JPH1186769A - 走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ装置および方法 - Google Patents
走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ装置および方法Info
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- JPH1186769A JPH1186769A JP9252828A JP25282897A JPH1186769A JP H1186769 A JPH1186769 A JP H1186769A JP 9252828 A JP9252828 A JP 9252828A JP 25282897 A JP25282897 A JP 25282897A JP H1186769 A JPH1186769 A JP H1186769A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 対物レンズから試料の観察点までの作動距離
を変えることなく、電子線の焦点を試料表面上に合わせ
ることができる、走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ装置
および方法を提供する。 【構成】 電子線を試料表面上に集束しかつ走査しそれ
によって試料から発生した電子を検出器に受けて画像信
号とする走査電子顕微鏡において、前記試料を配置しか
つＸ軸、Ｙ軸および前記試料に照射される電子線と実質
的に平行なＺ軸の３軸方向に移動可能な試料配置台と、
前記電子線が集束する位置に前記試料表面が位置するよ
うに前記試料配置台を少なくとも前記Ｚ軸方向に移動制
御する制御手段とを具備する。試料をＺ軸方向に移動さ
せて焦点を合わせるので、対物レンズから試料の観察点
までの作動距離が変わることはない。
を変えることなく、電子線の焦点を試料表面上に合わせ
ることができる、走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ装置
および方法を提供する。 【構成】 電子線を試料表面上に集束しかつ走査しそれ
によって試料から発生した電子を検出器に受けて画像信
号とする走査電子顕微鏡において、前記試料を配置しか
つＸ軸、Ｙ軸および前記試料に照射される電子線と実質
的に平行なＺ軸の３軸方向に移動可能な試料配置台と、
前記電子線が集束する位置に前記試料表面が位置するよ
うに前記試料配置台を少なくとも前記Ｚ軸方向に移動制
御する制御手段とを具備する。試料をＺ軸方向に移動さ
せて焦点を合わせるので、対物レンズから試料の観察点
までの作動距離が変わることはない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は走査電子顕微鏡の自
動焦点合わせ装置および方法に関し、特に、環境制御型
走査電子顕微鏡などに用いるのに適した自動焦点合わせ
装置および方法に関する。
動焦点合わせ装置および方法に関し、特に、環境制御型
走査電子顕微鏡などに用いるのに適した自動焦点合わせ
装置および方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ミクロな形態観察や分析を行う有
力な手段として、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）が一般的
に使用されている。最近は、このＳＥＭを用いた観察に
おいても、試料を乾燥させず、より自然な状態で、例え
ば水を含んだ状態で試料をＳＥＭ観察することが要求さ
れてきている。このため、試料近傍の試料室にガスを導
入し、低真空状態にして試料の乾燥を抑えながら試料の
観察を可能にする低真空ＳＥＭがある。特に、常温での
飽和水蒸気圧である２７００Ｐａという低真空下でも、
試料室に導入したガスそのものを検出媒体とし、試料か
らの二次電子信号が検出可能なガス増幅方式を用いた環
境制御型二次電子検出器（ＥＳＤ）を備えた環境制御型
走査電子顕微鏡（ＥＳＥＭ）が広く用いられ始めてい
る。
力な手段として、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）が一般的
に使用されている。最近は、このＳＥＭを用いた観察に
おいても、試料を乾燥させず、より自然な状態で、例え
ば水を含んだ状態で試料をＳＥＭ観察することが要求さ
れてきている。このため、試料近傍の試料室にガスを導
入し、低真空状態にして試料の乾燥を抑えながら試料の
観察を可能にする低真空ＳＥＭがある。特に、常温での
飽和水蒸気圧である２７００Ｐａという低真空下でも、
試料室に導入したガスそのものを検出媒体とし、試料か
らの二次電子信号が検出可能なガス増幅方式を用いた環
境制御型二次電子検出器（ＥＳＤ）を備えた環境制御型
走査電子顕微鏡（ＥＳＥＭ）が広く用いられ始めてい
る。
【０００３】このＥＳＥＭにおいては、試料室に例えば
水蒸気などのガスが導入され、最大２７００Ｐａまでの
範囲で一定圧力に制御され、試料の乾燥が抑制される。
試料上方に配置された金属電極板から成るＥＳＤには数
百Ｖの正の電圧が印加される。差動排気系により必要な
真空度に達している電子銃から電子線が放射され、この
電子線は集光レンズ、対物レンズおよび走査コイルなど
により適正な電子ビームとなる。ＥＳＤ検出器と兼用ま
たは別途に設けられた差圧絞りを通過した電子ビームを
試料に照射することにより二次電子が発生する。この二
次電子は、ＥＳＤ電極に印加された電圧により生じた電
場によって、ＥＳＤ検出器に向かい上方へ飛ぶ。二次電
子は一定圧力に制御された試料室内に存在するガス分子
と衝突し、そのガス分子から電子をはじき出してガス分
子をイオン化する。更に衝突が繰り返され、ガス分子を
イオン化しながら二次電子を増幅し、最終的にＥＳＤ電
極に電子が到達して画像信号として出力される。
水蒸気などのガスが導入され、最大２７００Ｐａまでの
範囲で一定圧力に制御され、試料の乾燥が抑制される。
試料上方に配置された金属電極板から成るＥＳＤには数
百Ｖの正の電圧が印加される。差動排気系により必要な
真空度に達している電子銃から電子線が放射され、この
電子線は集光レンズ、対物レンズおよび走査コイルなど
により適正な電子ビームとなる。ＥＳＤ検出器と兼用ま
たは別途に設けられた差圧絞りを通過した電子ビームを
試料に照射することにより二次電子が発生する。この二
