JP3882288B2 - レーザビーム遮断装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばレーザビームを用いた露光装置に設けられるレーザビーム遮断装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年レーザビームを用いてプリント基板への回路パターンの描画が行われている。このようなレーザ描画装置は、レーザ出力部からのレーザビームが光学系に導かれて所定の光学処理が行われた後、光学処理後のレーザビームによって走査されることにより基板上に回路パターンが描画される。
【0003】
レーザ出力部は、レーザ描画装置の電源がONのときはレーザ光源から常時レーザビームを出力しており、高出力のレーザ描画装置では光学系の早期破損やメンテナンス時のレーザビーム出射を防止するために、非走査時にこのレーザビームの出射を阻止するための遮断機構を備えている。この遮断機構は、例えば幅がレーザビームの幅より長い平板状のシャッタ幕と、このシャッタ幕を開、閉位置に電磁的に付勢するためのソレノイドまたはバネなどを備えている。ソレノイドは電磁力によりシャッタ幕を一方向にのみ付勢しており、付勢方向周りにシャッタ幕が回転するため、レーザビームに対して常にシャッタ幕の平面が対向するように、シャッタ幕回転防止のガイドがシャッタ幕の両側面に設けられる。ガイドに形成されたガイド溝に沿ってシャッタ幕が開閉位置を移動することにより、レーザビームの遮断および通過を制御している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
シャッタ幕がガイド溝においてスムーズに移動できるようにするために、ガイド溝とシャッタ幕とはわずかなクリアランスを備えているが、このクリアランスのためにシャッタ幕が閉位置への移動時にガイド溝に引っ掛かり、レーザビームの遮断が十分行われず、シャッタ幕が正常に機能しないことがある。また、平板状のシャッタ幕の閉時に、反射した光がレーザ光源へ戻った場合、光量を一定に保つために設けられた光量モニタに悪影響をもたらすことがある。
【0005】
本発明は、この様な点に鑑みてなされたものであり、動作不良のないシャッタを備えたレーザビーム遮断装置を提供することが目的である。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明によるレーザビーム遮断装置は、柱状のシャッタを備えたレーザビーム遮断装置であって、この柱状のシャッタが、レーザビームの出射方向と交差する軸と、シャッタ側面に設けられレーザビームの通過を阻止するシャッタ面とを備え、このシャッタが軸に沿って進退可能であり、第1の位置においてレーザビームを遮断し、第2の位置においてレーザビームを通過させることを特徴としている。
【0007】
レーザビーム遮断装置において、好ましくは、シャッタ面によってレーザビームが反射されることによりレーザビームが遮断される。
【0008】
レーザビーム遮断装置において、好ましくはシャッタが略円柱である。さらに好ましくは、シャッタがテーパ状に形成されシャッタ面がこのテーパ状の円錐面を含む。
【0009】
レーザビーム遮断装置において、好ましくは、シャッタを第1の位置から第2の位置に付勢する付勢手段を備え、この付勢手段と反対側に設けられた係止部にシャッタが当接することにより第1の位置が位置決めされる。さらに好ましくは、付勢手段がソレノイドである。
【0010】
レーザビーム遮断装置において、好ましくは、シャッタの軸心がレーザビームの出力方向に対して垂直である。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明によるレーザビーム遮断装置の実施形態について添付図面を参照して説明する。
【0012】
図1には実施形態であるレーザビーム遮断装置の断面図が示される。
