にある時、レーザビー
ムＬＢはほぼ水平方向から入射するが、反射部３６のレ
ーザビームの当たる面、即ち円錐面３７は軸Ｌに対し傾
斜しているので、レーザビームＬＢは入射方向とは異な
る方向に乱反射される。
【００１７】次に図１と図３を参照してケーシング４０
について説明する。図３はケーシング４０の分解斜視図
である。ケーシング４０は、入射部４４とシャッタ係止
部５０と出射部５６とを備える。入射部４４は取付板部
１２の円形穴１４とほぼ同径の入射穴４６を備え、取付
板部１２にボルト４２により取り付けられる。またシャ
ッタ３０が移動する際にシャッタ外周面またはナット３
５と入射部４４とが干渉しないように、入射部４４の取
付板部１２と密着する面の反対側の面４５には、軸Ｌに
平行の溝４８が形成される。
について説明する。図３はケーシング４０の分解斜視図
である。ケーシング４０は、入射部４４とシャッタ係止
部５０と出射部５６とを備える。入射部４４は取付板部
１２の円形穴１４とほぼ同径の入射穴４６を備え、取付
板部１２にボルト４２により取り付けられる。またシャ
ッタ３０が移動する際にシャッタ外周面またはナット３
５と入射部４４とが干渉しないように、入射部４４の取
付板部１２と密着する面の反対側の面４５には、軸Ｌに
平行の溝４８が形成される。
【００１８】シャッタ係止部５０はボルト５４によって
入射部４４に固定される。このシャッタ係止部５０は、
シャッタ底面３８と対向する面が段状に形成され、フラ
ットな係止面５２は、シャッタ３０が下降したとき底面
３８と当接し、このシャッタ３０を遮蔽位置に位置決め
する。出射部５６に形成されたボルト係合穴５７を介し
て入射部４４のボルト係合穴４７に図示しないボルトが
挿入されることにより、出射部５６が入射部４４に固定
される。出射部５６には入射穴４６よりも径が小さい出
射穴５８が形成される。
入射部４４に固定される。このシャッタ係止部５０は、
シャッタ底面３８と対向する面が段状に形成され、フラ
ットな係止面５２は、シャッタ３０が下降したとき底面
３８と当接し、このシャッタ３０を遮蔽位置に位置決め
する。出射部５６に形成されたボルト係合穴５７を介し
て入射部４４のボルト係合穴４７に図示しないボルトが
挿入されることにより、出射部５６が入射部４４に固定
される。出射部５６には入射穴４６よりも径が小さい出
射穴５８が形成される。
【００１９】図４を参照してシャッタ３０の開閉動作を
説明する。図４（ａ）はシャッタ３０が開放位置にある
状態を示し、図４（ｂ）はシャッタ３０が遮蔽位置にあ
る状態を示す。
説明する。図４（ａ）はシャッタ３０が開放位置にある
状態を示し、図４（ｂ）はシャッタ３０が遮蔽位置にあ
る状態を示す。
【００２０】図４（ａ）に示すように、ソレノイド２０
が通電されているとき磁性体２６はストッパ２４と密着
し、シャッタ底面３８と係止面５２とは、軸Ｌ方向に関
して距離αだけ離れている。このとき、入射穴４６から
入射したレーザビームＬＢは、シャッタ底面３８と係止
面５２との間隙を通り、出射穴５８から出射する。
が通電されているとき磁性体２６はストッパ２４と密着
し、シャッタ底面３８と係止面５２とは、軸Ｌ方向に関
して距離αだけ離れている。このとき、入射穴４６から
入射したレーザビームＬＢは、シャッタ底面３８と係止
面５２との間隙を通り、出射穴５８から出射する。
【００２１】図４（ｂ）に示すように、ソレノイド２０
が通電されないとき、磁性体２６はストッパ２４から離
れ、シャッタ底面３８が係止面５２に当接して停止する
まで、重力により軸Ｌに沿って下方に移動する。即ちシ
ャッタ３０が遮蔽位置にあり、このとき磁性体２６とス
トッパ２４とはαだけ離れている。入射穴４６から入射
したレーザビームＬＢは、シャッタ３０の円錐面３７に
よって入射方向とは異なる方向に反射されて、出射穴５
８からは出射しない。
が通電されないとき、磁性体２６はストッパ２４から離
れ、シャッタ底面３８が係止面５２に当接して停止する
まで、重力により軸Ｌに沿って下方に移動する。即ちシ
ャッタ３０が遮蔽位置にあり、このとき磁性体２６とス
トッパ２４とはαだけ離れている。入射穴４６から入射
したレーザビームＬＢは、シャッタ３０の円錐面３７に
よって入射方向とは異なる方向に反射されて、出射穴５
８からは出射しない。
【００２２】このように、本実施形態のレーザビーム遮
断装置では、シャッタ３０を柱状に形成しており、ソレ
ノイド２０の付勢によりシャッタ３０が移動中に軸Ｌ周
りに回転しても、常にレーザビームの幅より広い幅のシ
ャッタ面が、レーザビームＬＢに対向する。従って平板
状のシャッタに設けていたようなガイド機構は必要がな
く、構成が簡単になり、またガイドとシャッタとの摩擦
によるシャッタの動作不良も生じない。
断装置では、シャッタ３０を柱状に形成しており、ソレ
ノイド２０の付勢によりシャッタ３０が移動中に軸Ｌ周
りに回転しても、常にレーザビームの幅より広い幅のシ
ャッタ面が、レーザビームＬＢに対向する。従って平板
状のシャッタに設けていたようなガイド機構は必要がな
く、構成が簡単になり、またガイドとシャッタとの摩擦