次電子は、ＥＳＤ電極に印加された電圧により生じた電
場によって、ＥＳＤ検出器に向かい上方へ飛ぶ。二次電
子は一定圧力に制御された試料室内に存在するガス分子
と衝突し、そのガス分子から電子をはじき出してガス分
子をイオン化する。更に衝突が繰り返され、ガス分子を
イオン化しながら二次電子を増幅し、最終的にＥＳＤ電
極に電子が到達して画像信号として出力される。
【０００４】一般に、観察する試料の表面には凹凸があ
り、また試料を配置するＸＹステージによる移動の平面
度が悪いことも多い。更に、試料表面とＸＹステージの
ＸＹ面が平行になっていない場合もある。このため試料
の観察領域を変えるためにＸＹステージをＸ軸およびＹ
軸方向に動かして試料を平面移動させれば、試料の観察
点までの距離が変わってしまい、そのままでは電子線の
焦点が試料表面に合わず、焦点がぼけて正確な観察がで
きなくなる。得られる二次電子像も不鮮明なものとなっ
てしまう。そこで、試料から発生した二次電子などの画
像信号を取り込み、得られた二次電子像のコントラスト
信号の大きさまたは絶対値、あるいはパターンエッジ信
号の傾きなどを検出し、それがより大きくなりまたは最
も大きくなって二次電子像がよりシャープで鮮明になる
ように対物レンズの励磁を変更し、焦点距離を調整、制
御する自動焦点合わせ装置が用いられており、この制御
方法は一般に山登り法と呼ばれている。
り、また試料を配置するＸＹステージによる移動の平面
度が悪いことも多い。更に、試料表面とＸＹステージの
ＸＹ面が平行になっていない場合もある。このため試料
の観察領域を変えるためにＸＹステージをＸ軸およびＹ
軸方向に動かして試料を平面移動させれば、試料の観察
点までの距離が変わってしまい、そのままでは電子線の
焦点が試料表面に合わず、焦点がぼけて正確な観察がで
きなくなる。得られる二次電子像も不鮮明なものとなっ
てしまう。そこで、試料から発生した二次電子などの画
像信号を取り込み、得られた二次電子像のコントラスト
信号の大きさまたは絶対値、あるいはパターンエッジ信
号の傾きなどを検出し、それがより大きくなりまたは最
も大きくなって二次電子像がよりシャープで鮮明になる
ように対物レンズの励磁を変更し、焦点距離を調整、制
御する自動焦点合わせ装置が用いられており、この制御
方法は一般に山登り法と呼ばれている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな自動焦点合わせ方法では、精度が比較的高くかつ動
作時間が比較的短いなどの優位性がある反面、実際には
対物レンズから試料の観察点までの作動距離（ｗｏｒｋ
ｉｎｇ ｄｉｓｔａｎｃｅ：Ｗ．Ｄ．）が変化してしま
うため、厳密には焦点合わせを行っても観察位置ごとに
分解能が変化してしまう。また、低真空ＳＥＭのよう
に、絶縁体試料の観察における試料のチャージアップを
防ぐために試料室内にガスを導入している場合は、試料
に照射される電子線はガス分子に衝突して散乱を起こす
ので、対物レンズから試料の観察点までの作動距離が長
いほど、試料まで到達する電子線の割合が小さくなり、
二次電子や反射電子などの画像信号が低下し、その上照
射電子線の散乱によるバックグラウンドノイズが大きく
なって、画像のＳ／Ｎ比が低下してしまう。さらに、Ｅ
ＳＥＭのように試料室内に存在するガス分子を検出媒体
にしている場合は、対物レンズから試料の観察点までの
作動距離の変化や、あるいは試料の観察点からＥＳＤ検
出器までの距離の変化により、信号増幅量やイオン発生
量が変化してしまい、画像のＳ／Ｎの変動やチャージア
ップ中和状態の変動が発生するという問題もあった。
うな自動焦点合わせ方法では、精度が比較的高くかつ動
作時間が比較的短いなどの優位性がある反面、実際には
対物レンズから試料の観察点までの作動距離（ｗｏｒｋ
ｉｎｇ ｄｉｓｔａｎｃｅ：Ｗ．Ｄ．）が変化してしま
うため、厳密には焦点合わせを行っても観察位置ごとに
分解能が変化してしまう。また、低真空ＳＥＭのよう
に、絶縁体試料の観察における試料のチャージアップを
防ぐために試料室内にガスを導入している場合は、試料
に照射される電子線はガス分子に衝突して散乱を起こす
ので、対物レンズから試料の観察点までの作動距離が長
いほど、試料まで到達する電子線の割合が小さくなり、
二次電子や反射電子などの画像信号が低下し、その上照
射電子線の散乱によるバックグラウンドノイズが大きく
なって、画像のＳ／Ｎ比が低下してしまう。さらに、Ｅ
ＳＥＭのように試料室内に存在するガス分子を検出媒体
にしている場合は、対物レンズから試料の観察点までの
作動距離の変化や、あるいは試料の観察点からＥＳＤ検
出器までの距離の変化により、信号増幅量やイオン発生
量が変化してしまい、画像のＳ／Ｎの変動やチャージア
ップ中和状態の変動が発生するという問題もあった。
【０００６】本発明の目的は、上述の従来技術における
問題点に鑑み、対物レンズから試料の観察点までの作動
距離を変化させることなく焦点を調整、制御する走査電
子顕微鏡の自動焦点合わせ装置を提供することである。
問題点に鑑み、対物レンズから試料の観察点までの作動
距離を変化させることなく焦点を調整、制御する走査電
子顕微鏡の自動焦点合わせ装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、電子線
を試料表面上に集束しかつ走査しそれによって試料から
発生した電子を検出器に受けて画像信号とする走査電子
顕微鏡において、前記試料を配置しかつＸ軸、Ｙ軸およ
び前記試料に照射される電子線と実質的に平行なＺ軸の
３軸方向に移動可能な試料配置台と、前記電子線が集束
する位置に前記試料表面が位置するように前記試料配置
台を少なくとも前記Ｚ軸方向に移動制御する制御手段と
を備えた走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ装置が提供さ
れる。このような構成により、試料の観察点までの距離
を変化させることなく電子線の焦点を試料表面上に合わ
せることができる。
を試料表面上に集束しかつ走査しそれによって試料から
発生した電子を検出器に受けて画像信号とする走査電子
顕微鏡において、前記試料を配置しかつＸ軸、Ｙ軸およ
び前記試料に照射される電子線と実質的に平行なＺ軸の
３軸方向に移動可能な試料配置台と、前記電子線が集束
する位置に前記試料表面が位置するように前記試料配置
台を少なくとも前記Ｚ軸方向に移動制御する制御手段と