レーザビーム遮断装置10はレーザ出力部100の出射口102の近傍に設けられる。レーザビームLBは出射口102から図の左方向に出射される。レーザビームLBに対して垂直に取付板部12が設けられる。取付板部12にはレーザビームLBを通過させるための円形穴14が形成されている。取付板部12のレーザ出力装置100とは反対側にはソレノイド20が2つのボルト22によって取り付けられ、ソレノイド20の下方にはケーシング40が2つのボルト42によって取り付けられる。
【0013】
ソレノイド20は、内部にストッパ24と円筒の磁性体26とを備え、磁性体26の円筒面上にはコイル28が巻回される。コイル28に通電することにより磁性体26はレーザビームLBの出射方向と垂直な方向、即ち図の上下方向に直線運動をする。図1に示す通電状態、即ちプラス端子からマイナス端子へ通電した場合、電流の磁気作用により磁性体26はストッパ24による停止位置まで移動しているが、通電が行われない場合、磁性体26はストッパ24から離れ、重力によって図の下方向へ、即ちレーザビームLBの出射方向と垂直に交差する軸Lに沿って移動する。この磁性体26の先端にはシャッタ30が取り付けられる。
【0014】
図2はシャッタ近傍の分解斜視図である。シャッタ30は軸L周りの略円筒形状を呈しており、一端に取付部32が設けられ、他端の反射部36はテーパ状に形成されている。反射部36の底面38はフラットに形成される。反射部36およびシャッタ底面38の直径は、レーザビームLBの幅よりも大きく設けられる。反射部36のテーパ状に形成された側面、即ち円錐面37によってレーザビームLBが反射されることにより、レーザビームLBは出射穴58からの出射が阻止される。
【0015】
取付部32は磁性体26の下端に形成されたスリット27に嵌合する。取付部32と磁性体26にはそれぞれ水平方向に貫通した穴33、29が形成され、これらの穴に挿入されるボルト34とナット35によって、シャッタ30はソレノイド20に固定される。これによりシャッタ30はソレノイド20と軸Lに沿って一体的に移動可能になる。磁性体26がストッパ24まで移動している時、図1に示すように磁性体26およびシャッタ30は上方に待避し、この時のシャッタ30はレーザビームLBを通過させる開放位置に定められる。これに対して磁性体26がストッパ24から離れシャッタ30がシャッタ係止部50に当接したとき、シャッタ30はレーザビームLBの通過を阻止する遮蔽位置に定められる。
【0016】
反射部36およびシャッタ底面38の直径はレーザビームLBの幅よりも大きく設けられているので、ソレノイド20の作用によりシャッタ30が移動する際に軸L周りに回転しても常に同じ幅の円錐面37がレーザビームLBに対向し、シャッタ30が遮蔽位置にある時レーザビームLBは常に円錐面37によって反射される。シャッタ30が遮蔽位置にある時、レーザビームLBはほぼ水平方向から入射するが、反射部36のレーザビームの当たる面、即ち円錐面37は軸Lに対し傾斜しているので、レーザビームLBは入射方向とは異なる方向に乱反射される。
【0017】
次に図1と図3を参照してケーシング40について説明する。図3はケーシング40の分解斜視図である。
ケーシング40は、入射部44とシャッタ係止部50と出射部56とを備える。入射部44は取付板部12の円形穴14とほぼ同径の入射穴46を備え、取付板部12にボルト42により取り付けられる。またシャッタ30が移動する際にシャッタ外周面またはナット35と入射部44とが干渉しないように、入射部44の取付板部12と密着する面の反対側の面45には、軸Lに平行の溝48が形成される。
【0018】
シャッタ係止部50はボルト54によって入射部44に固定される。このシャッタ係止部50は、シャッタ底面38と対向する面が段状に形成され、フラットな係止面52は、シャッタ30が下降したとき底面38と当接し、このシャッタ30を遮蔽位置に位置決めする。出射部56に形成されたボルト係合穴57を介して入射部44のボルト係合穴47に図示しないボルトが挿入されることにより、出射部56が入射部44に固定される。出射部56には入射穴46よりも径が小さい出射穴58が形成される。
【0019】
図4を参照してシャッタ30の開閉動作を説明する。図4(a)はシャッタ30が開放位置にある状態を示し、図4(b)はシャッタ30が遮蔽位置にある状態を示す。
