JPH1187207A - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
- Publication number
- JPH1187207A JPH1187207A JP9237362A JP23736297A JPH1187207A JP H1187207 A JPH1187207 A JP H1187207A JP 9237362 A JP9237362 A JP 9237362A JP 23736297 A JP23736297 A JP 23736297A JP H1187207 A JPH1187207 A JP H1187207A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shutter
- time
- exposure
- shutters
- exposure time
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 投影露光装置におけるシャッタ時間を短縮す
る。 【解決手段】 シャッタ７，８を円盤に切欠を形成した
２枚のシャッタ羽根９，１０により構成する。シャッタ
７，８を開くときにはシャッタ羽根９，１０を互いに逆
方向に回転して光軸Ｘ１を開放する。シャッタ７，８を
閉じるときには開くときと反対方向にシャッタ羽根９，
１０を回転して光軸Ｘ１を遮断する。これにより、シャ
ッタ時間は従来の１／２となる。
る。 【解決手段】 シャッタ７，８を円盤に切欠を形成した
２枚のシャッタ羽根９，１０により構成する。シャッタ
７，８を開くときにはシャッタ羽根９，１０を互いに逆
方向に回転して光軸Ｘ１を開放する。シャッタ７，８を
閉じるときには開くときと反対方向にシャッタ羽根９，
１０を回転して光軸Ｘ１を遮断する。これにより、シャ
ッタ時間は従来の１／２となる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路や
液晶表示素子などの製造工程において使用される半導体
製造装置に用いられる投影露光装置に関する。
液晶表示素子などの製造工程において使用される半導体
製造装置に用いられる投影露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の一括露光タイフの投影露光装置で
は、照明系光源の直後に設けられたシャッタを用いて、
ウエハ上の各チップに適当な露光量を与えるように制御
される。シャッタは図５に示すように円盤の一部に切欠
を形成したシャッタ羽根１１からなり、モータによりシ
ャッタ羽根１１を回転させることによって光軸Ｘ１が遮
断（図５（ａ））あるいは開放（図５（ｂ））され、ウ
エハ面への照明光の到達を制御している。
は、照明系光源の直後に設けられたシャッタを用いて、
ウエハ上の各チップに適当な露光量を与えるように制御
される。シャッタは図５に示すように円盤の一部に切欠
を形成したシャッタ羽根１１からなり、モータによりシ
ャッタ羽根１１を回転させることによって光軸Ｘ１が遮
断（図５（ａ））あるいは開放（図５（ｂ））され、ウ
エハ面への照明光の到達を制御している。
【０００３】図６は露光の状態を表すグラフである。横
軸は露光開始からの時間、縦軸はウエハ面照度を示して
いる。図６に示すように、露光開始からシャッタが徐々
に開いていくに連れてウエハ面照度は右上がりに大きく
なり、シャッタが完全に開いた瞬間から照度は一定の値
を保つ。その後所定時間が経過した後にシャッタを閉じ
るが、シャッタの動きに合わせてウエハ面照度は右下が
りに小さくなり、シャッタが完全に閉じた瞬間にウエハ
面照度はゼロになる。このように露光時間とウエハ面照
度との関係は台形状になり、右上がりの部分および右下
がりの部分はシャッタの駆動（すなわちシャッタを開き
始めてから完全に開くまで、もしくはシャッタを閉じ初
めてから完全に閉じるまで）に要する時間であり、シャ
ッタ時間と呼ばれる。また、ウエハ面照度を時間で積分
した値、すなわち図中の斜線部は積算露光量と呼ばれ、
ウエハの単位面積あたりに照射されるエネルギの総量を
示している。
軸は露光開始からの時間、縦軸はウエハ面照度を示して
いる。図６に示すように、露光開始からシャッタが徐々
に開いていくに連れてウエハ面照度は右上がりに大きく
なり、シャッタが完全に開いた瞬間から照度は一定の値
を保つ。その後所定時間が経過した後にシャッタを閉じ
るが、シャッタの動きに合わせてウエハ面照度は右下が
りに小さくなり、シャッタが完全に閉じた瞬間にウエハ
面照度はゼロになる。このように露光時間とウエハ面照
度との関係は台形状になり、右上がりの部分および右下
がりの部分はシャッタの駆動（すなわちシャッタを開き
始めてから完全に開くまで、もしくはシャッタを閉じ初
めてから完全に閉じるまで）に要する時間であり、シャ
ッタ時間と呼ばれる。また、ウエハ面照度を時間で積分
した値、すなわち図中の斜線部は積算露光量と呼ばれ、
ウエハの単位面積あたりに照射されるエネルギの総量を
示している。
【０００４】露光量は、露光時間もしくは積算露光量に
より制御される。露光時間による制御では、露光時間
（シャッタを開き初めてからシャッタを閉じ終わるまで
の時間から、シャッタ時間を差し引いた時間）が設定さ