を備えた走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ装置が提供さ
れる。このような構成により、試料の観察点までの距離
を変化させることなく電子線の焦点を試料表面上に合わ
せることができる。
【０００８】また、電子線を試料表面上に集束しかつ走
査しそれによって試料から発生した電子を検出器に受け
て画像信号とする走査電子顕微鏡において、前記試料を
配置しかつＸ軸、Ｙ軸および前記試料に照射される電子
線と実質的に平行なＺ軸の３軸方向に移動可能な試料配
置台と、前記画像信号のコントラスト信号の大きさまた
はパターンエッジ信号の傾きを検出し前記コントラスト
信号の大きさまたはパターンエッジ信号の傾きが大きく
なるように前記試料配置台を少なくとも前記Ｚ軸方向に
移動制御する制御手段とを備えた走査電子顕微鏡の自動
焦点合わせ装置が提供される。このような構成により、
対物レンズの励磁を変えることなく常に鮮明な画像を得
ることができ、試料の観察点までの距離も一定に保て
る。
査しそれによって試料から発生した電子を検出器に受け
て画像信号とする走査電子顕微鏡において、前記試料を
配置しかつＸ軸、Ｙ軸および前記試料に照射される電子
線と実質的に平行なＺ軸の３軸方向に移動可能な試料配
置台と、前記画像信号のコントラスト信号の大きさまた
はパターンエッジ信号の傾きを検出し前記コントラスト
信号の大きさまたはパターンエッジ信号の傾きが大きく
なるように前記試料配置台を少なくとも前記Ｚ軸方向に
移動制御する制御手段とを備えた走査電子顕微鏡の自動
焦点合わせ装置が提供される。このような構成により、
対物レンズの励磁を変えることなく常に鮮明な画像を得
ることができ、試料の観察点までの距離も一定に保て
る。
【０００９】また、電子線を試料表面上に集束しかつ走
査しそれによって試料から発生した電子を検出器に受け
て画像信号とする走査電子顕微鏡において、前記試料を
配置しかつＸ軸、Ｙ軸および前記試料に照射される電子
線と実質的に平行なＺ軸の３軸方向に移動可能な試料配
置台と、前記試料の電子線が照射されている観察点のＺ
軸方向の高さ位置を検知するセンサと、前記センサで検
知した前記観察点のＺ軸方向の高さ位置の情報に基づき
前記観察点のＺ軸方向の高さ位置が所定の高さ位置とな
るように前記試料配置台を少なくともＺ軸方向に移動制
御する制御手段とを備えた走査電子顕微鏡の自動焦点合
わせ装置が提供される。このような構成により、試料の
観察点までの距離を一定に保つことができ、常に電子線
の焦点が合う位置に試料表面を配置することができる。
査しそれによって試料から発生した電子を検出器に受け
て画像信号とする走査電子顕微鏡において、前記試料を
配置しかつＸ軸、Ｙ軸および前記試料に照射される電子
線と実質的に平行なＺ軸の３軸方向に移動可能な試料配
置台と、前記試料の電子線が照射されている観察点のＺ
軸方向の高さ位置を検知するセンサと、前記センサで検
知した前記観察点のＺ軸方向の高さ位置の情報に基づき
前記観察点のＺ軸方向の高さ位置が所定の高さ位置とな
るように前記試料配置台を少なくともＺ軸方向に移動制
御する制御手段とを備えた走査電子顕微鏡の自動焦点合
わせ装置が提供される。このような構成により、試料の
観察点までの距離を一定に保つことができ、常に電子線
の焦点が合う位置に試料表面を配置することができる。
【００１０】また、電子銃から放射した電子線をコンデ
ンサレンズおよび対物レンズで試料表面上に集束しかつ
偏向コイルで走査しそれによって試料から発生した電子
を検出器に受けて画像信号とする走査電子顕微鏡におい
て、前記試料を配置しかつＸ軸、Ｙ軸および前記試料に
照射される電子線と実質的に平行なＺ軸の３軸方向に移
動可能な試料配置台と、前記試料表面上に電子線が集束
するように前記対物レンズの励磁を変化させる制御手段
と、前記制御手段により変化された前記対物レンズの励
磁の変化量を対応する前記対物レンズの焦点距離のＺ軸
方向の変化量に換算する変換手段と、前記対物レンズの
励磁を前記制御手段により変化させる前の状態に戻すと
ともに、前記試料配置台をＺ軸方向に前記変換手段で換
算された前記対物レンズの焦点距離のＺ軸方向の変化量
に対応する距離だけ移動させる変換制御手段とを備えた
走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ装置が提供される。こ
のような構成により、対物レンズから試料の観察点まで
の作動距離を変化させることなく、短い動作時間で鮮明
な画像を得ることができる。
ンサレンズおよび対物レンズで試料表面上に集束しかつ
偏向コイルで走査しそれによって試料から発生した電子
を検出器に受けて画像信号とする走査電子顕微鏡におい
て、前記試料を配置しかつＸ軸、Ｙ軸および前記試料に
照射される電子線と実質的に平行なＺ軸の３軸方向に移
動可能な試料配置台と、前記試料表面上に電子線が集束
するように前記対物レンズの励磁を変化させる制御手段
と、前記制御手段により変化された前記対物レンズの励
磁の変化量を対応する前記対物レンズの焦点距離のＺ軸
方向の変化量に換算する変換手段と、前記対物レンズの
励磁を前記制御手段により変化させる前の状態に戻すと
ともに、前記試料配置台をＺ軸方向に前記変換手段で換
算された前記対物レンズの焦点距離のＺ軸方向の変化量
に対応する距離だけ移動させる変換制御手段とを備えた
走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ装置が提供される。こ
のような構成により、対物レンズから試料の観察点まで
の作動距離を変化させることなく、短い動作時間で鮮明
な画像を得ることができる。
【００１１】また、電子銃から放射した電子線をコンデ
ンサレンズおよび対物レンズで試料表面上に集束しかつ
偏向コイルで走査し、それによって試料から発生した電
子を検出器に受けて画像信号とする走査電子顕微鏡にお
いて、前記試料を配置しかつＸ軸、Ｙ軸および前記試料
に照射される電子線と実質的に平行なＺ軸の３軸方向に
移動可能な試料配置台と、前記画像信号のコントラスト
信号の大きさまたはパターンエッジ信号の傾きを検出し
前記コントラスト信号の大きさまたはパターンエッジ信
号の傾きが大きくなるように前記対物レンズの励磁を変
化させる制御手段と、前記制御手段により変化された前
記対物レンズの励磁の変化量を対応する前記対物レンズ
の焦点距離のＺ軸方向の変化量に換算する変換手段と、
前記対物レンズの励磁を前記制御手段により変化させる