【0020】
図4(a)に示すように、ソレノイド20が通電されているとき磁性体26はストッパ24と密着し、シャッタ底面38と係止面52とは、軸L方向に関して距離αだけ離れている。このとき、入射穴46から入射したレーザビームLBは、シャッタ底面38と係止面52との間隙を通り、出射穴58から出射する。
【0021】
図4(b)に示すように、ソレノイド20が通電されないとき、磁性体26はストッパ24から離れ、シャッタ底面38が係止面52に当接して停止するまで、重力により軸Lに沿って下方に移動する。即ちシャッタ30が遮蔽位置にあり、このとき磁性体26とストッパ24とはαだけ離れている。入射穴46から入射したレーザビームLBは、シャッタ30の円錐面37によって入射方向とは異なる方向に反射されて、出射穴58からは出射しない。
【0022】
このように、本実施形態のレーザビーム遮断装置では、シャッタ30を柱状に形成しており、ソレノイド20の付勢によりシャッタ30が移動中に軸L周りに回転しても、常にレーザビームの幅より広い幅のシャッタ面が、レーザビームLBに対向する。従って平板状のシャッタに設けていたようなガイド機構は必要がなく、構成が簡単になり、またガイドとシャッタとの摩擦によるシャッタの動作不良も生じない。
【0023】
従来のように平板状のシャッタを用いたレーザビーム遮断装置では、シャッタが遮蔽位置にあるときレーザ出力部から出射されたレーザビームは、シャッタにより再びレーザ出力部に反射されて戻る。レーザ出力部は、装置内のレーザ出力値を検出しモニタすることによってレーザ光量を制御するが、上述のように反射されて戻ったレーザビームによって、実際のレーザ光量が不安定になる。しかし、本実施形態のようにテーパ状に形成されたシャッタ30を用いると、レーザ出力部100にはレーザビームLBが戻ることなく、実際のレーザ出力光量が不安定になることが防止される。
【0024】
【発明の効果】
本発明によると、動作不良のないシャッタを備えたレーザビーム遮断装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるレーザビーム遮断装置の実施形態を示す断面図である。
【図2】図1に示すシャッタ近傍の構成を示す分解斜視図である。
【図3】図1に示すケーシングの構成を示す分解斜視図である。
【図4】図1に示すシャッタの開放状態および遮蔽状態を示す図である。
【符号の説明】
10 レーザビーム遮断装置
12 取付板部
20 ソレノイド
30 シャッタ
37 円錐面
40 ケーシング
46 入射穴
50 シャッタ係止部
52 係止面
58 出射穴
100 レーザ出力部
Claims (6)
- テーパ状のシャッタを備えたレーザビーム遮断装置であって、
このテーパ状のシャッタが、所定の幅を有するレーザビームの出射方向と交差する軸と、シャッタ側面に設けられレーザビームの通過を阻止する、前記軸に対して傾斜した円錐面であるシャッタ面とを備え、このシャッタが前記軸に沿って進退可能であり、第1の位置において前記レーザビームを遮断し、第2の位置において前記レーザビームを通過させ、前記シャッタのテーパ先端での直径が前記所定の幅よりも大きいことを特徴とするレーザビーム遮断装置。 - 前記シャッタ面によって前記レーザビームが反射されることにより、前記レーザビームが遮断されることを特徴とする請求項1に記載のレーザビーム遮断装置。
- 前記シャッタが略円柱であることを特徴とする請求項2に記載のレーザビーム遮断装置。
- 前記第1の位置から前記第2の位置に付勢する付勢手段を備え、この付勢手段と反対側に設けられた係止部に前記シャッタが当接することにより前記第1の位置が位置決めされることを特徴とする請求項1に記載のレーザビーム遮断装置。
- 前記付勢手段がソレノイドであることを特徴とする請求項4に記載のレーザビーム遮断装置。
- 前記シャッタの軸心が前記レーザビームの出射方向に対して垂直であることを特徴とする請求項1に記載のレーザビーム遮断装置。
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