れた値に保たれるようにシャッタが制御される。この場
合ウエハ面照度の変化により、露光時間とウエハ面照度
との積により表される積算露光量は、各ショットにより
必ずしも一定にはならない。
より制御される。露光時間による制御では、露光時間
（シャッタを開き初めてからシャッタを閉じ終わるまで
の時間から、シャッタ時間を差し引いた時間）が設定さ
れた値に保たれるようにシャッタが制御される。この場
合ウエハ面照度の変化により、露光時間とウエハ面照度
との積により表される積算露光量は、各ショットにより
必ずしも一定にはならない。
【０００５】一方、積算露光量による制御では、ウエハ
面における積算露光景をモニタするセンサを使用し、各
ショットにおいて積算露光量が設定された値に保たれる
ようにシャッタが制御される。この場合ウエハ面照度の
変化により、露光時間は各ショットで必ずしも一定には
ならない。
面における積算露光景をモニタするセンサを使用し、各
ショットにおいて積算露光量が設定された値に保たれる
ようにシャッタが制御される。この場合ウエハ面照度の
変化により、露光時間は各ショットで必ずしも一定には
ならない。
【０００６】ここで、露光時間をＴ（ｓｅｃ）、シャッ
タ時間をＳ（ｍｓｅｃ）、シャッタ開放時のウエハ面照
度をＥ（ｍＷ／ｃｍ２）とすると、積算露光量は、Ｓ・
Ｅ＋（Ｔ−Ｓ）Ｅ＝Ｔ・Ｅ（ｍＪ／ｃｍ２）と表される
が、前者ではＴが一定となるように、また後者ではＴ・
Ｅが一定となるように制御される。
タ時間をＳ（ｍｓｅｃ）、シャッタ開放時のウエハ面照
度をＥ（ｍＷ／ｃｍ２）とすると、積算露光量は、Ｓ・
Ｅ＋（Ｔ−Ｓ）Ｅ＝Ｔ・Ｅ（ｍＪ／ｃｍ２）と表される
が、前者ではＴが一定となるように、また後者ではＴ・
Ｅが一定となるように制御される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た露光時間による制御あるいは積算露光量による制御に
おいては、露光時間はシャッタ時間により制約される。
すなわち、露光時間をシャッタ時間より短くすることは
できない。従って、レジストの感度向上や光源の高輝度
化によって露光時間が短くなり、シャッタ時間を下回っ
た場合には露光ができなくなる。
た露光時間による制御あるいは積算露光量による制御に
おいては、露光時間はシャッタ時間により制約される。
すなわち、露光時間をシャッタ時間より短くすることは
できない。従って、レジストの感度向上や光源の高輝度
化によって露光時間が短くなり、シャッタ時間を下回っ
た場合には露光ができなくなる。
【０００８】本発明の目的は、従来技術と比較してシャ
ッタ時間を短くすることができる投影露光装置を提供す
ることにある。
ッタ時間を短くすることができる投影露光装置を提供す
ることにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】一実施の形態を示す図１
〜図３を参照して説明すると、本発明は、照明光をシャ
ッタ７を介してマスク４および投影光学系５を介して基
板６上に照射して、マスク４上のパターンを基板６上に
投影露光する投影露光装置に適用され、シャッタ７，８
は、照明光を通過させる領域と照明光を遮断する領域と
がそれぞれ形成された２枚のシャッタ羽根９，１０と、
２枚のシャッタ羽根９，１０を互いに逆転して照明光を
通過および遮断を行う駆動手段１２とを備えたことによ
り上記目的を達成する。
〜図３を参照して説明すると、本発明は、照明光をシャ
ッタ７を介してマスク４および投影光学系５を介して基
板６上に照射して、マスク４上のパターンを基板６上に
投影露光する投影露光装置に適用され、シャッタ７，８
は、照明光を通過させる領域と照明光を遮断する領域と
がそれぞれ形成された２枚のシャッタ羽根９，１０と、
２枚のシャッタ羽根９，１０を互いに逆転して照明光を
通過および遮断を行う駆動手段１２とを備えたことによ
り上記目的を達成する。
【００１０】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が実施の形態に限定されるものではない。
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が実施の形態に限定されるものではない。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
の形態について説明する。図１は本発明の実施の形態に
よる投影露光装置の構成を示す光軸上における概略断面
図、図２はシャッタの構成を示す図である。図１に示す
ように、本実施の形態による投影露光装置は、光源１
と、光源１から出射された光を集光する楕円鏡２と、楕
円鏡２により集光反射された光を平行光とするコリメー
タレンズ３と、パターンが形成されたレチクル４を透過
した光を集光してウエハ６上に投射するための投影レン
ズ５とからなる。また、楕円鏡２とコリメータレンズ３
との間には、２枚のシャッタ７，８が配設されている。
このシャッタ７，８はモータおよびギア列からなる駆動
機構１２により回転軸Ｘ０の周囲に互いに逆方向に回転
するように制御される。なお、駆動機構１２をシャッタ
７，８に別々に設けてもよい。
の形態について説明する。図１は本発明の実施の形態に
よる投影露光装置の構成を示す光軸上における概略断面