前の状態に戻すとともに前記試料配置台をＺ軸方向に前
記変換手段で換算された前記対物レンズの焦点距離のＺ
軸方向の変化量に対応する距離だけ移動させる変換制御
手段とを備えた走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ装置が
提供される。このような構成により、対物レンズから試
料の観察点までの作動距離を変化させることなく、容易
かつ短い動作時間で鮮明な画像を得ることができる。
ンサレンズおよび対物レンズで試料表面上に集束しかつ
偏向コイルで走査し、それによって試料から発生した電
子を検出器に受けて画像信号とする走査電子顕微鏡にお
いて、前記試料を配置しかつＸ軸、Ｙ軸および前記試料
に照射される電子線と実質的に平行なＺ軸の３軸方向に
移動可能な試料配置台と、前記画像信号のコントラスト
信号の大きさまたはパターンエッジ信号の傾きを検出し
前記コントラスト信号の大きさまたはパターンエッジ信
号の傾きが大きくなるように前記対物レンズの励磁を変
化させる制御手段と、前記制御手段により変化された前
記対物レンズの励磁の変化量を対応する前記対物レンズ
の焦点距離のＺ軸方向の変化量に換算する変換手段と、
前記対物レンズの励磁を前記制御手段により変化させる
前の状態に戻すとともに前記試料配置台をＺ軸方向に前
記変換手段で換算された前記対物レンズの焦点距離のＺ
軸方向の変化量に対応する距離だけ移動させる変換制御
手段とを備えた走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ装置が
提供される。このような構成により、対物レンズから試
料の観察点までの作動距離を変化させることなく、容易
かつ短い動作時間で鮮明な画像を得ることができる。
【００１２】この場合、前記試料から発生した電子が二
次電子または反射電子であるように構成することもでき
る。これにより、試料の二次電子像または反射電子像を
得ることができ、試料のミクロな形態観察や分析が可能
となる。
次電子または反射電子であるように構成することもでき
る。これにより、試料の二次電子像または反射電子像を
得ることができ、試料のミクロな形態観察や分析が可能
となる。
【００１３】また、電子線を試料表面上に集束しかつ走
査しそれによって試料から発生した電子を検出器に受け
て画像信号とする走査電子顕微鏡において、前記電子線
が集束する位置に前記試料表面が位置するように前記試
料を前記試料に照射される電子線と実質的に平行な方向
に移動制御する走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ方法が
提供される。これにより、対物レンズの励磁を変えるこ
となく電子線の焦点を試料表面上に合わせることがで
き、試料の観察点までの距離を一定に保つことができ
る。
査しそれによって試料から発生した電子を検出器に受け
て画像信号とする走査電子顕微鏡において、前記電子線
が集束する位置に前記試料表面が位置するように前記試
料を前記試料に照射される電子線と実質的に平行な方向
に移動制御する走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ方法が
提供される。これにより、対物レンズの励磁を変えるこ
となく電子線の焦点を試料表面上に合わせることがで
き、試料の観察点までの距離を一定に保つことができ
る。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る走査電子顕微
鏡の自動焦点合わせ装置につき図面を参照して説明す
る。
鏡の自動焦点合わせ装置につき図面を参照して説明す
る。
【００１５】図１は本発明の一実施形態に係る走査電子
顕微鏡の自動焦点合わせ装置を備えた走査電子顕微鏡の
構成を示す概略図である。
顕微鏡の自動焦点合わせ装置を備えた走査電子顕微鏡の
構成を示す概略図である。
【００１６】図１において、走査電子顕微鏡は電子銃
１、コンデンサレンズ２、走査コイル３、対物レンズ
４、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ５、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ５上に
載置された試料６、検出器７、増幅器８、Ａ／Ｄコンバ
ータ９、フレームメモリ１０、ＣＰＵ１１、ＣＲＴ１
２、電子光学系駆動回路１３、光斜入射方式のＺセンサ
２０、ステージ駆動回路２１および操作卓２２を備えて
いる。
１、コンデンサレンズ２、走査コイル３、対物レンズ
４、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ５、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ５上に
載置された試料６、検出器７、増幅器８、Ａ／Ｄコンバ
ータ９、フレームメモリ１０、ＣＰＵ１１、ＣＲＴ１
２、電子光学系駆動回路１３、光斜入射方式のＺセンサ
２０、ステージ駆動回路２１および操作卓２２を備えて
いる。
【００１７】電子銃１は電子線を放射するよう構成され
ている。コンデンサレンズ２、走査コイル３および対物
レンズ４は電子銃１が放射した電子線を適正な電子線に
集束し、かつ集束された電子線を試料６上に走査するよ
う構成されている。Ｘ−Ｙ−Ｚステージ５は平面方向
（Ｘ軸、Ｙ軸）および上下方向（Ｚ軸）に移動可能に構
成されている。観察用の試料６はＸ−Ｙ−Ｚステージ５
上に載置され、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ５の移動とともに移
動する。検出器７は試料６で生じた二次電子または反射
電子などの電子を捕獲し、検出するよう構成されてい
る。例えばＥＳＥＭの場合であれば、検出器７は金属電
極板などからなり、正の電圧、例えば数百Ｖの電圧が印
加可能に構成される。増幅器８は検出器７と電気的に接
続され、検出器７で検出した二次電子または反射電子な
どの信号を入力し、増幅して出力するものである。Ａ／
Ｄコンバータ９は増幅器８と電気的に接続され、増幅器
８の出力信号を受け入れ、デジタルデータに変換して出
力するものである。フレームメモリ１０はＡ／Ｄコンバ
ータ９と電気的に接続され、Ａ／Ｄコンバータ９の出力
信号を記憶するものである。フレームメモリ１０に記憶
されたデジタルデータは走査コイル３による試料６上の
電子線の走査の制御信号と同期させた二次元の画像信号