によるシャッタの動作不良も生じない。
【００２３】従来のように平板状のシャッタを用いたレ
ーザビーム遮断装置では、シャッタが遮蔽位置にあると
きレーザ出力部から出射されたレーザビームは、シャッ
タにより再びレーザ出力部に反射されて戻る。レーザ出
力部は、装置内のレーザ出力値を検出しモニタすること
によってレーザ光量を制御するが、上述のように反射さ
れて戻ったレーザビームによって、実際のレーザ光量が
不安定になる。しかし、本実施形態のようにテーパ状に
形成されたシャッタ３０を用いると、レーザ出力部１０
０にはレーザビームＬＢが戻ることなく、実際のレーザ
出力光量が不安定になることが防止される。
ーザビーム遮断装置では、シャッタが遮蔽位置にあると
きレーザ出力部から出射されたレーザビームは、シャッ
タにより再びレーザ出力部に反射されて戻る。レーザ出
力部は、装置内のレーザ出力値を検出しモニタすること
によってレーザ光量を制御するが、上述のように反射さ
れて戻ったレーザビームによって、実際のレーザ光量が
不安定になる。しかし、本実施形態のようにテーパ状に
形成されたシャッタ３０を用いると、レーザ出力部１０
０にはレーザビームＬＢが戻ることなく、実際のレーザ
出力光量が不安定になることが防止される。
【００２４】
【発明の効果】本発明によると、動作不良のないシャッ
タを備えたレーザビーム遮断装置が得られる。
タを備えたレーザビーム遮断装置が得られる。
【図１】本発明によるレーザビーム遮断装置の実施形態
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図２】図１に示すシャッタ近傍の構成を示す分解斜視
図である。
図である。
【図３】図１に示すケーシングの構成を示す分解斜視図
である。
である。
【図４】図１に示すシャッタの開放状態および遮蔽状態
を示す図である。
を示す図である。
１０ レーザビーム遮断装置 １２ 取付板部 ２０ ソレノイド ３０ シャッタ ３７ 円錐面 ４０ ケーシング ４６ 入射穴 ５０ シャッタ係止部 ５２ 係止面 ５８ 出射穴 １００ レーザ出力部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０４Ｎ 1/113 Ｈ０１Ｓ 3/02 Ｚ // Ｂ２３Ｋ 26/06 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ｚ
Claims (7)
- 【請求項１】 柱状のシャッタを備えたレーザビーム遮
断装置であって、 この柱状のシャッタが、レーザビームの出射方向と交差
する軸と、シャッタ側面に設けられレーザビームの通過
を阻止するシャッタ面とを備え、このシャッタが前記軸
に沿って進退可能であり、第１の位置において前記レー
ザビームを遮断し、第２の位置において前記レーザビー
ムを通過させることを特徴とするレーザビーム遮断装
置。 - 【請求項２】 前記シャッタ面によって前記レーザビー
ムが反射されることにより、前記レーザビームが遮断さ
れることを特徴とする請求項１に記載のレーザビーム遮
断装置。 - 【請求項３】 前記シャッタが略円柱であることを特徴
とする請求項２に記載のレーザビーム遮断装置。 - 【請求項４】 前記シャッタがテーパ状に形成され、前
記シャッタ面がこのテーパ状の円錐面を含むことを特徴
とする請求項３に記載のレーザビーム遮断装置。 - 【請求項５】 前記第１の位置から前記第２の位置に付
勢する付勢手段を備え、この付勢手段と反対側に設けら
れた係止部に前記シャッタが当接することにより前記第
１の位置が位置決めされることを特徴とする請求項４に
記載のレーザビーム遮断装置。 - 【請求項６】 前記付勢手段がソレノイドであることを
特徴とする請求項５に記載のレーザビーム遮断装置。 - 【請求項７】 前記シャッタの軸心が前記レーザビーム
の出射方向に対して垂直であることを特徴とする請求項
１に記載のレーザビーム遮断装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26940297A JP3882288B2 (ja) | 1997-09-16 | 1997-09-16 | レーザビーム遮断装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26940297A JP3882288B2 (ja) | 1997-09-16 | 1997-09-16 | レーザビーム遮断装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1195132A true JPH1195132A (ja) | 1999-04-09 |
| JP3882288B2 JP3882288B2 (ja) | 2007-02-14 |
Family
ID=17471921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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