図、図２はシャッタの構成を示す図である。図１に示す
ように、本実施の形態による投影露光装置は、光源１
と、光源１から出射された光を集光する楕円鏡２と、楕
円鏡２により集光反射された光を平行光とするコリメー
タレンズ３と、パターンが形成されたレチクル４を透過
した光を集光してウエハ６上に投射するための投影レン
ズ５とからなる。また、楕円鏡２とコリメータレンズ３
との間には、２枚のシャッタ７，８が配設されている。
このシャッタ７，８はモータおよびギア列からなる駆動
機構１２により回転軸Ｘ０の周囲に互いに逆方向に回転
するように制御される。なお、駆動機構１２をシャッタ
７，８に別々に設けてもよい。
【００１２】図２および図３はシャッタ７，８の構成を
示す図である。図２に示すようにシャッタ７，８は、円
盤の一部に切欠が形成されてなるシャッタ羽根９，１０
からなり、これらのシャッタ羽根９，１０は駆動機構１
２により互いに逆方向に同期して回転される。図２に示
すように、シャッタ７，８が閉じた状態においては、シ
ャッタ羽根９，１０は、光軸Ｘ１を遮断するようにわず
かに重なった状態となる。一方、シャッタが開いた状態
においては、シャッタ羽根９，１０は図３に示す状態に
あり、光軸Ｘ１は開放された状態となる。
示す図である。図２に示すようにシャッタ７，８は、円
盤の一部に切欠が形成されてなるシャッタ羽根９，１０
からなり、これらのシャッタ羽根９，１０は駆動機構１
２により互いに逆方向に同期して回転される。図２に示
すように、シャッタ７，８が閉じた状態においては、シ
ャッタ羽根９，１０は、光軸Ｘ１を遮断するようにわず
かに重なった状態となる。一方、シャッタが開いた状態
においては、シャッタ羽根９，１０は図３に示す状態に
あり、光軸Ｘ１は開放された状態となる。
【００１３】次いで、本実施の形態の動作について説明
する。図２に示すようにシャッタ羽根９，１０が光軸Ｘ
１を閉じた状態から駆動機構１２により各シャッタ羽根
９，１０を互いに異なる方向に等速にて回転させて、図
３に示すように光軸Ｘ１を開放する。一方、シャッタ
７，８を閉じるときは、図３に示すように光軸Ｘ１が開
放された状態から、シャッタ開放時とは逆方向にシャッ
タ羽根９，１０を回転させて図２に示すように光軸Ｘ１
を遮断する。
する。図２に示すようにシャッタ羽根９，１０が光軸Ｘ
１を閉じた状態から駆動機構１２により各シャッタ羽根
９，１０を互いに異なる方向に等速にて回転させて、図
３に示すように光軸Ｘ１を開放する。一方、シャッタ
７，８を閉じるときは、図３に示すように光軸Ｘ１が開
放された状態から、シャッタ開放時とは逆方向にシャッ
タ羽根９，１０を回転させて図２に示すように光軸Ｘ１
を遮断する。
【００１４】この際、各シャッタ羽根９，１０の回転速
度が上記図５に示した従来のシャッタ羽根の回転速度と
等しいとしても、本実施の形態においては２枚のシャッ
タ羽根９，１０を同時に逆方向に回転するようにしたた
め、シャッタ駆動に要する時間、すなわちシャッタ時間
は図４に示すように従来のシャッタ時間の半分となる。
したがって、露光可能な最小の露光時間を従来のシャッ
タよりも短くすることができ、これにより、同一の積算
露光量を得るための露光時間を短縮することができると
ともに、比較的短時間の露光時間によるレジスト感度評
価試験を行うことができる。
度が上記図５に示した従来のシャッタ羽根の回転速度と
等しいとしても、本実施の形態においては２枚のシャッ
タ羽根９，１０を同時に逆方向に回転するようにしたた
め、シャッタ駆動に要する時間、すなわちシャッタ時間
は図４に示すように従来のシャッタ時間の半分となる。
したがって、露光可能な最小の露光時間を従来のシャッ
タよりも短くすることができ、これにより、同一の積算
露光量を得るための露光時間を短縮することができると
ともに、比較的短時間の露光時間によるレジスト感度評
価試験を行うことができる。
【００１５】なお、上記実施の形態においては、独立し
た２組のシャッタ７，８を使用して２枚のシャッタ羽根
９，１０を設けるようにしたが、１つのシャッタ機構中
に２枚のシャッタ羽根を設けてもよい。
た２組のシャッタ７，８を使用して２枚のシャッタ羽根
９，１０を設けるようにしたが、１つのシャッタ機構中
に２枚のシャッタ羽根を設けてもよい。
【００１６】以上の実施の形態と請求項との対応におい
て、レチクル４がマスクを、ウエハ６が感光基板を、駆
動機構１２が制御手段を構成する。
て、レチクル４がマスクを、ウエハ６が感光基板を、駆
動機構１２が制御手段を構成する。
【００１７】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、請求項１の
発明によれば、２枚のシャッタ羽根を互いに逆転させて
照明光の通過および遮断を行うようにしたため、従来の
１枚のシャッタ羽根を使用するものと比較して、シャッ
タ時間を略１／２とすることができる。従って、より短
い露光時間（従来技術の略１／２）にも対応することが
できる。また、シャッタ時間が、短くなった分、露光に
要する時間も短くなり、スループットが向上する。
発明によれば、２枚のシャッタ羽根を互いに逆転させて
照明光の通過および遮断を行うようにしたため、従来の
１枚のシャッタ羽根を使用するものと比較して、シャッ
タ時間を略１／２とすることができる。従って、より短