である。ＣＲＴ１２は、ＣＰＵ１１の指令に応じて、フ
レームメモリ１０に記憶された試料６で発生した二次電
子または反射電子などに対応するデジタルデータを二次
元の画像として表示するものである。電子光学系駆動回
路１３は、ＣＰＵ１１の指令に応じて電子銃１、コンデ
ンサレンズ２、走査コイル３および対物レンズ４などを
駆動するものである。光斜入射方式のＺセンサ２０は、
試料６の斜め上方に設置され、試料６において電子線が
照射されてＳＥＭ観察が行われる観察点の上下方向の位
置または高さを測定するよう構成されている。ステージ
駆動回路２１は、Ｚセンサ２０の出力データやＣＰＵ１
１の指令などに応じて、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ５を平面方
向および上下方向の任意の位置に駆動制御するものであ
る。操作卓２２は、例えば試料の移動すなわちＸ−Ｙ−
Ｚステージ５の移動、コントラストの変更、または焦点
合わせなどの操作を入力するものであり、操作卓２２で
の入力に応じてＣＰＵ１１はＣＲＴ１２、電子光学系駆
動回路１３またはステージ駆動回路２１などに指令を与
える。
ている。コンデンサレンズ２、走査コイル３および対物
レンズ４は電子銃１が放射した電子線を適正な電子線に
集束し、かつ集束された電子線を試料６上に走査するよ
う構成されている。Ｘ−Ｙ−Ｚステージ５は平面方向
（Ｘ軸、Ｙ軸）および上下方向（Ｚ軸）に移動可能に構
成されている。観察用の試料６はＸ−Ｙ−Ｚステージ５
上に載置され、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ５の移動とともに移
動する。検出器７は試料６で生じた二次電子または反射
電子などの電子を捕獲し、検出するよう構成されてい
る。例えばＥＳＥＭの場合であれば、検出器７は金属電
極板などからなり、正の電圧、例えば数百Ｖの電圧が印
加可能に構成される。増幅器８は検出器７と電気的に接
続され、検出器７で検出した二次電子または反射電子な
どの信号を入力し、増幅して出力するものである。Ａ／
Ｄコンバータ９は増幅器８と電気的に接続され、増幅器
８の出力信号を受け入れ、デジタルデータに変換して出
力するものである。フレームメモリ１０はＡ／Ｄコンバ
ータ９と電気的に接続され、Ａ／Ｄコンバータ９の出力
信号を記憶するものである。フレームメモリ１０に記憶
されたデジタルデータは走査コイル３による試料６上の
電子線の走査の制御信号と同期させた二次元の画像信号
である。ＣＲＴ１２は、ＣＰＵ１１の指令に応じて、フ
レームメモリ１０に記憶された試料６で発生した二次電
子または反射電子などに対応するデジタルデータを二次
元の画像として表示するものである。電子光学系駆動回
路１３は、ＣＰＵ１１の指令に応じて電子銃１、コンデ
ンサレンズ２、走査コイル３および対物レンズ４などを
駆動するものである。光斜入射方式のＺセンサ２０は、
試料６の斜め上方に設置され、試料６において電子線が
照射されてＳＥＭ観察が行われる観察点の上下方向の位
置または高さを測定するよう構成されている。ステージ
駆動回路２１は、Ｚセンサ２０の出力データやＣＰＵ１
１の指令などに応じて、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ５を平面方
向および上下方向の任意の位置に駆動制御するものであ
る。操作卓２２は、例えば試料の移動すなわちＸ−Ｙ−
Ｚステージ５の移動、コントラストの変更、または焦点
合わせなどの操作を入力するものであり、操作卓２２で
の入力に応じてＣＰＵ１１はＣＲＴ１２、電子光学系駆
動回路１３またはステージ駆動回路２１などに指令を与
える。
【００１８】次に、このような構成の走査電子顕微鏡の
動作の概要を説明する。
動作の概要を説明する。
【００１９】例えばＥＳＥＭの場合であれば差動排気系
（図示せず）により、必要な真空度に達している電子銃
１から放射された電子線は、コンデンサレンズ２、走査
コイル３および対物レンズ４を通り、集束されて試料６
上に走査され、試料６から二次電子または反射電子など
の電子を発生させる。この試料６から発生した電子は検
出器７により検出される。例えばＥＳＥＭの場合であれ
ば、検出器７には正電圧が印加されており、それによっ
て生じる電場により試料６で発生した電子が検出器７に
向かって飛ぶので、検出器７は試料６で発生した二次電
子や反射電子などの電子を捕獲し、検出することができ
る。この検出器７で検出した試料６で発生した二次電子
や反射電子などの信号は、増幅器８で増幅され、Ａ／Ｄ
コンバータ９でデジタルデータに変換されて、フレーム
メモリ１０に記憶される。ＣＰＵ１１はフレームメモリ
１０に記憶されたデジタルデータを走査コイル３による
試料６上の走査と同期させてＣＲＴ１２に表示する。こ
れにより、試料６の二次電子像または反射電子像などを
得ることができる。
（図示せず）により、必要な真空度に達している電子銃
１から放射された電子線は、コンデンサレンズ２、走査
コイル３および対物レンズ４を通り、集束されて試料６
上に走査され、試料６から二次電子または反射電子など
の電子を発生させる。この試料６から発生した電子は検
出器７により検出される。例えばＥＳＥＭの場合であれ
ば、検出器７には正電圧が印加されており、それによっ
て生じる電場により試料６で発生した電子が検出器７に
向かって飛ぶので、検出器７は試料６で発生した二次電
子や反射電子などの電子を捕獲し、検出することができ
る。この検出器７で検出した試料６で発生した二次電子
や反射電子などの信号は、増幅器８で増幅され、Ａ／Ｄ
コンバータ９でデジタルデータに変換されて、フレーム
メモリ１０に記憶される。ＣＰＵ１１はフレームメモリ
１０に記憶されたデジタルデータを走査コイル３による
試料６上の走査と同期させてＣＲＴ１２に表示する。こ
れにより、試料６の二次電子像または反射電子像などを
得ることができる。
【００２０】試料６の表面の観察点上に照射される電子
線の焦点が合っていない場合は、得られる二次電子像や
反射電子像は不鮮明になってしまう。また、焦点が合っ
ていたとしても、操作卓２２からの入力によりＸ−Ｙ−
Ｚステージ５を平面方向（Ｘ軸およびＹ軸方向）に移動
させて試料６における電子線が照射され観察が行われる
観察点の位置を移動させれば、試料の凹凸、Ｘ−Ｙ−Ｚ
ステージ５の平面度の悪さ、あるいはＸ−Ｙ−Ｚステー
ジ５のＸ−Ｙ面と試料表面とが平行となっていないこと
などにより、対物レンズから試料６の表面の観察点まで
の距離が変わってしまうので、電子線の焦点は試料６の
表面には合わなくなり、焦点がぼけてしまう。このた
め、得られる試料６の二次電子像や反射電子像も不鮮明
となってしまう。
線の焦点が合っていない場合は、得られる二次電子像や
反射電子像は不鮮明になってしまう。また、焦点が合っ
ていたとしても、操作卓２２からの入力によりＸ−Ｙ−
Ｚステージ５を平面方向（Ｘ軸およびＹ軸方向）に移動
させて試料６における電子線が照射され観察が行われる
観察点の位置を移動させれば、試料の凹凸、Ｘ−Ｙ−Ｚ
ステージ５の平面度の悪さ、あるいはＸ−Ｙ−Ｚステー
ジ５のＸ−Ｙ面と試料表面とが平行となっていないこと
などにより、対物レンズから試料６の表面の観察点まで
の距離が変わってしまうので、電子線の焦点は試料６の
表面には合わなくなり、焦点がぼけてしまう。このた
め、得られる試料６の二次電子像や反射電子像も不鮮明
となってしまう。
【００２１】本実施形態の走査電子顕微鏡においては、
試料表面に電子線の焦点が合うよう、試料をＺ軸方向に
動かすことにより、自動焦点合わせが行われる。ＣＰＵ
１１はフレームメモリ１０に記憶されているデジタルデ
ータから試料６の二次電子像または反射電子像のコント
ラスト信号の大きさまたは絶対値、あるいはパターンエ
ッジ信号の傾きをなど検出し、それがより大きくなりま
たは最も大きくなり二次電子像または反射電子像がより
シャープで鮮明になるように、ステージ駆動回路２１に
よりＸ−Ｙ−Ｚステージ５を照射される電子線と平行な
Ｚ軸方向すなわち上下方向に駆動し、試料６を上下方向
に動かして位置決めする。これにより、試料６の表面の
観察点を、電子線の焦点が合い鮮明な二次電子像または
反射電子像が得られる最適の高さ位置に配置させること
ができる。またＸ−Ｙ−Ｚステージ５を平面方向に駆動
して試料６を移動させても、試料６の表面の観察点は常
に電子線の焦点が合った最適の高さ位置に配置すること
ができ、すなわち対物レンズから試料６の観察点までの
距離を一定に保つことができ、常に鮮明な二次電子像や
反射電子像を得ることが可能となる。このような試料を
Ｚ軸方向に移動することにより行われる自動焦点合わせ
は、操作卓２２の自動焦点合わせボタンの入力の度に行
われるが、常時自動焦点合わせが行われている状態とす
ることもできる。
試料表面に電子線の焦点が合うよう、試料をＺ軸方向に
動かすことにより、自動焦点合わせが行われる。ＣＰＵ
１１はフレームメモリ１０に記憶されているデジタルデ
ータから試料６の二次電子像または反射電子像のコント
ラスト信号の大きさまたは絶対値、あるいはパターンエ
ッジ信号の傾きをなど検出し、それがより大きくなりま
たは最も大きくなり二次電子像または反射電子像がより
シャープで鮮明になるように、ステージ駆動回路２１に
よりＸ−Ｙ−Ｚステージ５を照射される電子線と平行な
Ｚ軸方向すなわち上下方向に駆動し、試料６を上下方向
に動かして位置決めする。これにより、試料６の表面の
観察点を、電子線の焦点が合い鮮明な二次電子像または
反射電子像が得られる最適の高さ位置に配置させること
ができる。またＸ−Ｙ−Ｚステージ５を平面方向に駆動
して試料６を移動させても、試料６の表面の観察点は常
に電子線の焦点が合った最適の高さ位置に配置すること
ができ、すなわち対物レンズから試料６の観察点までの
距離を一定に保つことができ、常に鮮明な二次電子像や
反射電子像を得ることが可能となる。このような試料を
Ｚ軸方向に移動することにより行われる自動焦点合わせ
は、操作卓２２の自動焦点合わせボタンの入力の度に行
われるが、常時自動焦点合わせが行われている状態とす
ることもできる。
【００２２】また、光斜入射方式のＺセンサ２０によ
り、電子線が照射されている試料６の表面の観察点の上
下方向の高さ位置を検出し、この高さ位置の情報に基づ
いて試料６の観察点の高さ位置が所定の高さ位置となる
ように、ＣＰＵ１１がステージ駆動回路２１によりＸ−
Ｙ−Ｚステージ５を上下方向に駆動、制御して試料６を
上下方向に移動させることもできる。あらかじめ試料６
の表面の観察点への焦点合わせを行い、このときの観察
点の高さ位置を前述の所定の高さ位置とし、常に試料の
表面の観察点がこの所定の高さ位置にあるようにＸ−Ｙ
−Ｚステージ５を上下方向に駆動、制御することで自動
焦点合わせを行えば、操作卓２２からの操作などにより
Ｘ−Ｙ−Ｚステージ５を平面方向に駆動して試料６にお
ける観察が行われる領域を変えても、対物レンズから試
料６の表面の観察点までの距離は自動的に一定に保たれ
るので、常に試料６の表面の観察点に電子線の焦点を合
わせることができる。あるいは、電子線の焦点が合う高
さ位置が例えば対物レンズ４の励磁の設定値などからあ
らかじめ分かる場合は、この高さ位置を前述の所定の高
さ位置とし、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ５を上下方向に駆動、
制御することにより自動焦点合わせを行ってもよい。
り、電子線が照射されている試料６の表面の観察点の上
下方向の高さ位置を検出し、この高さ位置の情報に基づ
いて試料６の観察点の高さ位置が所定の高さ位置となる
ように、ＣＰＵ１１がステージ駆動回路２１によりＸ−
Ｙ−Ｚステージ５を上下方向に駆動、制御して試料６を
上下方向に移動させることもできる。あらかじめ試料６
の表面の観察点への焦点合わせを行い、このときの観察
点の高さ位置を前述の所定の高さ位置とし、常に試料の
表面の観察点がこの所定の高さ位置にあるようにＸ−Ｙ
−Ｚステージ５を上下方向に駆動、制御することで自動
焦点合わせを行えば、操作卓２２からの操作などにより
Ｘ−Ｙ−Ｚステージ５を平面方向に駆動して試料６にお
ける観察が行われる領域を変えても、対物レンズから試
料６の表面の観察点までの距離は自動的に一定に保たれ
るので、常に試料６の表面の観察点に電子線の焦点を合
わせることができる。あるいは、電子線の焦点が合う高
さ位置が例えば対物レンズ４の励磁の設定値などからあ
らかじめ分かる場合は、この高さ位置を前述の所定の高
さ位置とし、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ５を上下方向に駆動、
制御することにより自動焦点合わせを行ってもよい。
【００２３】また、別の実施形態では、まず前述の従来
の自動焦点合わせ装置のように対物レンズ４の励磁を変
えて焦点距離を調整して試料６の表面への電子線の焦点