い露光時間（従来技術の略１／２）にも対応することが
できる。また、シャッタ時間が、短くなった分、露光に
要する時間も短くなり、スループットが向上する。
【図１】本発明の実施の形態による投影露光装置の構成
を示す光軸における概略断面図
を示す光軸における概略断面図
【図２】シャッタの構成を示す図（シャッタ閉）
【図３】シャッタの構成を示す図（シャッタ開）
【図４】露光時間とウエハ面照度との関係を示すグラフ
【図５】従来のシャッタの構成を示す図
【図６】従来の露光時間とウエハ面照度との関係を示す
グラフ
グラフ
１ 光源 ２ 楕円鏡 ３ コリメータレンズ ４ レチクル ５ 投影レンズ ６ ウエハ ７，８ シャッタ ９，１０ シャッタ羽根 １２ 駆動機構
Claims (1)
- 【請求項１】 照明光をシャッタを介してマスクおよび
基板上に照射して、前記マスク上のパターンを前記基板
上に投影露光する投影露光装置において、 前記シャッタは、前記照明光を通過させる領域と該照明
光を遮断する領域とがそれぞれ形成された２枚のシャッ
タ羽根と、 該２枚のシャッタ羽根を互いに逆転して前記照明光を通
過および遮断を行う駆動手段とを備えたことを特徴とす
る投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9237362A JPH1187207A (ja) | 1997-09-02 | 1997-09-02 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9237362A JPH1187207A (ja) | 1997-09-02 | 1997-09-02 | 投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1187207A true JPH1187207A (ja) | 1999-03-30 |
Family
ID=17014272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9237362A Pending JPH1187207A (ja) | 1997-09-02 | 1997-09-02 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1187207A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016107543A1 (zh) * | 2014-12-31 | 2016-07-07 | 上海微电子装备有限公司 | 一种用于光刻机曝光系统的自阻尼快门装置 |
| JP2016218241A (ja) * | 2015-05-20 | 2016-12-22 | シャープ株式会社 | 定着装置及び画像形成装置 |
| JP2017156640A (ja) * | 2016-03-03 | 2017-09-07 | キヤノン株式会社 | シャッタユニット、リソグラフィ装置、インプリント装置、及び物品の製造方法 |
-
1997
- 1997-09-02 JP JP9237362A patent/JPH1187207A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016107543A1 (zh) * | 2014-12-31 | 2016-07-07 | 上海微电子装备有限公司 | 一种用于光刻机曝光系统的自阻尼快门装置 |
| CN105807572A (zh) * | 2014-12-31 | 2016-07-27 | 上海微电子装备有限公司 | 一种用于光刻机曝光分系统的自阻尼快门装置 |
| CN105807572B (zh) * | 2014-12-31 | 2018-03-30 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 一种用于光刻机曝光分系统的自阻尼快门装置 |
| US10133153B2 (en) | 2014-12-31 | 2018-11-20 | Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. | Self-damping shutter apparatus for exposure system of photolithography machine |
| JP2016218241A (ja) * | 2015-05-20 | 2016-12-22 | シャープ株式会社 | 定着装置及び画像形成装置 |
| JP2017156640A (ja) * | 2016-03-03 | 2017-09-07 | キヤノン株式会社 | シャッタユニット、リソグラフィ装置、インプリント装置、及び物品の製造方法 |
| US9971248B2 (en) | 2016-03-03 | 2018-05-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Shutter unit, lithography apparatus, and method of manufacturing article |
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