合わせを行う。この調整前後の対物レンズ４の励磁の変
化量を、ＣＰＵ１１があらかじめ準備しておいたソフト
またはテーブルなどに基づいて、対応する焦点距離の変
化量すなわち焦点が合う位置のＺ軸方向の変化量に換算
する。ＣＰＵ１１は、対物レンズ４の励磁を元の値にも
どすとともにその戻した励磁の分、換算した焦点が合う
位置のＺ軸方向の変化量に対応する距離だけ、Ｘ−Ｙ−
Ｚステージ５をステージ駆動回路２１によりＺ軸方向に
駆動し、試料６の高さ位置を調整する。これにより、焦
点合わせの前後での対物レンズ４の焦点距離は同じまま
で、電子線の焦点が合った位置へ試料６の表面の観察点
を位置させることができる。Ｘ−Ｙ−Ｚステージ５を平
面方向に駆動して試料６において観察が行われる領域を
変えても、対物レンズから観察点までの距離を一定に保
つこともできる。
の自動焦点合わせ装置のように対物レンズ４の励磁を変
えて焦点距離を調整して試料６の表面への電子線の焦点
合わせを行う。この調整前後の対物レンズ４の励磁の変
化量を、ＣＰＵ１１があらかじめ準備しておいたソフト
またはテーブルなどに基づいて、対応する焦点距離の変
化量すなわち焦点が合う位置のＺ軸方向の変化量に換算
する。ＣＰＵ１１は、対物レンズ４の励磁を元の値にも
どすとともにその戻した励磁の分、換算した焦点が合う
位置のＺ軸方向の変化量に対応する距離だけ、Ｘ−Ｙ−
Ｚステージ５をステージ駆動回路２１によりＺ軸方向に
駆動し、試料６の高さ位置を調整する。これにより、焦
点合わせの前後での対物レンズ４の焦点距離は同じまま
で、電子線の焦点が合った位置へ試料６の表面の観察点
を位置させることができる。Ｘ−Ｙ−Ｚステージ５を平
面方向に駆動して試料６において観察が行われる領域を
変えても、対物レンズから観察点までの距離を一定に保
つこともできる。
【００２４】以上具体的な実施形態をあげたが、本発明
は対物レンズから試料表面の観察点までの距離を最適に
しまたは一定に保つことにより焦点を合わせる構成であ
ればよく、前述の実施形態には限定されない。また、本
発明の走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ装置は低真空の
ＳＥＭあるいはＥＳＥＭに限定されるものではなく、他
の一般的なＳＥＭに用いることもできる。
は対物レンズから試料表面の観察点までの距離を最適に
しまたは一定に保つことにより焦点を合わせる構成であ
ればよく、前述の実施形態には限定されない。また、本
発明の走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ装置は低真空の
ＳＥＭあるいはＥＳＥＭに限定されるものではなく、他
の一般的なＳＥＭに用いることもできる。
【００２５】
【発明の効果】以上のように、本発明の走査電子顕微鏡
の自動焦点合わせ装置によれば、試料の凹凸などによら
ず常に対物レンズと試料表面の観察点の距離が一定とな
るので、自動焦点合わせを行っても最適かつ一定の分解
能で試料の観察を行うことができる。
の自動焦点合わせ装置によれば、試料の凹凸などによら
ず常に対物レンズと試料表面の観察点の距離が一定とな
るので、自動焦点合わせを行っても最適かつ一定の分解
能で試料の観察を行うことができる。
【００２６】また、本発明の走査電子顕微鏡の自動焦点
合わせ装置を、試料に照射された電子ビームが一定ガス
圧に制御された試料室内を通過する低真空のＳＥＭなど
に用いれば、試料表面上の観察点の上下方向の位置は一
定の状態で観察できるので、自動焦点合わせを行っても
照射電子線のガスなどによる散乱量が変わることはな
く、最適かつ一定のＳ／Ｎ比の画質で試料を観察するこ
とができる。
合わせ装置を、試料に照射された電子ビームが一定ガス
圧に制御された試料室内を通過する低真空のＳＥＭなど
に用いれば、試料表面上の観察点の上下方向の位置は一
定の状態で観察できるので、自動焦点合わせを行っても
照射電子線のガスなどによる散乱量が変わることはな
く、最適かつ一定のＳ／Ｎ比の画質で試料を観察するこ
とができる。
【００２７】更に、本発明の走査電子顕微鏡の自動焦点
合わせ装置を、試料室内が一定ガス圧に制御されこのガ
ス分子が二次電子信号や反射電子信号などの検出媒体に
使用される環境制御型走査電子顕微鏡などに用いれば、
試料表面上の観察点の上下方向の位置が一定の状態で観
察できるので、照射電子線のガスなどによる散乱量を一
定にでき、その上二次電子または反射電子信号の検出器
電極と試料の観察点との距離や位置関係も最適かつ一定
の値に保たれるので、適正かつ一定の信号増幅量で試料
の観察を行うことができる。
合わせ装置を、試料室内が一定ガス圧に制御されこのガ
ス分子が二次電子信号や反射電子信号などの検出媒体に
使用される環境制御型走査電子顕微鏡などに用いれば、
試料表面上の観察点の上下方向の位置が一定の状態で観
察できるので、照射電子線のガスなどによる散乱量を一
定にでき、その上二次電子または反射電子信号の検出器
電極と試料の観察点との距離や位置関係も最適かつ一定
の値に保たれるので、適正かつ一定の信号増幅量で試料
の観察を行うことができる。
【図１】本発明の一実施形態に係る走査電子顕微鏡の自
動焦点合わせ装置を備えた走査電子顕微鏡の構成を示す
概略図である。
動焦点合わせ装置を備えた走査電子顕微鏡の構成を示す
概略図である。
１ 電子銃 ２ コンデンサレンズ ３ 走査コイル ４ 対物レンズ ５ Ｘ−Ｙ−Ｚステージ ６ 試料 ７ 検出器 ８ 増幅器 ９ Ａ／Ｄコンバータ １０ フレームメモリ １１ ＣＰＵ １２ ＣＲＴ １３ 電子光学系駆動回路 ２０ Ｚセンサ ２１ ステージ駆動回路 ２２ 操作卓
Claims (7)
- 【請求項１】 電子線を試料表面上に集束しかつ走査
し、それによって試料から発生した電子を検出器に受け
て画像信号とする走査電子顕微鏡において、 前記試料を配置し、かつＸ軸、Ｙ軸および前記試料に照
射される電子線と実質的に平行なＺ軸の３軸方向に移動
可能な試料配置台と、 前記電子線が集束する位置に前記試料表面が位置するよ
うに前記試料配置台を少なくとも前記Ｚ軸方向に移動制
御する制御手段と、 を具備することを特徴とする走査電子顕微鏡の自動焦点
合わせ装置。 - 【請求項２】 電子線を試料表面上に集束しかつ走査
し、それによって試料から発生した電子を検出器に受け
て画像信号とする走査電子顕微鏡において、 前記試料を配置し、かつＸ軸、Ｙ軸および前記試料に照
射される電子線と実質的に平行なＺ軸の３軸方向に移動
可能な試料配置台と、 前記画像信号のコントラスト信号の大きさまたはパター
ンエッジ信号の傾きを検出し、前記コントラスト信号の
大きさまたはパターンエッジ信号の傾きが大きくなるよ
うに前記試料配置台を少なくとも前記Ｚ軸方向に移動制
御する制御手段と、 を具備することを特徴とする走査電子顕微鏡の自動焦点
合わせ装置。 - 【請求項３】 電子線を試料表面上に集束しかつ走査
し、それによって試料から発生した電子を検出器に受け
て画像信号とする走査電子顕微鏡において、前記試料を
配置し、かつＸ軸、Ｙ軸および前記試料に照射される電
子線と実質的に平行なＺ軸の３軸方向に移動可能な試料
配置台と、 前記試料の電子線が照射されている観察点のＺ軸方向の
高さ位置を検知するセンサと、 前記センサで検知した前記観察点のＺ軸方向の高さ位置
の情報に基づき前記観察点のＺ軸方向の高さ位置が所定
の高さ位置となるように前記試料配置台を少なくともＺ
軸方向に移動制御する制御手段と、 を具備することを特徴とする走査電子顕微鏡の自動焦点
合わせ装置。 - 【請求項４】 電子銃から放射した電子線をコンデンサ
レンズおよび対物レンズで試料表面上に集束しかつ偏向
コイルで走査し、それによって試料から発生した電子を
検出器に受けて画像信号とする走査電子顕微鏡におい
て、 前記試料を配置し、かつＸ軸、Ｙ軸および前記試料に照
射される電子線と実質的に平行なＺ軸の３軸方向に移動
可能な試料配置台と、 前記試料表面上に電子線が集束するように前記対物レン
ズの励磁を変化させる制御手段と、 前記制御手段により変化された前記対物レンズの励磁の
変化量を対応する前記対物レンズの焦点距離のＺ軸方向
の変化量に換算する変換手段と、 前記対物レンズの励磁を前記制御手段により変化させる
前の状態に戻すとともに、前記試料配置台をＺ軸方向に
前記変換手段で換算された前記対物レンズの焦点距離の
Ｚ軸方向の変化量に対応する距離だけ移動させる変換制
御手段と、 を具備することを特徴とする走査電子顕微鏡の自動焦点
合わせ装置。 - 【請求項５】 電子銃から放射した電子線をコンデンサ
レンズおよび対物レンズで試料表面上に集束しかつ偏向
コイルで走査し、それによって試料から発生した電子を
検出器に受けて画像信号とする走査電子顕微鏡におい
て、 前記試料を配置し、かつＸ軸、Ｙ軸および前記試料に照
射される電子線と実質的に平行なＺ軸の３軸方向に移動
可能な試料配置台と、 前記画像信号のコントラスト信号の大きさまたはパター
ンエッジ信号の傾きを検出し、前記コントラスト信号の
大きさまたはパターンエッジ信号の傾きが大きくなるよ
うに前記対物レンズの励磁を変化させる制御手段と、 前記制御手段により変化された前記対物レンズの励磁の
変化量を対応する前記対物レンズの焦点距離のＺ軸方向
の変化量に換算する変換手段と、 前記対物レンズの励磁を前記制御手段により変化させる
前の状態に戻すとともに、前記試料配置台をＺ軸方向に
前記変換手段で換算された前記対物レンズの焦点距離の
Ｚ軸方向の変化量に対応する距離だけ移動させる変換制
御手段と、 を具備することを特徴とする走査電子顕微鏡の自動焦点
合わせ装置。 - 【請求項６】 前記試料から発生した電子が二次電子ま
たは反射電子であることを特徴とする請求項１ないし５
のいずれか１項に記載の走査電子顕微鏡の自動焦点合わ
せ装置。 - 【請求項７】 電子線を試料表面上に集束しかつ走査
し、それによって試料から発生した電子を検出器に受け
て画像信号とする走査電子顕微鏡において、前記電子線
が集束する位置に前記試料表面が位置するように前記試
料を前記試料に照射される電子線と実質的に平行な方向
に移動制御することを特徴とする走査電子顕微鏡の自動
焦点合わせ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9252828A JPH1186769A (ja) | 1997-09-02 | 1997-09-02 | 走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ装置および方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9252828A JPH1186769A (ja) | 1997-09-02 | 1997-09-02 | 走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ装置および方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1186769A true JPH1186769A (ja) | 1999-03-30 |
Family
ID=17242780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9252828A Pending JPH1186769A (ja) | 1997-09-02 | 1997-09-02 | 走査電子顕微鏡の自動焦点合わせ装置および方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1186769A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013088944A1 (ja) * | 2011-12-13 | 2013-06-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子線装置およびそれを用いた寸法計測方法 |
-
1997
- 1997-09-02 JP JP9252828A patent/JPH1186769A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013088944A1 (ja) * | 2011-12-13 | 2013-06-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子線装置およびそれを用いた寸法計測方法 |
| JP2013125583A (ja) * | 2011-12-13 | 2013-06-24 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査電子線装置およびそれを用いた寸法計測方法 |
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